描绘数据制作方法技术

本实施方式涉及的描绘数据制作方法包括：将设计数据中包含的多边形图形分割成多个梯形的工序，多个梯形各自的一组对边沿着第一方向平行，且多个梯形将平行于该第一方向的边作为公共边而在正交于该第一方向的第二方向上排列连结；以及在第一梯形、第二梯形和第三梯形沿着所述第二方向连结的情况下，用相对于该第一梯形和该第二梯形的公共顶点的位置的、第一方向和第二方向上的位移，来表现该第二梯形和该第三梯形的公共顶点的位置，来制作描绘数据的工序。在多个梯形中的至少一个梯形中，定义了第一方向上不同的剂量。该描绘数据生成方法在削减了数据量的同时，还能进行用于抑制由影响半径小的现象所引起的图案尺寸变动的修正运算。

Descriptive data making method

The drawing data production method involved in the present embodiment includes a process of dividing a polygon figure included in the design data into a plurality of trapezoids, a set of opposite edges of each of the trapezoids are parallel in the first direction, and a plurality of trapezoids take the edges parallel to the first direction as common edges and orthogonal to the second side in the first direction. The positions of the common vertices of the second trapezoid and the third trapezoid are represented by the displacements in the first, first and second directions relative to the positions of the common vertices of the first, second and third trapezoids in the said second direction. Set up to make the process of describing data. At least one trapezium in a plurality of trapezium defines different doses in the first direction. While reducing the amount of data, this method can also be used to restrain the change of pattern size caused by the phenomenon of small influence radius.

【技术实现步骤摘要】
描绘数据制作方法
本专利技术涉及一种描绘数据制作方法。
技术介绍
伴随着LSI的高集成化，半导体设备的电路线宽逐年微细化。为了对半导体设备形成期望的电路图案，采取了使用缩小投影型曝光装置将形成在石英上的高精度的原图图案(也称为掩模，或者在步进式光刻机(Stepper)或步进扫描式光刻机(scanner)中特别使用的也称为中间掩模(reticule))缩小转印到晶圆上的方法。高精度的原图图案是由电子束描绘装置描绘的，使用所谓的电子束光刻法技术。作为电子束描绘装置，例如，已知有使用多束一次照射许多束来提高生产能力的多束描绘装置。在该多束描绘装置中，例如，从电子枪射出的电子束贯通具有多个孔的孔径部件而形成多束，并在消隐板上对各射束进行消隐控制。未被屏蔽的射束被光学系统缩小，并被照射到描绘对象的掩模上的期望位置。在使用多束描绘装置进行电子束描绘的情况下，首先，设计半导体集成电路的布局，并生成设计数据作为布局数据。并且，将该设计数据中包含的多边形图形分割成多个梯形，由此生成被输入到多束描绘装置中的描绘数据。关于各梯形，将一个顶点作为配置原点，该描绘数据具有该配置原点的坐标数据和表示从配置原点到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种描绘数据制作方法，是制作在多带电粒子束描绘装置中使用的描绘数据的方法，其特征在于，包括：将设计数据中包含的多边形图形分割成多个梯形的工序，所述多个梯形各自的至少一组对边沿着第一方向平行，且所述多个梯形将平行于该第一方向的边作为公共边而在正交于该第一方向的第二方向上排列连结；以及在第一梯形、第二梯形和第三梯形沿着所述第二方向连结的情况下，用相对于该第一梯形和该第二梯形的公共顶点的位置的、所述第一方向和所述第二方向上的位移，来表现该第二梯形和该第三梯形的公共顶点的位置，来制作所述描绘数据的工序，在所述多个梯形中的至少一个梯形中，定义了所述第一方向上不同的剂量。

【技术特征摘要】
2017.03.30 JP 2017-0680451.一种描绘数据制作方法，是制作在多带电粒子束描绘装置中使用的描绘数据的方法，其特征在于，包括：将设计数据中包含的多边形图形分割成多个梯形的工序，所述多个梯形各自的至少一组对边沿着第一方向平行，且所述多个梯形将平行于该第一方向的边作为公共边而在正交于该第一方向的第二方向上排列连结；以及在第一梯形、第二梯形和第三梯形沿着所述第二方向连结的情况下，用相对于该第一梯形和该第二梯形的公共顶点的位置的、所述第一方向和所述第二方向上的位移，来表现该第二梯形和该第三梯形的公共顶点的位置，来制作所述描绘数据的工序，在所述多个梯形中的至少一个梯形中，定义了所述第一方向上不同的剂量。2.根据权利要求1所述的描绘数据制作方法，其特征在于，将所述多个梯形中的、所述第一方向上的长度大于规定大小的梯形，沿着该第一方向用该规定大小分割成多个区划，并对各区划定义剂量，制作所述描绘数据。3.根据权利要求2所述的描绘数据制作方法，其特征在于，在将所述第一方向设为上下方向的情况下，在所述描绘数据中，从下侧区划开始向上方依次定义所述第一梯形的各区划的剂量，从上侧区划...

【专利技术属性】
技术研发人员：原重博，安井健一，加藤靖雄，
申请(专利权)人：纽富来科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP