流体阻尼装置及带阻尼的设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种流体阻尼装置及带阻尼的设备。本发明专利技术是在流体阻尼装置中，将盖体适当地固定在壳体的开口部。流体阻尼装置包括：插入至有底筒状的壳体的转子、以及固定在壳体的开口部的盖体。在壳体的轴线方向上的一侧的端部形成有薄壁部，在薄壁部的内周面上，以等角度间隔在四处形成有与盖体的小径部在轴线方向上抵接的限定部。在壳体的内周面上，形成有对阻尼室在圆周方向上加以间隔的间隔用凸部，限定部形成在与间隔用凸部相对应的圆周方向位置。在与限定部不同的圆周方向位置上形成有朝向径向外侧凹陷的凹部，在凹部内形成有熔接用凸部。小径部通过超声波熔接而与熔接用凸部熔接。

【技术实现步骤摘要】
流体阻尼装置及带阻尼的设备
本专利技术涉及一种在壳体与转子(rotor)之间填充有流体的流体阻尼装置及带阻尼的设备。
技术介绍
在专利文献1中，揭示了一种流体阻尼装置，在有底筒状的壳体与转子之间填充有油等流体。在专利文献1的流体阻尼装置中，将转子(旋转轴)的轴线方向上的一端配置在壳体的内侧，在旋转轴与壳体内周面之间形成阻尼室，在阻尼室内配置阀体，所述阀体设置在旋转轴的侧面。当转子朝向第一方向旋转时，阀体的径向上的前端与壳体内周面相接。因此，转子的旋转负载大。另一方面，当转子朝向与第一方向相反的方向旋转时，借由流体的阻力而使阀体与壳体内周面之间会空出间隙，因此流体会穿过所述间隙，所以转子的旋转负载小。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2016-223538号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]专利文献1的流体阻尼装置是通过固定在壳体的开口部上的盖体，来防止转子从壳体脱落。作为盖体的固定方法，可利用使形成于壳体的内周面的内螺纹与形成于盖体的外周面的外螺纹螺合的螺纹式的固定方法。但是，螺纹式的轴线方向上的尺寸大，用于使螺纹部分成形的模具费用昂贵。因此，为了实现轴线方向上的薄型化及成本的降低，通过熔接来加以固定。当通过熔接而将盖体固定在壳体上时，使壳体的内周面与插入至壳体的内侧的盖体的端部熔融而将盖体按入至壳体。当通过熔接来进行固定时，为了使盖体朝向壳体的按入量适当，在壳体的内周面上形成阶差部，而使盖体抵接于阶差部。然而，即使在壳体上形成有阶差部的情况，也有可能使阶差部与盖体相抵接的部位因熔接的影响而变形，从而盖体朝向壳体的按入量产生不均。例如，当进行超声波熔接时，放上产生超声波的焊头(horn)而使熔接部位熔融，而当存在由焊头引起的熔接高度的不均时，有可能阶差部会产生变形而使盖体的按入量产生不均。如果盖体朝向壳体的按入量不均，填充流体的阻尼室的轴线方向上的尺寸精度就会下降。其结果为，有可能使阻尼室的容积发生变化，从而阻尼性能产生不均。鉴于以上的问题，本专利技术的课题在于在流体阻尼装置中，适当地固定盖体。[解决问题的技术手段]为了解决所述课题，本专利技术的流体阻尼装置包括：有底筒状的壳体，朝向轴线方向上的一侧开口；转子，具备：插入至阻尼室的旋转轴及阀体，所述阻尼室形成于所述壳体上；流体，填充于所述阻尼室；盖体，所述转子所贯通的贯通孔，固定在所述壳体的开口部；以及密封构件，对所述转子的外周面与所述壳体的内周面的间隙进行密封；并且在所述壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有与所述盖体在所述轴线方向上抵接的限定部。在本专利技术中，在流体阻尼装置的壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有限定部，所述限定部与固定在壳体的开口部的盖体在轴线方向上抵接。因此，当通过熔接而对盖体进行固定时，可以将熔接部位及限定部设置于在圆周方向上不同的位置，所以限定部因熔接的影响而变形的可能性小。因此，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位，能够适当地固定盖体。由此，可以提高阻尼室的轴线方向上的尺寸精度，从而能够抑制阻尼性能的不均。在本专利技术中，在所述壳体的内周面上，形成有将所述阻尼室在圆周方向上加以间隔的间隔用凸部，所述限定部形成在与所述间隔用凸部相对应的圆周方向位置。如此一来，可以在所述间隔用凸部的位置以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。因此，可以提高阻尼室的轴线方向上的尺寸精度，从而能够抑制阻尼性能的不均。在本专利技术中，在所述间隔用凸部的所述轴线方向上的一侧的端面上，形成有在径向上延伸的肋，所述限定部形成在包含所述肋的角度位置的范围内。