调色剂制造技术

本发明专利技术涉及调色剂。一种调色剂，其包括调色剂颗粒和存在于调色剂颗粒的表面上的无机细颗粒，其中调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的粒径个数分布具有存在于特定粒径范围内的峰A1和B1，具有5nm至30nm的粒径的无机细颗粒的比例为10个数％以下，在调色剂经受水洗处理之后，调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有特定粒径范围内的峰A2和B2；并且作为峰B1的峰值的HB1，和作为峰B2的峰值的HB2，满足特定的关系。

【技术实现步骤摘要】
调色剂
本专利技术涉及用于电子照相系统、静电记录系统、静电打印系统和调色剂喷射系统的调色剂。
技术介绍
与基于电子照相系统的全色复印机的广泛传播相关，对于从高温高湿环境至低温低湿环境的所有类型的环境中的更高图像品质的要求存在进一步的增加。为了提高图像品质，必须提高调色剂的显影性能和转印性，因此需要具有优异的带电性能和高电荷保持性的调色剂的开发。近年来，对于打印机的高速化和打印图像的稳定性也存在需求，并且现在比以前更需要高耐应力的调色剂的开发。为了赋予调色剂稳定的带电性能，调色剂颗粒可以含有无机细颗粒，例如已知为外部添加剂的金属氧化物。此外，已知这些无机细颗粒具有增强调色剂流动性的效果，并且通过充当调色剂之间的间隔物和调色剂与其它构件之间的间隔物而具有降低调色剂附着性的效果。然而，已知这些无机细颗粒存在从调色剂表面脱离并且污染其它构件的问题，因此重要的是它们在不从调色剂表面脱离的情况下表现出上述效果。为了在无机细颗粒不从调色剂表面脱离的情况下获得优异的流动性和转印性，日本专利申请特开号2011-186402提出其中小粒径二氧化硅颗粒和大粒径二氧化硅颗粒附着至调色剂基础颗粒的表面并且它们通过冲击力而固定化的调色剂。另外，为了提高耐应力性，日本专利申请特开号2007-279239提出通过以下提供的调色剂：向100质量份调色剂基础颗粒添加0.5质量份以上且6.0质量份以下的一次颗粒的数均粒径为35nm以上且300nm以下的二氧化硅以及0.1质量份以上且3.0质量份以下的一次颗粒的数均粒径为4nm以上且30nm以下的二氧化硅，随后加热-球形化处理。
技术实现思路
然而，尽管日本专利申请特开号2011-186402中的专利技术对于改进初期转印性确实具有一定的效果，但是没有提及在施加应力之后的转印性和在施加应力之后的调色剂和显影剂的流动性，因此关于这些点存在进一步改进的余地。在日本专利申请特开号2007-279239中的专利技术看到对调色剂的耐应力性有一定效果，但是为了适应更高的速度和支持其中调色剂经受更大应力的双组分显影系统，仍然存在改进的余地。本专利技术的目的是提供解决上述问题的调色剂。更具体地，本专利技术的目的是提供即使在长期使用期间也支持调色剂和显影剂的流动性的保持，显示增强的耐应力性，并且在稳定的基础上产生高品质图像的调色剂。本专利技术涉及调色剂，其包括：含有粘结剂树脂和着色剂的调色剂颗粒；和存在于调色剂颗粒的表面上的无机细颗粒，其中调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有存在于35nm以上且55nm以下的粒径范围内的峰A1，和存在于80nm以上且135nm以下的粒径范围内的峰B1；在该个数分布中，相对于在5nm以上且200nm以下的粒径范围内的无机细颗粒的总个数，在5nm以上且30nm以下的粒径范围内的无机细颗粒的比例为10个数％(number％)以下；在调色剂经受水洗处理之后，调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有存在于35nm以上且55nm以下的粒径范围内的峰A2，和存在于80nm以上且135nm以下的粒径范围内的峰B2；当HB1为峰B1的峰值并且HB2为峰B2的峰值时，满足70≤(HB2/HB1)×100≤90；并且水洗处理是其中将通过向含有表面活性剂的去离子水添加调色剂而获得的分散液在46.7cm/秒的振动速度和4.0cm的振幅的条件下振动5分钟的处理。因此本专利技术可以提供即使在长期使用期间也支持调色剂和显影剂的流动性的保持，显示增强的耐应力性，并且在稳定的基础上产生高品质图像的调色剂。参照附图从以下示例性实施方案的描述，本专利技术的其它特征将变得显而易见。附图说明图1为热处理设备的实例。具体实施方式除非另有具体说明，否则在本专利技术中表示数值范围的表述“XX以上且YY以下”和“XX至YY”是指包括作为端点的下限和上限的数值范围。作为深入和广泛研究的结果，本专利技术人发现以下对于解决上述问题至关重要：存在于调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的个数分布中两个不同范围内的峰的存在，在特定粒径范围内的无机细颗粒的个数比例，以及对于水洗处理之前和水洗处理之后的无机细颗粒的固着比例的特定范围。基于该发现实现本专利技术。