一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置，包括：底座、支撑架、顶板、入料辊轮、若干第一电极片、若干第二电极片和出料辊轮，所述若干第一电极片设置在所述面料行走区域且固定连接所述底座的上表面，所述若干第二电极片设置在所述面料行走区域且固定连接所述顶板的下表面。通过上述方式，本发明专利技术用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置通过采用第一电极片对面料的下方进行除静电整平梳理、采用第二电极片对面料的上方进行除静电整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，在用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置的普及上有着广泛的市场前景。

A single side pressure anti-static double-sided leveling carding device for producing fabrics

The invention discloses a unilateral pressure anti-static double-sided leveling carding device for fabrics production, which comprises a base, a support frame, a top plate, a feeding roller, a number of first electrodes, a number of second electrodes and a discharge roller. The first electrodes are arranged in the walking area of the fabrics and are fixedly connected with the base. On the upper surface, the second electrodes are arranged in the fabric walking area and fixed to the lower surface of the roof. In the above way, the single side pressure anti-static double-sided leveling carding device for fabrics is used to realize the single side pressure anti-static double-sided leveling carding by using the first electrode sheet to deelectrostatic leveling under the fabric and the second electrode sheet to deelectrostatic leveling on the top of the fabric, so as to realize the single side pressure anti-static double-sided leveling carding, which is used in production. There is a wide market prospect for the popularization of the fabric's single side pressure anti-static double-sided leveling and carding device.