如此一来，可以在用于提高阻尼室的密闭精度的肋的位置上以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。因此，能够提高阻尼室的密闭精度。在本专利技术中，所述限定部形成于以所述壳体的内周面的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。例如，形成于在所述壳体的直径方向上延伸的直线上，并且形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。如上所述，通过相对于径向上的中心在相反侧形成两处的限定部，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。并且，当在沿直径方向延伸的直线上形成有两处的限定部时，可以抑制盖体的倾斜。在本专利技术中，所述限定部形成于在圆周方向上相离的三处，所述三处之中的两处是以所述壳体的径向上的中心为基准，配置在与所述三处之中的剩下的一处为相反侧的位置。例如，所述限定部形成于以所述壳体的内周面的径向上的中心为基准而为等角度间隔的三处。如上所述，通过将在圆周方向上相离的三处之中的两处形成于与剩下的一处为相反侧的位置，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。特别是通过在圆周方向上均等地形成限定部，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位，从而可以抑制盖体的倾斜。在本专利技术中，所述限定部形成于在圆周方向上相离的四处，所述四处之中的两处是在所述壳体的直径方向上延伸的第一直线上，以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处，并且是与所述肋在所述轴线方向上重合的位置，所述四处之中的剩下的两处是在所述壳体的直径方向上延伸且与所述第一直线交叉的第二直线上，以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。例如，所述限定部形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为等角度间隔的四处。如此一来，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。并且，通过在用于提高阻尼室的密闭精度的肋的位置上进行盖体的轴线方向上的定位，可以提高阻尼室的密闭精度。并且，通过在圆周方向上均等地形成限定部，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位，从而可以抑制盖体的倾斜。在本专利技术中，在所述壳体的内周面上，在与所述限定部不同的圆周方向位置上形成有与所述盖体熔接的熔接用凸部，所述熔接用凸部是在所述轴线方向上延伸，并且依次在所述轴线方向上排列着所述熔接用凸部的所述轴线方向上的一端、所述限定部及所述熔接用凸部的所述轴线方向上的另一端。如上所述，如果熔接用凸部与限定部形成于不同的圆周方向位置，那么即使熔接高度在包含限定部的轴线方向上的位置(轴线方向上的高度)的范围内，限定部产生变形的可能性也小。因此，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。在本专利技术中，所述盖体具备：插入至所述壳体的小径部，在所述壳体上，在与所述熔接用凸部不同的圆周方向位置上设置有以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状内周面，所述小径部是通过所述圆弧状内周面而在与所述轴线方向正交的方向上定位。如此一来，可以在与熔接部位不同的圆周方向位置上，使盖体与壳体同轴地定位。在本专利技术中，优选的是：所述熔接用凸部的内周面呈以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状。如此一来，可以使熔接用凸部与盖体在圆周方向上均等地熔接。在本专利技术中，优选的是：在与所述熔接用凸部相邻的位置的至少一部分上设置有防流出部，且所述防流出部处在比所述壳体的内周面更靠径向内侧的位置。例如，作为防流出部，可以设置能够保持从熔接部露出的树脂等熔融原材料的间隙(即，熔接毛边积存处)。如此一来，可以使从熔接部露出的熔融原材料保持于防流出部，因此在壳体及盖体的外侧露出熔融原材料而形成熔接毛边的可能性小，从而增加去除熔接毛边的工序的可能性小。并且，熔融原材料向阻尼室侧露出而使阻尼室的密闭性下降的可能性小。