光阻容器及涂布机光阻供应系统技术方案

本实用新型专利技术涉及半导体制造领域，具体公开了一种光阻容器及涂布机光阻供应系统。所述光阻容器包括：漏斗式壳体(1)、动力装置、涂布管路、流量计(2)以及用于控制所述动力装置操作的控制单元，所述漏斗式壳体具有顶部开口和底部出液口，所述动力装置用于封闭所述顶部开口并对所述开口加压以推动光阻从出液口排出，所述涂布管路连接于所述出液口，所述流量计设置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置。本实用新型专利技术能够基本上无残留的将光阻推动送出，有效提高光阻的利用率，替代了传统气体加压方式，能够避免容器爆炸风险。此外，通过在涂布管路上设置有流量计，可根据流量数据反馈，使得动力装置实现自动调整以保持稳定的推动力。

【技术实现步骤摘要】
光阻容器及涂布机光阻供应系统
本技术属于半导体制造领域，具体地涉及一种光阻容器及涂布机光阻供应系统。
技术介绍
TFT-LCD及半导体行业中，光阻剂的应用十分广泛，例如，彩色滤光片的生产就需要光阻剂。但是，在彩色滤光片的生产过程中，经常会产生由于光阻剂涂布不均匀、光阻剂脱落、异物干扰等引起的光阻剂缺失不良的问题。对于这些问题，通常采用光阻剂涂覆的方法进行修理。光阻剂涂覆需要使用涂布机光阻供应系统，现有的光阻供应系统如图1所示，由依次连接的光阻桶13、中间容器10、排泡装置6、一次过滤器11、注射泵7、压力表8、二次过滤器12以及喷嘴9组成，光阻剂在材质为PE的光阻桶13中经CDA(空气压缩)加压推动进入中间容器10，再依次经过排泡、过滤过程最终从喷嘴喷出。其中，光阻桶13的桶口处有安装压力计和泻压阀，当桶内压力过大时(超过上限值)，泻压阀打开泻压，防止光阻桶13发生爆炸。但是现有的涂布机光阻供应系统存在以下缺点：①光阻桶13内容易残余光阻，无法实现充分利用；②采用CDA气体加压容易使光阻内混入气泡，造成产品缺陷；③气体加压容易导致光阻桶发生爆炸。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光阻容器，其特征在于，该光阻容器包括：漏斗式壳体(1)，该漏斗式壳体(1)用于储存光阻，所述漏斗式壳体(1)具有设置在顶部的开口和设置在底部的出液口；动力装置，该动力装置用于封闭所述开口并对所述储存在所述漏斗式壳体(1)内的光阻加压以推动所述光阻从所述出液口排出；涂布管路，该涂布管路用于输送光阻并连接于所述出液口；流量计(2)，该流量计(2)用于监测光阻流量，所述流量计(2)设置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置；控制单元，该控制单元用于控制所述动力装置操作，所述控制单元与所述流量计(2)电连接。

【技术特征摘要】
1.一种光阻容器，其特征在于，该光阻容器包括：漏斗式壳体(1)，该漏斗式壳体(1)用于储存光阻，所述漏斗式壳体(1)具有设置在顶部的开口和设置在底部的出液口；动力装置，该动力装置用于封闭所述开口并对所述储存在所述漏斗式壳体(1)内的光阻加压以推动所述光阻从所述出液口排出；涂布管路，该涂布管路用于输送光阻并连接于所述出液口；流量计(2)，该流量计(2)用于监测光阻流量，所述流量计(2)设置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置；控制单元，该控制单元用于控制所述动力装置操作，所述控制单元与所述流量计(2)电连接。2.根据权利要求1所述的光阻容器，其特征在于，所述动力装置为气缸，所述气缸包括缸体(3)和设置在所述缸体(3)内的活塞杆(4)，所述缸体(3)与所述漏斗式壳体(1)呈密封的一体设置。3.根据权利要求1所述的光阻容器，其特征在于，所述漏斗式壳体(1)包括圆筒部和设置在所述圆筒部下方的锥斗部，所述圆筒部的顶部完全开放以形成所述开口，所述动力装置包括与所述开口形状适配的挡板(5)、与所述挡板(5)相连的连杆(14)以及驱动该连杆(14)往复运动的驱动件。4.根据权利要求3所述的光阻容器，其特征在于，所述圆筒部包括呈阶梯状同轴设置的上桶体和下桶体，所述上桶体的直径小于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪杰，陈聪文，聂行健，赵敏，
申请(专利权)人：东旭昆山显示材料有限公司，东旭集团有限公司，东旭科技集团有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32