【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阴图制版平版印版前体和方法专利
本专利技术涉及对红外辐射敏感且可通过红外辐射成像的阴图制版平版印版前体。该前体包含可成像层，所述可成像层在引发剂组合物中包含两种或更多种不同的碘鎓盐的独特组合。在成像曝光之后，或者可使用合适的显影剂来将该前体脱机(off-press)冲洗(显影)，或者可使用平版印刷油墨和/或润版液来将该前体在机(on-press)冲洗(显影)。专利技术背景在平版印刷中，在亲水表面上生成油墨接受区域(称为图像区)。当用水润湿表面且施加平版印刷油墨时，亲水区域保留水并排斥平版印刷油墨，平版印刷油墨接受区域接受平版印刷油墨并排斥水。平版印刷油墨被转移到欲在其上复制图像的材料的表面。有用于制备平版印版的可成像元件(平版印版前体)典型地包含布置在衬底的亲水表面之上的一个或更多个对辐射敏感的可成像层。此类对辐射敏感的可成像层包括一种或更多种对辐射敏感的组分，所述组分可分散于合适的粘合剂中或自身充当粘合剂。在将可成像元件成像暴露于合适的辐射以形成曝光区域和未曝光区域之后，通过合适的显影剂去除可成像层(一个或更多个)的曝光区域或未曝光区域，显露出底下的衬底的亲...
【技术保护点】
1.对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其包含：具有亲水表面的衬底，和对红外辐射敏感的可成像层，其布置在所述衬底的所述亲水表面上，并包含：一种或更多种可自由基聚合的化合物；一种或更多种红外辐射吸收剂；引发剂组合物，其在所述对红外辐射敏感的可成像层暴露于红外辐射时提供自由基，所述引发剂组合物包含由以下结构(I)代表的化合物A和统称为化合物B的一种或更多种由以下结构(II)或结构(III)代表的化合物；以及主要聚合物粘合剂，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.28 US 62/287927;2016.04.01 US 15/0881731.对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其包含：具有亲水表面的衬底，和对红外辐射敏感的可成像层，其布置在所述衬底的所述亲水表面上，并包含：一种或更多种可自由基聚合的化合物；一种或更多种红外辐射吸收剂；引发剂组合物，其在所述对红外辐射敏感的可成像层暴露于红外辐射时提供自由基，所述引发剂组合物包含由以下结构(I)代表的化合物A和统称为化合物B的一种或更多种由以下结构(II)或结构(III)代表的化合物；以及主要聚合物粘合剂，其中：R1、R2、R3、R4、R5和R6独立为各自具有2～9个碳原子的取代或未取代的烷基或取代或未取代的烷氧基；R3和R4至少之一不同于R1或R2；R1和R2中的碳原子总数与R3和R4中的碳原子总数之间的差异为0～4；R1和R2中的碳原子总数与R5和R6中的碳原子总数之间的差异为0～4；以及X1、X2和X3为相同或不同的阴离子。2.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中化合物B包括由结构(III)代表的化合物，R1与R5相同，且R2与R6相同。3.如权利要求2所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中R1与R2相同。4.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中化合物B包括由结构(II)代表的化合物，R1与R2相同，且R3与R4相同。5.如权利要求4所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中R1与R3之间的碳原子数的差异为0、1或2。6.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中R1、R2、R3、R4、R5和R6独立为取代或未取代的烷基。7.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地具有3～6个碳原子。8.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中化合物A与化合物B的摩尔比为从10:90至且包括90:10。9.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中基于所述对红外辐射敏感的可成像层的总干重计，化合物A与化合物B二者的总和为至少5重量％且至多并包括18重量％。10.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中X1、X2和X3至少之一是包含相同或不同的芳基的四芳基硼酸根阴离子。11.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中X1、X2和X3各自为四苯基硼酸根。12.如权利要求1所述的对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体，其中至少一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：林浩司，JR马茨，石井里志，关口孔明，神谷昌道，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：美国,US
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