镀膜系统及基板处理方法技术方案

本发明专利技术提供一种镀膜系统及基板处理方法。镀膜系统包括镀膜腔室、基板承载装置、抽气装置及清洁装置；基板承载装置位于镀膜腔室内，用于承载基板；抽气装置与镀膜腔室相连通，以对镀膜腔室进行抽气操作；清洁装置用于在大气状态下于基板表面形成负压以对基板表面进行清洁，及/或在真空状态下向基板表面喷射清洁气体以对基板表面进行清洁。本发明专利技术利用负压吸附装置替代传统镀膜系统的吹拂式清洁装置，并且增加真空状态下的风枪清洁，能够使得清洁效果极大提升，从而帮助提高基板镀膜品质，提升生产良率，降低镀膜缺陷等；采用本发明专利技术的基板处理方法，能有效提高基板的清洁度，有利于生产良率提升，最终达到降低生产成本的目的。

【技术实现步骤摘要】
镀膜系统及基板处理方法
本专利技术涉及真空镀膜领域，特别是涉及一种镀膜系统及基板处理方法。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。由于其制得的薄膜具有纯度高、密实性好、表面光亮等优点，因而真空镀膜技术得到越来越广泛的应用。在镀膜工艺中，镀膜环境的清洁度是决定产品良率的关键，保证镀膜环境处于高清洁状态是避免产品膜层缺陷的有效手段。因此镀膜工艺开始前对基板进行清洁和对镀膜腔室进行清洁至关重要。镀膜工艺开始前，基板被从大气环境中装载到镀膜腔室内，在这个装载过程中，基板会吸附大量的灰尘颗粒，因而需要对基板进行清洁。常规方法中都是仅在大气环境下采用洁净的风枪对基板表面进行吹拂以把灰尘颗粒从基板表面清除掉，这种方法存在不少问题，比如：1、吹拂基板时气流会把镀膜腔室内吸附的灰尘颗粒重新扰动漂浮在空气中，导致基板可能会沉积吸附更多更小的灰尘。2、部分灰尘颗粒被高速气流带入到基板载具的缝隙里面，有可能掉落出来重新被基板吸附。3、风枪中的气体和空气中如有颗粒水汽等杂质，会对基板造成二次污染。4、镀膜腔室关闭后，对镀膜腔室进行抽气时，由于镀膜腔室内粘附有大量的灰尘粒子，在对镀膜腔室抽气的初始阶段，镀膜腔室内的气体涡旋扰动导致扬尘，使基板重新吸附了灰尘导致产品缺陷多。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种镀膜系统及基板处理方法，用于解决现有技术中对基板表面进行吹拂清洁的过程中，气流把镀膜腔室内吸附的灰尘颗粒重新扰动漂浮在空气中，导致基板可能会沉积吸附更多更小的灰尘的二次污染等问题，以及镀膜腔室关闭后，对镀膜腔室进行抽气时，由于镀膜腔室内粘附有大量的灰尘粒子，在对镀膜腔室抽气的初始阶段，镀膜腔室内的气体涡旋扰动导致扬尘，使基板重新吸附了灰尘，最终导致镀膜品质下降，生产良率降低等问题。为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种镀膜系统，所述镀膜系统包括镀膜腔室、基板承载装置、抽气装置及清洁装置；所述基板承载装置位于所述镀膜腔室内，用于承载基板；所述抽气装置与所述镀膜腔室相连通，以对所述镀膜腔室进行抽气操作；所述清洁装置用于在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行清洁，及/或在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体以对所述基板表面进行清洁。优选地，所述清洁装置包括负压吸附装置，所述负压吸附装置用于在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行清洁。优选地，所述负压吸附装置包括抽气泵以及和所述抽气泵相连接的负压吸附管。优选地，所述负压吸附管的管口直径介于0.5～10cm之间。优选地，所述镀膜系统包括粒子计数器，所述粒子计数器与所述负压吸附装置相连接，用于在所述负压吸附装置对所述基板表面进行清洁的过程中，对所述负压吸附装置内的粒子数量进行计量。优选地，所述清洁装置还包括风枪，所述风枪的出气口位于所述镀膜腔室内，且朝向所述基板，以在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体，以对所述基板表面进行清洁。优选地，所述风枪为离子风枪。在另一优选方案中，所述清洁装置仅包括风枪，所述风枪的出气口位于所述镀膜腔室内，且朝向所述基板，以在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体，以对所述基板表面进行清洁，且优选地，所述风枪为离子风枪。优选地，所述基板承载装置包括旋转支架和基板载具，其中，所述旋转支架的一端与所述镀膜腔室的顶壁相连接，另一端与所述基板载具相连接。优选地，所述基板载具与所述旋转支架活动连接。本专利技术还提供一种基板处理方法，所述基板处理方法包括步骤：1)将待处理的基板装载于基板承载装置上并使镀膜腔室处于非密闭状态；2)在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行负压清洁。优选地，所述步骤2)之后还包括如下步骤：3)使所述镀膜腔室处于密闭状态并对所述镀膜腔室进行抽气至第一真空度；4)在第一真空度状态下向所述基板表面喷射清洁气体，以对所述基板表面进行清洁。优选地，所述第一真空度不高于1000Pa。优选地，所述步骤2)中，对所述基板进行负压清洁的时间为2～10分钟；所述步骤4)中，对所述基板进行清洁的时间为2～10分钟。