因此，以下是至关重要的：调色剂具有：含有粘结剂树脂和着色剂的调色剂颗粒；和存在于调色剂颗粒的表面上的无机细颗粒，其中调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有存在于35nm以上且55nm以下的粒径范围内的峰A1，和存在于80nm以上且135nm以下的粒径范围内的峰B1；在该个数分布中，相对于在5nm以上且200nm以下的粒径范围内的无机细颗粒的总个数，在5nm以上且30nm以下的粒径范围内的无机细颗粒的比例为10个数％以下；在调色剂经受水洗处理之后，调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有存在于35nm以上且55nm以下的粒径范围内的峰A2，和存在于80nm以上且135nm以下的粒径范围内的峰B2；并且当HB1为峰B1的峰值并且HB2为峰B2的峰值时，满足70≤(HB2/HB1)×100≤90；发现当使调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的存在状态处于上述状态时，与不满足该状态的调色剂相比，即使在长期使用期间，也可以保持调色剂和显影剂的流动性，增强耐应力性，并且在稳定的基础上获得高品质的图像。本专利技术人对于产生这些效果的机制假设如下。为了在调色剂颗粒表面上的无机细颗粒的一次颗粒的粒径的个数分布中产生上述峰A1和峰B1，优选在热处理之前将具有不同一次颗粒的数均粒径的两种无机细颗粒附着至调色剂颗粒表面。对于两种无机细颗粒的粒径通过采用上述范围，然后将小粒径无机细颗粒分散在调色剂颗粒表面上，并且大粒径无机细颗粒的移动受到限制。结果，由于两种无机细颗粒在调色剂颗粒表面上的均匀分散，调色剂的耐久性得以改进。另外认为，通过使构成峰A1的无机细颗粒具有一定的大小，抑制在热处理期间还有在实际使用期间在应力施加后的无机细颗粒的埋没，这样可以维持高流动性。无机细颗粒的一次颗粒的粒径的个数分布中的峰A1必须存在于35nm以上且55nm以下的粒径处。在小于35nm处，许多无机细颗粒在热处理或施加应力后最终完全掩埋，并且不能维持显影剂的流动性，然后当图像比例发生大的变化时浓度最终变化。另一方面，在大于55nm处，从施加应力之前的显影剂流动性低，并且当施加应力时在图像中可产生条纹。峰A1优选存在于40nm以上且50nm以下的粒径处。相对于100质量份调色剂颗粒为3.0质量份以上且7.0质量份以下是数均粒径为35nm以上且55nm以下并且能够构成峰A1的无机细颗粒的优选含量。无机细颗粒的一次颗粒的粒径的个数分布中的峰B1必须存在于80nm以上且135nm以下的粒径处。在小于80nm处，在施加应力后不可能维持优异的流动性。另一方面，在大于135nm处，在热处理之后许多颗粒不会被固着(fixed或immobilized)，并且最终会附着至载体或充电辊。峰B1优选存在于85nm以上且130nm以下的粒径处。相对于100质量份调色剂颗粒为2.5质量份以上且7.5质量份以下是数均粒径为80nm以上且135nm以下并且能够构成峰B1的无机细颗粒的优选含量。无机细颗粒含量，相对于100质量份调色剂颗粒，优选为1.0质量本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种调色剂，其包括：含有粘结剂树脂和着色剂的调色剂颗粒；和存在于所述调色剂颗粒的表面上的无机细颗粒，其特征在于，所述调色剂颗粒表面上的所述无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有存在于35nm以上且55nm以下的粒径范围内的峰A1，和存在于80nm以上且135nm以下的粒径范围内的峰B1；在所述个数分布中，相对于在5nm以上且200nm以下的粒径范围内的无机细颗粒的总个数，在5nm以上且30nm以下的粒径范围内的无机细颗粒的比例为10个数％以下；在所述调色剂经受水洗处理之后，所述调色剂颗粒表面上的所述无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有存在于35nm以上且55nm以下的粒径范围内的峰A2，和存在于80nm以上且135nm以下的粒径范围内的峰B2；当HB1为所述峰B1的峰值并且HB2为所述峰B2的峰值时，其中HB1和HB2以个数％表示，满足70≤(HB2/HB1)×100≤90；并且所述水洗处理是其中将通过向含有表面活性剂的去离子水添加所述调色剂而获得的分散液在46.7cm/秒的振动速度和4.0cm的振幅的条件下振动5分钟的处理。

【技术特征摘要】
2017.03.21 JP 2017-0543011.一种调色剂，其包括：含有粘结剂树脂和着色剂的调色剂颗粒；和存在于所述调色剂颗粒的表面上的无机细颗粒，其特征在于，所述调色剂颗粒表面上的所述无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有存在于35nm以上且55nm以下的粒径范围内的峰A1，和存在于80nm以上且135nm以下的粒径范围内的峰B1；在所述个数分布中，相对于在5nm以上且200nm以下的粒径范围内的无机细颗粒的总个数，在5nm以上且30nm以下的粒径范围内的无机细颗粒的比例为10个数％以下；在所述调色剂经受水洗处理之后，所述调色剂颗粒表面上的所述无机细颗粒的一次颗粒的粒径个数分布具有存在于35nm以上且55nm以下的粒径范围内的峰A2，和存在于80nm以上且135nm以下的...

【专利技术属性】
技术研发人员：松尾龙一郎，三浦正治，岩崎阳介，胜间田和起子，满生健太，釜江健太郎，大津刚，石上恒，沟尾祐一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP