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本实用新型涉及半导体制造领域，具体公开了一种光阻容器及涂布机光阻供应系统。所述光阻容器包括：漏斗式壳体(1)、动力装置、涂布管路、流量计(2)以及用于控制所述动力装置操作的控制单元，所述漏斗式壳体具有顶部开口和底部出液口，所述动力装置用于封...该专利属于东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司授权不得商用。