镀膜系统及基板处理方法技术方案

本发明专利技术提供一种镀膜系统及基板处理方法。镀膜系统包括镀膜腔室、基板承载装置、抽气装置及清洁装置；基板承载装置位于镀膜腔室内，用于承载基板；抽气装置与镀膜腔室相连通，以对镀膜腔室进行抽气操作；清洁装置用于在大气状态下于基板表面形成负压以对基板表面进行清洁，及/或在真空状态下向基板表面喷射清洁气体以对基板表面进行清洁。本发明专利技术利用负压吸附装置替代传统镀膜系统的吹拂式清洁装置，并且增加真空状态下的风枪清洁，能够使得清洁效果极大提升，从而帮助提高基板镀膜品质，提升生产良率，降低镀膜缺陷等；采用本发明专利技术的基板处理方法，能有效提高基板的清洁度，有利于生产良率提升，最终达到降低生产成本的目的。

【技术实现步骤摘要】
镀膜系统及基板处理方法
本专利技术涉及真空镀膜领域，特别是涉及一种镀膜系统及基板处理方法。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。由于其制得的薄膜具有纯度高、密实性好、表面光亮等优点，因而真空镀膜技术得到越来越广泛的应用。在镀膜工艺中，镀膜环境的清洁度是决定产品良率的关键，保证镀膜环境处于高清洁状态是避免产品膜层缺陷的有效手段。因此镀膜工艺开始前对基板进行清洁和对镀膜腔室进行清洁至关重要。镀膜工艺开始前，基板被从大气环境中装载到镀膜腔室内，在这个装载过程中，基板会吸附大量的灰尘颗粒，因而需要对基板进行清洁。常规方法中都是仅在大气环境下采用洁净的风枪对基板表面进行吹拂以把灰尘颗粒从基板表面清除掉，这种方法存在不少问题，比如：1、吹拂基板时气流会把镀膜腔室内吸附的灰尘颗粒重新扰动漂浮在空气中，导致基板可能会沉积吸附更多更小的灰尘。2、部分灰尘颗粒被高速气流带入到基板载具的缝隙里面，有可能掉落出来重新被基板吸附。3、风枪中的气体和空气中如有颗粒水汽等杂质，会对基板造成二次污染。4、镀膜腔室关闭后，对本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜系统，其特征在于，包括：镀膜腔室；基板承载装置，所述基板承载装置位于所述镀膜腔室内，用于承载基板；抽气装置，所述抽气装置与所述镀膜腔室相连通，以对所述镀膜腔室进行抽气操作；及，清洁装置，用于在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行清洁，及/或在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体以对所述基板表面进行清洁。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜系统，其特征在于，包括：镀膜腔室；基板承载装置，所述基板承载装置位于所述镀膜腔室内，用于承载基板；抽气装置，所述抽气装置与所述镀膜腔室相连通，以对所述镀膜腔室进行抽气操作；及，清洁装置，用于在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行清洁，及/或在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体以对所述基板表面进行清洁。2.根据权利要求1所述的镀膜系统，其特征在于：所述清洁装置包括负压吸附装置，所述负压吸附装置用于在大气状态下于所述基板表面形成负压以对所述基板表面进行清洁。3.根据权利要求2所述的镀膜系统，其特征在于：所述负压吸附装置包括抽气泵以及和所述抽气泵相连接的负压吸附管。4.根据权利要求3所述的镀膜系统，其特征在于：所述负压吸附管的管口直径介于0.5～10cm之间。5.根据权利要求2所述的镀膜系统，其特征在于：所述镀膜系统包括粒子计数器，所述粒子计数器与所述负压吸附装置相连接，用于在所述负压吸附装置对所述基板表面进行清洁的过程中，对所述负压吸附装置内的粒子数量进行计量。6.根据权利要求2至5任一项所述的镀膜系统，其特征在于：所述清洁装置还包括风枪，所述风枪的出气口位于所述镀膜腔室内，且朝向所述基板，所述风枪用于在真空状态下向所述基板表面喷射清洁气体，以对所述基板表面进行清洁。7.根据权利要求6所述的镀膜系统，其特征在于：所述风枪为离子风枪。8....

【专利技术属性】
技术研发人员：顾铁，程丙勋，钟良兆，何其军，
申请(专利权)人：奕瑞影像科技太仓有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32