加工平版印刷版的方法技术

一种加工平版印刷版的方法，该方法包括用碱性溶液显影，并用第一胶溶液并连贯地用第二胶溶液施胶，其中两种胶溶液以级联配置提供，由此第二胶溶液溢出到第一胶溶液中，并且其中版材包括具有亲水表面的铝载体，所述亲水表面包含大于2.0g/m

Method of Processing Lithographic Plate

A method of processing lithographic plate includes developing with alkaline solution, sizing with the first glue solution and consistently sizing with the second glue solution, two of which are provided in a cascade configuration, from which the second glue solution spills into the first glue solution, and the plate includes an aluminium carrier with a hydrophilic surface, as described above. Hydrophilic surface contains more than 2.0g/m

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】加工平版印刷版的方法专利
本专利技术涉及加工平版印刷版的方法，其具有减少的加工液消耗。专利技术背景平版印刷通常涉及使用所谓的印刷母版如印刷版，其安装在旋转印刷机的滚筒上。母版在其表面上带有平版图像并通过将油墨施加到所述图像上然后将油墨从母版转移到接受材料(其通常是纸)上来获得印刷品。在常规的平版印刷中，将油墨以及润版水溶液(也称作润版液)供应到由亲油(或疏水，即受墨、拒水)区以及亲水(或疏油，即受水，拒墨)区构成的平版图像上。这些区也可分别被称作印刷区和非印刷区，或者图像区和非图像区。在所谓的无水胶印印刷中，平版图像由受墨和憎墨(拒墨)区构成，并在无水胶印期间，对母版仅供应油墨。平版印刷母版通常通过印刷版前体(以下称为“版材”或简称为“版”)的依图像(image-wise)暴露和加工来获得，所述印刷版前体在基材上含有热敏或光敏涂层。通常通过数字调制的暴露设备如激光器将版材的涂层依图像暴露于热或光，其引发(物理)化学过程，如消融，聚合，通过聚合物的交联或热塑性聚合物胶乳的颗粒凝聚而不溶化，通过破坏分子间相互作用或通过增加显影阻挡层的渗透性而增溶。虽然一些版材能够在暴露后立即产生平版图像，但是最常用的版材需要用显影剂进行湿加工，因为暴露会在涂层的暴露区和未暴露区之间产生显影剂溶解度或溶解速率的差异。在阳图制版的版材中，涂层的暴露区溶解在显影剂中，而未暴露区保持对显影剂的抗性。在阴图制版的版材中，涂层的未暴露区溶解在显影剂中，而暴露区保持对显影剂的抗性。大多数版材在亲水性基材上含有疏水性涂层，使得对显影剂保持抗性的区域限定版的受墨、印刷区，而亲水性基材通过在非印刷区处将涂层溶解于显影剂而显露。按照惯例，版材通过在其穿过加工设备时将其浸入显影剂或用显影剂喷洒来显影。通常，经过一段时间或用显影剂处理后，该材料也用例如一个或多个旋转刷或专用的辊进行机械摩擦。在加工期间，显影剂变得加载有在显影期间被去除的涂层成分，且随着更多的版被显影，显影剂中的材料量增加。由于显影剂中溶解的材料的量增加，显影剂的活性降低，导致去除平版图像的非印刷区的能力降低。显影后，通常用水冲洗版以去除任何剩余的显影剂，然后施胶，这有时也称为修版或脱敏。施胶包括在平版图像、特别是非印刷区上施加保护涂层，以避免铝基材的污染或氧化。胶溶液可以通过例如EP1524113中所公开的浸渍、喷洒或喷射来施加。EP1696274公开了光敏平版印刷版前体的自动显影方法，其使用碱性显影加工溶液，随后用胶溶液处理。WO2007/057347公开了制造平版印刷版的方法，其中在包含两个或更多个具有级联系统配置的预洗单元的预洗站中洗涤前体，由此，用于在第一预洗单元和第二预洗单元中洗涤前体的洗涤液分别存在于第一槽和第二槽中，并且由此，当在第二预洗单元中添加新鲜水时，第二槽的洗涤液溢出到第一槽。平版制版中的一个重要趋势涉及生态学和可持续性。能够低消耗加工液体如显影剂、冲洗水和/或胶溶液，或者允许用不包含有害化学物质和/或pH接近7的水性显影剂(中性显影剂)加工的系统和方法在市场上很受关注。一种变得流行的便利方法涉及使用胶溶液作为显影剂，由此在单个步骤中使版显影和施胶。然而，这些方法只能用于特殊设计的版，其具有在胶溶液中充分可溶解或可分散的平版印刷涂层，从而获得良好的清除(在图像的非印刷区完全除去涂层)。高碱性显影剂可能对铝载体具有侵蚀性，更特别地是对粒化和阳极化铝载体的亲水表面具有侵蚀性，并且易于形成所谓的“氧化”或“浮渣”斑点。这些斑点在本领域中也称为“赝象”，可以在非图像区接受油墨(即调色)。当使用不含硅酸盐的显影剂时，和/或当印刷期间使用氧化类型的油墨时，和/或当润版/冲洗水中的氯离子水平高时，这种氧化斑点的形成甚至更明显。专利技术概述本专利技术的一个目的是提供用碱性显影剂加工平版印刷版材的方法，其能够减少加工液如显影剂和/或胶溶液的消耗，和/或减少加工期间产生的废液的量。