【技术实现步骤摘要】
一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置
本专利技术涉及纺织领域，特别是涉及一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置。
技术介绍
我国是世界上最大的纺织品服装生产国、出口国和消费国，出口额占全球出口贸易的四分之一以上。纺织面料关系到人们生活的方方面面，现有的面料的加工工艺相对落后，其中整平梳理大多采用机器展平、手动梳理，或者采用单纯的外力展平，效率低、容易造成面料损伤、整平梳理的效果较差，影响面料的品质。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置，通过采用第一电极片对面料的下方进行除静电整平梳理、采用第二电极片对面料的上方进行除静电整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，结构新颖、操作简便、性能稳定、减少面料损伤、提高面料品质、整平梳理效果好、防止静电堆积、方便实用，在用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置的普及上有着广泛的市场前景。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置，包括：底座、支撑架、顶板、入料辊轮、若干第一电极片、若干第二电极片和出料辊轮，所述底座水平设置，所述顶板通过所述支撑架水平设置在所述底座的上方，所述底座与所述顶板之间的空间形成面料行走区域，所述入料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输入端，所述出料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输出端，所述若干第一电极片设置在所述面料行走区域且固定连接所述底座的上表面，所述若干第二电极片设置在所述面料行走区域且固定连接所述顶板的下表面，所述若干第一电极片与所述若干第二电极片交替设置，所述第一电极片与所述底座呈第一角度向所述出料辊轮的方向倾斜设置，所述第二电极片与所述顶板呈第二角度向所述出料辊轮的方向倾斜设置，所述第一电极片的最高点高于所述第二电极片的最低点，面料依次经由所述第一电极片的上表面和第二电极片的下表面进行传送。在本专利技术一个较佳实施例中，所述入料辊轮、所述出料辊轮分别外接电机。在本专利技术一个较佳实施例中，所述入料辊轮与所述出料辊轮的转动方向相同。在本专利技术一个较佳实施例中，所述第一电极片、所述第二电极片分别外接电源。在本专利技术一个较佳实施例中，所述第一角度为10-30°。在本专利技术一个较佳实施例中，所述第二角度为10-30°。本专利技术的有益效果是：本专利技术用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置通过采用第一电极片对面料的下方进行除静电整平梳理、采用第二电极片对面料的上方进行除静电整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，结构新颖、操作简便、性能稳定、减少面料损伤、提高面料品质、整平梳理效果好、防止静电堆积、方便实用，在用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置的普及上有着广泛的市场前景。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：图1是本专利技术的用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置一较佳实施例的结构示意图。具体实施方式下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，本专利技术实施例包括：一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置，包括：底座1、支撑架2、顶板3、入料辊轮4、若干第一电极片5、若干第二电极片6和出料辊轮7。所述底座1水平设置，所述顶板3通过所述支撑架2水平设置在所述底座1的上方，所述底座1与所述顶板3之间的空间形成面料行走区域101，所述入料辊轮4连接所述支撑架2且设置在所述面料行走区域101的输入端，所述出料辊轮7连接所述支撑架2且设置在所述面料行走区域101的输出端，所述若干第一电极片5设置在所述面料行走区域101且固定连接所述底座1的上表面，所述若干第二电极片6设置在所述面料行走区域101且固定连接所述顶板3的下表面，所述若干第一电极片5与所述若干第二电极片6交替设置，采用第一电极片5对面料的下方进行除静电整平梳理、采用第二电极片6对面料的上方进行除静电整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，结构新颖、操作简便、性能稳定、减少面料损伤、提高面料品质、整平梳理效果好、防止静电堆积、方便实用；所述第一电极片5与所述底座1呈第一角度向所述出料辊轮7的方向倾斜设置，所述第二电极片6与所述顶板3呈第二角度向所述出料辊轮7的方向倾斜设置，所述第一电极片5的最高点高于所述第二电极片6的最低点，面料依次经由所述第一电极片5的上表面和第二电极片6的下表面进行传送，当面料经过时，此角度可一定程度保护面料不受尖锐部位摩擦，可降低面料的摩擦损伤，也可提高对面料的整平梳理效果。优选地，所述入料辊轮4、所述出料辊轮7分别外接电机。优选地，所述入料辊轮4与所述出料辊轮7的转动方向相同。优选地，所述第一电极片5、所述第二电极片6分别外接电源。优选地，所述第一角度为10-30°。优选地，所述第二角度为10-30°。本专利技术用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置的有益效果是：一、通过采用第一电极片对面料的下方进行除静电整平梳理、采用第二电极片对面料的上方进行除静电整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，结构新颖、操作简便、性能稳定、减少面料损伤、提高面料品质、整平梳理效果好、防止静电堆积、方便实用；二、通过采用第一电极片与底座呈第一角度向出料辊轮的方向倾斜设置、第二电极片与顶板呈第二角度向出料辊轮的方向倾斜设置，且第一电极片的最高点高于第二电极片的最低点，面料依次经由第一电极片的上表面和第二电极片的下表面进行传送，第一电极片、第二电极片与面料均呈一定角度向后设置，当面料经过时，此角度可一定程度保护面料不受尖锐部位摩擦，可降低面料的摩擦损伤，也可提高对面料的整平梳理效果。以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的
，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置，其特征在于，包括：底座、支撑架、顶板、入料辊轮、若干第一电极片、若干第二电极片和出料辊轮，所述底座水平设置，所述顶板通过所述支撑架水平设置在所述底座的上方，所述底座与所述顶板之间的空间形成面料行走区域，所述入料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输入端，所述出料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输出端，所述若干第一电极片设置在所述面料行走区域且固定连接所述底座的上表面，所述若干第二电极片设置在所述面料行走区域且固定连接所述顶板的下表面，所述若干第一电极片与所述若干第二电极片交替设置，所述第一电极片与所述底座呈第一角度向所述出料辊轮的方向倾斜设置，所述第二电极片与所述顶板呈第二角度向所述出料辊轮的方向倾斜设置，所述第一电极片的最高点高于所述第二电极片的最低点，面料依次经由所述第一电极片的上表面和第二电极片的下表面进行传送。

【技术特征摘要】
1.一种用于生产面料的单侧压防静电型双面整平梳理装置，其特征在于，包括：底座、支撑架、顶板、入料辊轮、若干第一电极片、若干第二电极片和出料辊轮，所述底座水平设置，所述顶板通过所述支撑架水平设置在所述底座的上方，所述底座与所述顶板之间的空间形成面料行走区域，所述入料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输入端，所述出料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输出端，所述若干第一电极片设置在所述面料行走区域且固定连接所述底座的上表面，所述若干第二电极片设置在所述面料行走区域且固定连接所述顶板的下表面，所述若干第一电极片与所述若干第二电极片交替设置，所述第一电极片与所述底座呈第一角度向所述出料辊轮的方向倾斜设置，所述第二电极片与所述顶板呈第二角度向所述出料辊轮的方向倾斜设置，所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄超，
申请(专利权)人：宿迁市舜达服饰有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32