调色剂、调色剂容纳单元和图像形成设备制造技术

包括调色剂母粒子和外部添加剂的调色剂，其中：调色剂母粒子包含粘合树脂、脱模剂和二氧化硅；在邻近调色剂母粒子表面的区域中的二氧化硅的平均丰度比(X表面)为70％‑90％，且当调色剂被加热到180℃时每一个调色剂粒子的投影面积平均值S(180)和当调色剂被加热到30℃时每一个调色剂粒子的投影面积平均值S(30)满足式(1)：1.4≤S(180)/S(30)≤1.7 式(1)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】调色剂、调色剂容纳单元和图像形成设备
本专利技术涉及调色剂、调色剂存储单元和图像形成设备。
技术介绍
近来，市场对于图像品质的需求一直在进一步增大并且对于如下调色剂存在需要：取决于预期用途，其可提供具有从低光泽度至高光泽度的宽的光泽度范围的图像。存在这样的问题：为了获得具有宽的光泽度范围的调色剂，应适当地控制调色剂的粘弹性并且应拓宽定影温度宽度。作为解决前述问题的一种技术，将水杨酸金属盐作为组分加入到调色剂中已经被知晓(参见PTL1)。作为加入水杨酸金属盐的结果，粘合树脂的酸基团和水杨酸金属盐之间的交联反应进行而形成弱的三维交联，且因此可获得宽的定影温度宽度。然而，当使用水杨酸金属盐时，存在如下问题：取决于调色剂的配方，颜料凝集发生，导致调色剂的图像浓度低。而且，作为另一技术，使用交联的树脂控制调色剂的光泽已经被知晓(参见PTL2和3)。使用具有交联结构的树脂作为粘合树脂使得根据树脂的交联度能够控制光泽。然而，当使用交联的树脂时，存在如下问题：调色剂的光泽度宽度比使用水杨酸金属盐的调色剂窄。引文列表专利文献PTL1：日本未审专利申请公布No.2015-169892PTL2：日本专利No.3796107PTL3：日本专利No.4907475
技术实现思路
技术问题本专利技术具有如下目的：提供在不抑制低温定影性的情况下可获得最佳光泽度并且可抑制光泽不均的调色剂。问题的解决方案用于解决前述问题的手段于下。本专利技术的调色剂包括调色剂母粒子和外部添加剂。调色剂母粒子的每一个(各自)包括粘合树脂、脱模剂和二氧化硅。在邻近调色剂母粒子表面的区域上的二氧化硅的平均丰度比(存在比)(X表面)为70％-90％。当调色剂被加热到180℃时每个调色剂粒子的投影面积平均值S(180)和当调色剂为30℃时每个调色剂粒子的投影面积平均值S(30)满足下式(1)：1.4≤S(180)/S(30)≤1.7式(1)。专利技术效果本专利技术可提供在不抑制低温定影性的情况下可获得最佳光泽度并且可抑制光泽不均的调色剂。附图说明图1为描绘本专利技术调色剂的以数量粒径和频率(数量)作图的分布的一个实例的曲线图。图2为说明液柱共振液滴排出单元的一个实例的横截面视图。图3为说明本专利技术调色剂的制造装置的一个实例的示意性视图。图4为说明根据本专利技术的图像形成设备的一个实例的示意性视图。图5为说明根据本专利技术的图像形成设备的另一实例的示意性视图。图6为说明根据本专利技术的图像形成设备的另一实例的示意性视图。图7为说明根据本专利技术的图像形成设备的另一实例的示意性视图。具体实施方式(调色剂)本专利技术调色剂至少包括调色剂母粒子和外部添加剂。调色剂母粒子的每一个至少包括粘合树脂、脱模剂和二氧化硅，并且根据需要可进一步包括其它成分。在邻近调色剂母粒子表面的区域上的二氧化硅的平均丰度比(X表面)为70％-90％。当调色剂被加热到180℃时每个调色剂粒子的投影面积平均值S(180)和当调色剂为30℃时每个调色剂粒子的投影面积平均值S(30)满足下式(1)。1.4≤S(180)/S(30)≤1.7式(1)本专利技术调色剂在调色剂被加热时具有适当的调色剂的铺展性和脱模剂的渗出性。因此，在不阻碍调色剂的低温定影性的情况下可获得最佳光泽度并且可抑制光泽不均。<X表面>在本专利技术中，在邻近调色剂母粒子表面的区域上的二氧化硅的平均丰度比(X表面)为70％-90％。在该情形中，邻近调色剂母粒子表面的二氧化硅的平均丰度比(X表面)代表在通过透射电子显微镜(TEM)获得的横截面图像中距离调色剂母粒子表面200nm以内的区域中的二氧化硅的平均丰度比。具有70％-90％的X表面的调色剂具有不规则的形状，因为适当的凸凹形状在调色剂粒子的表面上形成，可获得最佳光泽度，并且可抑制光泽不均。在距离调色剂粒子表面200nm以内的区域中的二氧化硅的平均丰度比X表面为70％-90％、和优选地为75％-85％。当所述丰度比X表面小于70％时，邻近调色剂母粒子表面的区域和整个调色剂母粒子之间的浓度差不足并且调色剂铺展过度，以及光泽变得太高且还有关于发生光泽不均的担忧。另一方面，当所述丰度比X表面大于90％时，暴露到调色剂表面的二氧化硅的量大而阻碍脱模剂的渗出，并且因此定影性劣化。注意，二氧化硅层优选地沿着调色剂母粒子的表面轮廓形成(凸凹状态)，但是不需要邻近调色剂母粒子表面的整个区域是二氧化硅层。例如，二氧化硅的平均丰度比X表面可如下测定。将调色剂母粒子分散在67质量％蔗糖的饱和水溶液中并且将所得物在-100℃下冷冻。然后，通过Cryomicrotome(EM-FCS，其可获自Laica)将冷冻的溶液切割成具有约1,000埃的厚度的切片。通过透射电子显微镜(JEM-2010，其可获自JEOLLtd.)以10,000倍的放大倍率摄取粒子横截面的照片，并且通过图像分析仪(nexusNEWCUBE版本2.5，其可获自NEXUS)测定在如下区域中的二氧化硅阴影的面积比：该区域为在横截面积最大的横截面的垂直方向上从调色剂母粒子表面朝向所述粒子内部至200nm厚度的部分。对于所述测量，测量随机选择的10个调色剂粒子，并且所测量的值的平均值被测定为测量值。<二氧化硅层的厚度>在邻近调色剂母粒子表面处形成的二氧化硅层的厚度可通过对用透射电子显微镜(TEM)摄取的调色剂母粒子的横截面的图像进行图像分析而测量。具体地，将调色剂分散在67质量％蔗糖的饱和溶液中并且将所得物在-100℃下冷冻。通过Cryomicrotome将冷冻的溶液切割成具有约1,000埃厚度的切片并且用四氧化钌将二氧化硅染色。之后，通过透射电子显微镜以10,000倍的放大倍率摄取所述树脂粒子的横截面的照片。例如，借助图像分析仪(nexusNEWCUBE版本2.5，其可获自NEXUS)，将如下的最大距离测定为二氧化硅层的厚度：该距离使得通过在调色剂母粒子的横截面面积最大的横截面上从调色剂母粒子的表面垂直向内一定距离获取一厚度而设定的二氧化硅层的面积占据区域面积的50％或更大。注意，以上的测量值为对随机选择的10个树脂粒子测量的值所计算的平均值。注意，在通过观察TEM图像在二氧化硅层和树脂之间难以区分的情形中，通过能够进行组成测绘(mapping)的多种装置(例如能量色散X-射线光谱仪(EDX)和电子能耗谱仪(EELS))的任一种对通过上述方法获得的树脂粒子横截面进行测绘，从通过所述分析获得的组成分布图像确认二氧化硅层，然后根据上述方法可计算二氧化硅层的厚度。典型地，二氧化硅层的厚度优选为0.005μm-0.5μm、更优选为0.01μm-0.2μm、和甚至更优选为0.02μm-0.1μm。为了形成这样的二氧化硅层，将通过将至少的粘合树脂和二氧化硅分散和/或溶解在有机溶剂中制备的调色剂材料液体排出以形成液滴，并且刚好在形成所述液滴之后使所述液滴快速干燥以形成固体粒子，和将溶剂(其在下文中可称为“溶剂等”)干燥以产生调色剂母粒子，从而形成二氧化硅层。推测如下：形成调色剂母粒子表面的凸凹形状是因为由于在将溶剂等干燥的步骤中在调色剂粒子的体积缩小时形成二氧化硅层而使表面积变小的速度显著变慢，因此使调色剂粒子的表面变为适度弹性的，且结果，粒子表面的粘本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.调色剂，其包括：调色剂母粒子；和外部添加剂，其中调色剂母粒子的每一个包括粘合树脂、脱模剂和二氧化硅，在邻近调色剂母粒子表面的区域上的二氧化硅的平均丰度比(X表面)为70％‑90％，和当调色剂被加热到180℃时每个调色剂粒子的投影面积平均值S(180)和当调色剂为30℃时每个调色剂粒子的投影面积平均值S(30)满足下式(1)，1.4≤S(180)/S(30)≤1.7式(1)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.03 JP 2016-0408361.调色剂，其包括：调色剂母粒子；和外部添加剂，其中调色剂母粒子的每一个包括粘合树脂、脱模剂和二氧化硅，在邻近调色剂母粒子表面的区域上的二氧化硅的平均丰度比(X表面)为70％-90％，和当调色剂被加热到180℃时每个调色剂粒子的投影面积平均值S(180)和当调色剂为30℃时每个调色剂粒子的投影面积平均值S(30)满足下式(1)，1.4≤S(180)/S(30)≤1.7式(1)。2.根据权利要求1的调色剂，其中二氧化硅为有机溶胶。3.根据权利要求1或2的调色剂，其中调色剂母粒子的通过XPS测量的表面Si量为10原子％-30原子％。4.根据权利要求1-3任一项的调色剂，其中二氧化硅的平均一次粒径为10nm-50nm，其中二氧化...

【专利技术属性】
技术研发人员：小岛智之，高桥聪，森谷树，青合翔介，山口竜辉，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：发明
国别省市：日本,JP