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一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置制造方法及图纸

技术编号:19289524 阅读:37 留言:0更新日期:2018-10-31 00:54
本实用新型专利技术公开了一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,其结构包括顶盖、面板、提示装置、显示器、控制面板、按钮、外壳、箱盖、把手、底座、箱门、箱扣、支撑脚,外壳与控制面板为一体化结构,外壳与箱盖相连接,箱盖与把手为一体化结构,外壳与底座为一体化结构,底座与箱门相贴合,箱门与箱扣为一体化结构,底座底部与支撑脚顶部垂直焊接,本实用新型专利技术一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,其结构上设有提示装置,通过温度感应器对温度进行感应,当温度过高时,可通过处理器对线圈通电使铁块变成电磁铁,将右侧的磁铁吸附过来,带动触点,由左侧的接触点相触碰,使警报器进行工作提示,避免温度过高。

A monocrystalline silicon etching device for improving the working efficiency of equipment

The utility model discloses a sensor monocrystalline silicon etching device which can improve the working efficiency of the equipment. The structure of the device comprises a top cover, a panel, a prompting device, a display, a control panel, a button, a casing, a box cover, a handle, a base, a box door, a box buckle, a supporting foot, a shell and a control panel as a whole, and a shell and a box. The utility model relates to a single crystal silicon etching device for sensor which can improve the working efficiency of the equipment. Tip device, through the temperature sensor to temperature induction, when the temperature is too high, through the processor to coil power into electromagnet, the right magnet adsorbed to drive contacts, contacts from the left touch, so that the alarm work prompt to avoid excessive temperature.