如上所述，本专利技术的镀膜系统及基板处理方法，具有以下有益效果：本专利技术的镀膜系统，通过改善的清洁装置，能够有效解决吹拂式清洁方式下镀膜腔室内吸附的灰尘颗粒被重新扰动漂浮在空气中导致的基板二次污染和镀膜腔室内的污染、以及颗粒水汽等杂质对基板造成的新污染等问题；利用增加的清洁装置对基板进行真空环境下的二度清洁，能够进一步提高基板表面和镀膜腔室内的清洁度，使得清洁效果极大提升，从而帮助提高基板镀膜品质，提升生产良率，降低镀膜缺陷；采用本专利技术的基板处理方法，能有效提高基板的清洁度，有利于生产良率提升，最终达到降低生产成本的目的。附图说明图1显示为本专利技术的带负压吸附装置的镀膜系统的结构示意图。图2显示为本专利技术的带风枪的镀膜系统的结构示意图。元件标号说明1镀膜腔室2基板承载装置20基板21旋转支架22基板载具3抽气装置41负压吸附装置411抽气泵412负压吸附管42风枪421导风装置43粒子计数器具体实施方式以下由特定的具体实施例说明本专利技术的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点及功效。请参阅图1至图2。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本专利技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本专利技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本专利技术所揭示的
技术实现思路
所能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本专利技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质
技术实现思路
的变更下，当亦视为本专利技术可实施的范畴。如图1及图2所示，本专利技术提供一种镀膜系统，所述镀膜系统包括镀膜腔室1、基板承载装置2、抽气装置3及清洁装置；所述基板承载装置2位于所述镀膜腔室1内，用于承载基板20；所述抽气装置3与所述镀膜腔室1相连通，以对所述镀膜腔室1进行抽气操作；所述清洁装置用于在大气状态下于所述基板20表面形成负压以对所述基板20表面进行清洁，及/或在真空状态下向所述基板20表面喷射清洁气体以对所述基板20表面进行清洁。如图1所示，作为示例，所述镀膜腔室1可以是圆柱形，本实施例中优选四方体腔室。所述清洁装置包括负压吸附装置41，所述负压吸附装置41用于在大气状态下于所述基板20表面形成负压以对所述基板20表面进行清洁。所述负压吸附装置41包括抽气泵411以及和所述抽气泵411相连接的负压吸附管412。利用所述负压吸附装置41，可以将带有灰尘颗粒的气流带出所述镀膜腔室1，能够避免传统吹拂式清洁方法下容易在所述镀膜腔室1内形成湍流，导致所述镀膜腔室1内吸附的灰尘颗粒重新扰动漂浮在空气中，导致所述基板20表面和所述镀膜腔室1内可能会沉积吸附更多更小的灰尘，以及灰尘颗粒进入到所述基板承载装置2内造成污染等问题，而且不用担心原有方式的吹拂气流中带有的颗粒及水汽杂质给所述基板20本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜系统，其特征在于，包括：镀膜腔室；基板承载装置，所述基板承载装置位于所述镀膜腔室内，用于承载基板；抽气装置，所述抽气装置与所述镀膜腔室相连通，以对所述镀膜腔室进行抽气操作；及，清洁装置，用于在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行清洁，及/或在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体以对所述基板表面进行清洁。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜系统，其特征在于，包括：镀膜腔室；基板承载装置，所述基板承载装置位于所述镀膜腔室内，用于承载基板；抽气装置，所述抽气装置与所述镀膜腔室相连通，以对所述镀膜腔室进行抽气操作；及，清洁装置，用于在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行清洁，及/或在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体以对所述基板表面进行清洁。2.根据权利要求1所述的镀膜系统，其特征在于：所述清洁装置包括负压吸附装置，所述负压吸附装置用于在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行清洁。3.根据权利要求2所述的镀膜系统，其特征在于：所述负压吸附装置包括抽气泵以及和所述抽气泵相连接的负压吸附管。4.根据权利要求3所述的镀膜系统，其特征在于：所述负压吸附管的管口直径介于0.5～10cm之间。5.根据权利要求2所述的镀膜系统，其特征在于：所述镀膜系统包括粒子计数器，所述粒子计数器与所述负压吸附装置相连接，用于在所述负压吸附装置对所述基板表面进行清洁的过程中，对所述负压吸附装置内的粒子数量进行计量。6.根据权利要求2至5任一项所述的镀膜系统，其特征在于：所述清洁装置还包括风枪，所述风枪的出气口位于所述镀膜腔室内，且朝向所述基板，所述风枪用于在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体，以对所述基板表面进行清洁。7.根据权利要求6所述的镀膜系统，其特征在于：所述风枪为离子风枪。8....

【专利技术属性】
技术研发人员：顾铁，程丙勋，钟良兆，何其军，
申请(专利权)人：奕瑞影像科技太仓有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32