【技术实现步骤摘要】
GPP工艺光刻夹具板
本技术涉及半导体芯片制造
，尤其是一种GPP工艺光刻夹具板。
技术介绍
GPP工艺光刻工序是GPP工艺中必不可少的一道工序，过程控制和质量好坏对DPP工艺产品质量、成本控制起着至关重要的作用。改进操作方法和工装夹具，提高该工序质量合格率和工作效率，为该产品在市场竞争中提供基础保障，是每个GPP工艺产品生产单位都乐意为之的事情。电路生产专用光刻机吸片盘是固定在光刻机上的，吸片和吸版共用同一管路中的真空吸力，硅片凹凸不平整（GPP工艺的硅片均有此特性）的情况下容易造成硅片与光刻版之间间隙不均匀从而导致曝光不均匀，影响了光刻质量；对位过程中显微镜倍数大视场小，“十”字方向对准慢，影响工作效率；硅片边缘与光刻版因版面图形遮挡视线不清楚经常发生错行因而返工甚至错行图形报废；曝光后光刻版与硅片之间因真空吸附，充气时间长，取片困难，容易破损，工作效率低，损耗大。
技术实现思路
为了克服现有的上述的不足，本技术提供了一种GPP工艺光刻夹具板，采用上下瓣两部分结合的结构来解决问题。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种GPP工艺光刻夹具板，包括吸片盘、吸盘盖和真空室，吸盘盖固定设置在吸片盘下方，吸片盘底部凹槽和吸盘盖之间形成的密闭空间为真空室，吸片盘上开设有若干用于释放吸力的吸力孔，吸盘盖上开设有用于与真空泵连接的进出气孔，通过吸盘上的吸力孔对硅片进行均匀吸附。进一步的，包括吸片盘上的吸力孔以吸片盘圆心为中心呈米字型分布，确保硅片均匀接受真空吸力。进一步的，包括吸片盘边缘周向均布有三个用于将吸片盘和吸盘盖快速分离的活动顶片柱，保证真空关闭后硅片容易...
【技术保护点】
1.一种GPP工艺光刻夹具板，其特征是，包括吸片盘（1）、吸盘盖（2）和真空室，吸盘盖（2）固定设置在吸片盘（1）下方，吸片盘（1）底部凹槽和吸盘盖（2）之间形成的密闭空间为真空室，吸片盘（1）上开设有若干用于释放吸力的吸力孔（3），吸盘盖（2）上开设有用于与真空泵连接的进出气孔（4），吸片盘（1）边缘周向均布有三个用于将吸片盘（1）和吸盘盖（2）快速分离的活动顶片柱（5），活动顶片柱（5）通过其底部套设的弹簧与吸片盘（1）固定连接。
【技术特征摘要】
1.一种GPP工艺光刻夹具板，其特征是，包括吸片盘（1）、吸盘盖（2）和真空室，吸盘盖（2）固定设置在吸片盘（1）下方，吸片盘（1）底部凹槽和吸盘盖（2）之间形成的密闭空间为真空室，吸片盘（1）上开设有若干用于释放吸力的吸力孔（3），吸盘盖（2）上开设有用于与真空泵连接的进出气孔（4），吸片盘（1）边缘周向均布有三个用于将吸片盘（1）和吸盘盖（2）快速分离...
【专利技术属性】
技术研发人员：王志明，
申请(专利权)人：常州市华诚常半微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。