低温红釉及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种低温红釉及其制备方法，低温红釉所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。本发明专利技术可以大大降低釉的膨胀系数，从而使釉与坯的膨胀系数相匹配，防止出现剥釉的现象。

【技术实现步骤摘要】
低温红釉及其制备方法
本专利技术涉及一种低温红釉及其制备方法。
技术介绍
目前，陶瓷色釉主要是一些有色金属氧化物，盐或复盐，有很多色釉因高温煅烧会发生分解失色，而只能在低温下成色，因此被称之为低温色釉，目前陶瓷器具经装饰工艺后，釉面光亮且色彩鲜红的，只有低温红/黄釉。然而低温红釉烧成温度在750-950℃，在此温度下让陶瓷坯体必须先高温釉烧，再进行低温红釉的装饰，但与此同时又会出现新问题即陶瓷在烧成的过程中剥釉，造成缺陷。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种低温红釉，它可以大大降低釉的膨胀系数，从而使釉与坯的膨胀系数相匹配，防止出现剥釉的现象。为了解决以上技术问题，本专利技术的技术方案是：一种低温红釉，它所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。本专利技术还提供了一种低温红釉的制备方法，方法含有的步骤如下：S1：按照釉料的各组分和各组分质量份备料：S2：按料：球：水的质量比＝1：1.75：1.5，湿法球磨19～21小时；S3：球磨后的釉料过筛和除铁后，再调成浓度45～60波美度的釉浆；S4：取外表光洁的坯体浸入该釉浆后，然后在750℃-950℃的氧化气氛下烧制成品。采用了上述技术方案后，本专利技术中加入低分子量的碱性氧化物，按同分子数之比取代高分子量氧化熔剂，实际上这样也相应地提高二氧化硅的含量，二氧化硅的含量提高可以大大降低釉的膨胀系数，从而使釉与坯的膨胀系数相匹配，防止出现剥釉的现象。具体实施方式为了使本专利技术的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例，对本专利技术作进一步详细的说明。一种低温红釉，它所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。该低温红釉的制备方法，方法含有的步骤如下：S1：按照釉料的各组分和各组分质量份备料：S2：按料：球：水的质量比＝1：1.75：1.5，湿法球磨19～21小时；S3：球磨后的釉料过筛和除铁后，再调成浓度45～60波美度的釉浆；S4：取外表光洁的坯体浸入该釉浆后，然后在750℃-950℃的氧化气氛下烧制成品。本实施例制备得到的低温红釉经过观察发现，其釉面没有出现剥釉的现象，达到预期效果。以上所述的具体实施例，对本专利技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本专利技术的具体实施例而已，并不用于限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低温红釉，其特征在于：它所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。

【技术特征摘要】
1.一种低温红釉，其特征在于：它所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。2.一种如权利要求1所述的低温红釉的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：童新田，张支清，
申请(专利权)人：湖南德兴瓷业有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43