【技术实现步骤摘要】
一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置
本技术是一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,属于刻蚀领域。
技术介绍
最普遍、也是设备成本最低的刻蚀方法,其影响被刻蚀物之刻蚀速率的因素有三:刻蚀液浓度、刻蚀液温度、及搅拌之有无。定性而言,增加刻蚀温度与加入搅拌,均能有效提高刻蚀速率;但浓度之影响则较不明确。现有技术公开了申请号为:CN201520491978.2的一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,其包括有反应室,反应室外侧设置有电磁线圈;所述反应室外部设置有多个在水平方向上的置放端架,每一个置放端架的均沿反应室的侧端面成环形延伸,电磁线圈固定于其所对应的置放端架的上端面;多个置放端架之间通过在竖直方向上延伸的支撑杆件进行连接;所述反应室的外部设置有多个升降丝杆,其连接至设置在反应室上端面的升降电机,所述升降丝杆与置放端架彼此固定连接,但是该现有技术在使用刻蚀装置对单晶硅时,由于对液温度感应不精准,导致单晶硅使用寿命降低。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本技术目的是提供一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,以解决现有在使用刻蚀装置对单晶硅时,由于对液温度感应不精准,导致单晶硅使用寿命降低的问题。为了实现上述目的,本技术是通过如下的技术方案来实现:一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,其结构包括顶盖、面板、提示装置、显示器、控制面板、按钮、外壳、箱盖、把手、底座、箱门、箱扣、支撑脚,所述外壳与控制面板为一体化结构,所述外壳与箱盖相连接,所述箱盖与把手为一体化结构,所述外壳与底座为一体化结构,所述底座与箱门相贴合,所述箱门与箱扣为一体化结构,所述底座底部与支撑脚顶部垂直焊接,所述支撑脚上方设有箱门,所述底座与顶盖相平行,所述提示装置包括温度感应器、处理器、铁块、磁铁、滑块、限位块、触点、接触点、警报器、复位弹簧,所述温度感应器与处理器电连接,所述处理器与铁块相连接,所述铁块与磁铁相平行,所述磁铁底部与滑块顶部相贴合,所述滑块与限位块为一体化结构,所述触点左侧设有接触点,所述接触点与警报器为一体化结构,所述复位弹簧左侧与磁铁右侧相贴合。进一步地,所述顶盖与面板为一体化结构,所述提示装置与面板为一体化结构。进一步地,所述显示器嵌入安装于控制面板表面,所述控制面板后端与面板前端相贴合。进一步地,所述按钮安装于控制面板表面,所述显示器下方设有按钮。进一步地,所述显示器宽度为12cm。进一步地,所述外壳采用304不锈钢,耐腐蚀。进一步地,所述支撑脚采用铝合金,硬度高。有益效果本技术一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,其结构上设有提示装置,通过温度感应器对温度进行感应,当温度过高时,可通过处理器对线圈通电使铁块变成电磁铁,将右侧的磁铁吸附过来,带动触点,由左侧的接触点相触碰,使警报器进行工作提示,避免温度过高。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显:图1为本技术一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置的结构示意图;图2为本技术提示装置剖面的结构示意图。图中:顶盖-1、面板-2、提示装置-3、显示器-4、控制面板-5、按钮-6、外壳-7、箱盖-8、把手-9、底座-10、箱门-11、箱扣-12、支撑脚-13、温度感应器-301、处理器-302、铁块-303、磁铁-304、滑块-305、限位块-306、触点-307、接触点-308、警报器-309、复位弹簧-310。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本技术。请参阅图1、图2,本技术提供一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置技术方案:其结构包括顶盖1、面板2、提示装置3、显示器4、控制面板5、按钮6、外壳7、箱盖8、把手9、底座10、箱门11、箱扣12、支撑脚13,所述外壳7与控制面板5为一体化结构,所述外壳7与箱盖8相连接,所述箱盖8与把手9为一体化结构,所述外壳7与底座10为一体化结构,所述底座10与箱门11相贴合,所述箱门11与箱扣12为一体化结构,所述底座10底部与支撑脚13顶部垂直焊接,所述支撑脚13上方设有箱门11,所述底座10与顶盖1相平行,所述提示装置3包括温度感应器301、处理器302、铁块303、磁铁304、滑块305、限位块306、触点307、接触点308、警报器309、复位弹簧310,所述温度感应器301与处理器302电连接,所述处理器302与铁块303相连接,所述铁块303与磁铁304相平行,所述磁铁304底部与滑块305顶部相贴合,所述滑块305与限位块306为一体化结构,所述触点307左侧设有接触点308,所述接触点308与警报器309为一体化结构,所述复位弹簧310左侧与磁铁304右侧相贴合,所述顶盖1与面板2为一体化结构,所述提示装置3与面板2为一体化结构,其特征在于:所述显示器4嵌入安装于控制面板5表面,所述控制面板5后端与面板2前端相贴合,所述按钮6安装于控制面板5表面,所述显示器4下方设有按钮6,所述显示器4宽度为12cm,所述外壳7采用304不锈钢,耐腐蚀,所述支撑脚13采用铝合金,硬度高。本专利所说的显示器4通常也被称为监视器。显示器是属于电脑的I/O设备,即输入输出设备,所述按钮6是一种常用的控制电器元件,常用来接通或断开‘控制电路’,从而达到控制电动机或其他电气设备运行目的的一种开关。在进行使用时,当对单晶硅进行加工时,当温度过高时,可通过温度感应器301对温度进行感应,当温度过高时,可通过处理器302对线圈通电使铁块303变成电磁铁,将右侧的磁铁304吸附过来,带动触点307,由左侧的接触点308相触碰,使警报器309进行工作提示,避免温度过高。本技术解决了在使用刻蚀装置对单晶硅时,由于对液温度感应不精准,导致单晶硅使用寿命降低的问题,本技术通过上述部件的互相组合,本技术一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,其结构上设有提示装置,通过温度感应器对温度进行感应,当温度过高时,可通过处理器对线圈通电使铁块变成电磁铁,将右侧的磁铁吸附过来,带动触点,由左侧的接触点相触碰,使警报器进行工作提示,避免温度过高。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点,对于本领域技术人员而言,显然本技术不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本技术。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,其特征在于:其结构包括顶盖(1)、面板(2)、提示装置(3)、显示器(4)、控制面板(5)、按钮(6)、外壳(7)、箱盖(8)、把手(9)、底座(10)、箱门(11)、箱扣(12)、支撑脚(13),所述外壳(7)与控制面板(5)为一体化结构,所述外壳(7)与箱盖(8)相连接,所述箱盖(8)与把手(9)为一体化结构,所述外壳(7)与底座(10)为一体化结构,所述底座(10)与箱门(11)相贴合,所述箱门(11)与箱扣(12)为一体化结构,所述底座(10)底部与支撑脚(13)顶部垂直焊接,所述支撑脚(13)上方设有箱门(11),所述底座(10)与顶盖(1)相平行,所述提示装置(3)包括温度感应器(301)、处理器(302)、铁块(303)、磁铁(304)、滑块(305)、限位块(306)、触点(307)、接触点(308)、警报器(309)、复位弹簧(310),所述温度感应器(301)与处理器(302)电连接,所述处理器(302)与铁块(303)相连接,所述铁块(303)与磁铁(304)相平行,所述磁铁(304)底部与滑块(305)顶部相贴合,所述滑块(305)与限位块(306)为一体化结构,所述触点(307)左侧设有接触点(308),所述接触点(308)与警报器(309)为一体化结构,所述复位弹簧(310)左侧与磁铁(304)右侧相贴合。...

【技术特征摘要】
1.一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置,其特征在于:其结构包括顶盖(1)、面板(2)、提示装置(3)、显示器(4)、控制面板(5)、按钮(6)、外壳(7)、箱盖(8)、把手(9)、底座(10)、箱门(11)、箱扣(12)、支撑脚(13),所述外壳(7)与控制面板(5)为一体化结构,所述外壳(7)与箱盖(8)相连接,所述箱盖(8)与把手(9)为一体化结构,所述外壳(7)与底座(10)为一体化结构,所述底座(10)与箱门(11)相贴合,所述箱门(11)与箱扣(12)为一体化结构,所述底座(10)底部与支撑脚(13)顶部垂直焊接,所述支撑脚(13)上方设有箱门(11),所述底座(10)与顶盖(1)相平行,所述提示装置(3)包括温度感应器(301)、处理器(302)、铁块(303)、磁铁(304)、滑块(305)、限位块(306)、触点(307)、接触点(308)、警报器(309)、复位弹簧(310),所述温度感应器(301)与处理器(302)电连接,所述处理器(302)与铁块(303)相连...

【专利技术属性】
技术研发人员:王晓阳
申请(专利权)人:王晓阳
类型:新型
国别省市:福建,35

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