本专利技术的另一个目的是提供一种制备平版印刷版前体的方法，由此减少或甚至防止氧化斑点的形成。这些目的通过独立权利要求中限定的方法实现，其中优选的实施方案在从属权利要求中限定。本专利技术具有以下具体特征：印刷版材用碱性显影溶液显影，接着用胶溶液进行在包含第一胶溶液的第一施胶单元中进行和随后在包含第二胶溶液的第二施胶单元中进行的两次处理，其中两个施胶单元被配置为级联，即其中第二胶溶液溢出到第一胶溶液中的配置。另外，发现了当铝载体具有包含大于2.0g/m2的氧化铝的亲水表面时，在碱性溶液中暴露和显影之后，版材的粒化和阳极化铝载体表面上氧化斑点的出现显著减少和/或甚至防止。由于存在于第一施胶单元中的液体充当冲洗和/或中和液，因此本专利技术的方法在版的显影和施胶之间不需要冲洗步骤。碱性显影剂和由于许多版的先前显影而存在于其中的版涂层成分，可以与被加工版一起拖入第一胶溶液中；但是，胶溶液的这种污染不会影响被加工版的品质，因为随后在第二施胶单元中用新鲜的胶溶液处理该版。总之，本专利技术的方法提供了消耗少量加工液并因此仅产生少量废液的主要优点。因此，本专利技术不仅便利且具有成本效益，而且从环境角度来看也是有利的。该方法可以用于加工任何类型的印刷版，阴图制版以及阳图制版。优选阳图制版印刷版。根据下文的描述，本专利技术的其他目的将变得显而易见。附图简述图1是设备的一个优选实施方案的示意性图示，示出为其填充有显影剂和胶溶液。图2a是沿加工方向观察的显影腔的更详细图示。图2b是沿垂直于加工方向的方向观察的显影腔的更详细图示。图3a和3b是设置在显影腔的底板上的突出元件(肋条)的示意性图示。图4是突出元件的合适形状的示意性横截面。图中的数字指的是优选的设备的以下特征：1显影区段2施胶区段3第一施胶单元4第二施胶单元5显影单元6显影腔7盖板8入口孔9出口孔10底板，包括第一部分(10A)，第二部分(10B)和弯曲(10C)11辊对：11A和11B(显影区段)；11C,11D,11E和11F(施胶区段)；和11G(干燥区段)。12显影溶液13清除辊14刷15喷杆15B,15C和15D16第一胶贮槽16A和第二胶贮槽16B17级联溢出18排出管19干燥区段20突出元件21侧壁22侧壁23加工方向24干燥装置25第一胶溶液26第二胶溶液专利技术详述定义显影区段：设备的一部分，其包括显影单元，并且优选还有显影剂再循环系统和显影剂再生系统。施胶区段：设备的一部分，其包括施胶单元，并且优选还有胶再循环系统和胶再生系统。显影单元：设计成容纳显影溶液的容器，任选地包括夹辊等。新鲜(显影或施胶)溶液：尚未用于加工版材的溶液。施胶单元：设计成容纳胶溶液的容器，任选地包括夹辊、清除辊、刷(一个或多个)和/或用于将胶溶液供应到版的装置。(再)循环系统：包括必要的管道和泵(一个或多个)以产生显影剂或胶溶液的流的系统。再生系统：包括必要的管道和泵(一个或多个)以将再生剂液体供应到显影单元或施胶单元的系统。补充溶液：用于控制显影溶液或胶溶液的活性水平的再生剂液体。(再)启动：分别从显影单元或胶单元排出显影剂和/或胶溶液，然后分别用新鲜显影剂或新鲜胶溶液再填充显影单元和/或胶单元的过程(后一步骤单独来看被称为“启动”)。除非另有说明，否则溶液的参数值例如pH、密度、粘度、传导率等始终在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种加工平版印刷版材的方法，包括以下步骤：(i)用碱性显影溶液显影经暴露的前体，由此除去非图像区；(ii)用第一胶溶液并连贯地用第二胶溶液处理经显影的前体；其特征在于，第一胶溶液和第二胶溶液被配置为级联，由此第二胶溶液溢出到第一胶溶液中，并且其中版材包括具有亲水表面的铝载体，所述亲水表面包含大于2.0g/m2的氧化铝。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.16 EP 16160576.1;2016.03.16 EP 16160591.0;1.一种加工平版印刷版材的方法，包括以下步骤：(i)用碱性显影溶液显影经暴露的前体，由此除去非图像区；(ii)用第一胶溶液并连贯地用第二胶溶液处理经显影的前体；其特征在于，第一胶溶液和第二胶溶液被配置为级联，由此第二胶溶液溢出到第一胶溶液中，并且其中版材包括具有亲水表面的铝载体，所述亲水表面包含大于2.0g/m2的氧化铝。2.根据权利要求1的方法，其中铝载体在亲水表面处包含等于或大于2.5g/m2的氧化铝。3.根据权利要求1的方法，其中铝载体在亲水表面处包含等于或大于3.0g/m2的氧化铝。4.根据前述权利要求中任一项的方法，其中碱性显影溶液基本上不含硅酸盐。5.根据前述权利要求中任一项的方法，其中铝载体可通过如下获得：粒化、阳极化和用包含含有硅酸根阴离子和一种或多种阳离子的化合物的水溶液处理它。6.根据权利要求5的方法，其中硅酸根阴离子选自磷硅酸根、原硅酸根、偏硅酸根、水合硅酸根、聚硅酸根或焦硅酸根。7.根据权利要求5或6的方法，其中硅酸根阴离子是原硅酸根或偏硅酸根。8.根据前述权利要求2至7中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：P莫里阿墨，I博古诺维奇，
申请(专利权)人：爱克发有限公司，
类型：发明
国别省市：比利时,BE