一种硅溶胶抛光液制造技术

本发明专利技术公开一种硅溶胶抛光液，其特征在于，按重量百分比包括：0.1％的EDTA二钠盐、0.02％的表面活性剂OP‑10、0.2％的氢氧化钾、0.08％的氯化钾、0.002％的甘油、0.025％的BTA和0.0008％的磷酸钠。该硅溶胶抛光液的配方，C向或A向蓝宝石以及金属件的抛光速率快，且抛完后得到的蓝宝石及金属件表面质量高。

【技术实现步骤摘要】
一种硅溶胶抛光液
本专利技术涉及抛光的
，特别涉及一种硅溶胶抛光液。
技术介绍
硅溶胶抛光液主要是针对大规模集成电路、发光二极管(LED)蓝宝石衬底以及手机、手表等蓝宝石盖板的抛光，其市场需求量庞大。现有的硅溶胶抛光液的抛光速率低、抛光表面质量不稳定，无法完全满足市场的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种硅溶胶抛光液，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。本专利技术提供一种硅溶胶抛光液按重量百分比包括：0.1％的EDTA二钠盐、0.02％的表面活性剂OP-10、0.2％的氢氧化钾、0.08％的氯化钾、0.002％的甘油、0.025％的的BTA和0.0008％的磷酸钠。具体实施方式下面的实施案例，对本专利技术进行进一步详细的说明。一种硅溶胶抛光液按重量百分比包括：0.1％的EDTA二钠盐、0.02％的表面活性剂OP-10、0.2％的氢氧化钾、0.08％的氯化钾、0.002％的甘油、0.025％的的BTA和0.0008％的磷酸钠。本专利技术提供的实施方案，该硅溶胶抛光液的配方，C向或A向蓝宝石以及金属件的抛光速率快，且抛完后得到的蓝宝石及金属件表面质量高。。以上表述仅为本专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅溶胶抛光液，其特征在于，按重量百分比包括：0.1％的EDTA二钠盐、0.02％的表面活性剂OP‑10、0.2％的氢氧化钾、0.08％的氯化钾、0.002％的甘油、0.025％的的BTA和0.0008％的磷酸钠。

【技术特征摘要】
1.一种硅溶胶抛光液，其特征在于，按重量百分比包括：0.1％的EDTA二钠盐、0.02％的表面活性剂OP-10...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁春香，
申请(专利权)人：南通盛世祥和纺织品有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32