在此情况下，优选的是：所述防流出部至少设置在与所述熔接用凸部在圆周方向上相邻的位本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种流体阻尼装置，其特征在于，包括：有底筒状的壳体，朝向轴线方向上的一侧开口；转子，具备：插入至阻尼室的旋转轴及阀体，所述阻尼室形成于所述壳体；流体，填充于所述阻尼室；盖体，具备所述转子所贯通的贯通孔，所述盖体固定于所述壳体的开口部；以及密封构件，对所述转子的外周面与所述壳体的内周面的间隙进行密封；其中，在所述壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有限定部，所述限定部与所述盖体在所述轴线方向上抵接。

【技术特征摘要】
2017.05.12 JP 2017-095877;2017.05.12 JP 2017-095871.一种流体阻尼装置，其特征在于，包括：有底筒状的壳体，朝向轴线方向上的一侧开口；转子，具备：插入至阻尼室的旋转轴及阀体，所述阻尼室形成于所述壳体；流体，填充于所述阻尼室；盖体，具备所述转子所贯通的贯通孔，所述盖体固定于所述壳体的开口部；以及密封构件，对所述转子的外周面与所述壳体的内周面的间隙进行密封；其中，在所述壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有限定部，所述限定部与所述盖体在所述轴线方向上抵接。2.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，在所述壳体的内周面上，形成有对所述阻尼室在圆周方向上加以间隔的间隔用凸部，所述限定部形成于与所述间隔用凸部相对应的圆周方向位置。3.根据权利要求2所述的流体阻尼装置，其特征在于，在所述间隔用凸部的所述轴线方向上的一侧的端面上，形成有在径向上延伸的肋，所述限定部形成在包含所述肋的角度位置的范围内。4.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，所述限定部形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。5.根据权利要求4所述的流体阻尼装置，其特征在于，所述限定部形成于在所述壳体的直径方向上延伸的直线上，并且形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。6.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，所述限定部形成于在圆周方向上相离的三处，所述三处之中的两处是以所述壳体的径向上的中心为基准，配置在与所述三处之中的剩下的一处为相反侧的位置。7.根据权利要求6所述的流体阻尼装置，其特征在于，所述限定部形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为等角度间隔的三处。8.根据权利要求3所述的流体阻尼装置，其特征在于，所述限定部形成于在圆周方向上相离的四处，所述四处之中的两处是在所述壳体的直径方向上延伸的第一直线上，以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处，并且是与所述肋在所述轴线方向上重合的位置，所述四处之中的剩下的两处是在所述壳体的直径方向上延伸且与所述第一直线交叉的第二直线上，以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。9.根据权利要求8所述的流体阻尼装置，其特征在于，所述限定部形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为等角度间隔的四处。10.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，在所述壳体的内周面上，在与所述限定部不同的圆周方向位置上形成有与所述盖体熔接的熔接用凸部，所述熔接用凸部是在所述轴线方向上延伸，依次在所述轴线方向上排列着所述熔接用凸部的所述轴线方向上的一端、所述限定部及所述熔接用凸部的所述轴线方向上的另一端。11.根据权利要求10所述的流体阻尼装置，其特征在于，所述熔接用凸部的内周面呈以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状。12.根据权利要求10所述的流体阻尼装置，其特征在于，所述盖体具备：插入至所述壳体的小径部，在所述壳体...

【专利技术属性】
技术研发人员：三原直哉，
申请(专利权)人：日本电产三协株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP