一种远程等离子体清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种远程等离子体清洗装置，包括：进气装置、等离子体发生装置和真空室；所述进气装置包括混气室、进气管路和进气阀；所述等离子体发生装置包括电感耦合等离子体源和射频电源，所述电感耦合等离子体源包含石英管、铜制螺线管型线圈，所述螺线管型线圈内部可通冷却水防止石英管烧熔；所述真空室包括上缸体和下缸体。本实用新型专利技术的一种远程等离子体清洗装置，利用远程等离子体技术优点，通过设定适当的样品台与等离子体源之间的距离，降低电子、离子等高能活性离子浓度，获得更适宜的离子、活性自由基比例，有利于控制目的性反应，实现对半导体晶片的目的性、无损伤清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种远程等离子体清洗装置
本技术属于半导体晶片清洗设备
，具体涉及一种远程等离子体清洗装置。
技术介绍
等离子体清洗已逐步在半导体制造、微电子封装等行业普遍应用。所谓的等离子体清洗，就是用等离子体通过化学或物理作用时对工件（半导体器件生产过程中的电子元器件及其半成品、零部件、基板、印刷电路板等）表面进行处理，实现分子水平的污渍、沾污去除，提高表面活性的工艺。但是常规等离子体清洗过程中，待清洗的工件处于等离子体离化区域中，清洗过程中伴随着物理清洗过程，等离子体中电子、离子等高能活性离子对材料表面会产生很大的损伤和热效应，造成对半导体晶片、基板的损伤。远程等离子体有别于传统等离子体处理，是将等离子体加工区（产生沉积、刻蚀、表面改性等过程的基体表面）远离等离子体放电区，再利用气流、电场、磁场等将等离子体引入加工区。和传统等离子体相同，远程等离子体中包含有电子、离子和活性自由基等，但是由于加工区与放电区被适当分离，短寿命的电子、离子浓度迅速衰减，而长寿命的活性自由基的浓度较高，因此在远离放电区的位置，电子、离子等高能活性离子对材料表面的轰击损伤尽可能降低，活性自由基对样品的作用占主导地本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种远程等离子体清洗装置，包括：进气装置、等离子体发生装置和真空室；所述进气装置包括混气室、进气管路和进气阀；所述等离子体发生装置包括电感耦合等离子体源和射频电源，所述电感耦合等离子体源包含石英管、铜制螺线管型线圈，所述螺线管型线圈内部可通冷却水防止石英管烧熔；所述真空室包括上缸体和下缸体，所述上缸体为锥形结构，上部接电感耦合等离子体源，电感耦合等离子体源下方为匀气室，匀气室底部为多孔板，所述下缸体中部设有样品台，所述样品台下方接升降装置，所述下缸体的底部开设旁抽气路法兰接口和主抽气路法兰接口。

【技术特征摘要】
1.一种远程等离子体清洗装置，包括：进气装置、等离子体发生装置和真空室；所述进气装置包括混气室、进气管路和进气阀；所述等离子体发生装置包括电感耦合等离子体源和射频电源，所述电感耦合等离子体源包含石英管、铜制螺线管型线圈，所述螺线管型线圈内部可通冷却水防止石英管烧熔；所述真空室包括上缸体和下缸体，所述上缸体为锥形结构，上部接电感耦合等离子体源，电感耦合等离子体源下方为匀气室，匀气室底部为多孔板，所述下缸体中部设有样品台，所述样品台下方接升降装置，所述下缸体的底部开设旁抽...

【专利技术属性】
技术研发人员：詹铁锤，程光周，薛进，刘龙威，
申请(专利权)人：合肥杰硕真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34