The invention relates to the field of material preparation, comprising a buffer gas outlet, a spray chamber, an electrospray device, a high voltage power supply, a buffer gas chamber, an air outlet I, an air outlet II, a buffer gas inlet, a vacuum chamber, a pump set, a diverter, a deposition chamber, a baffle, a direct current power supply, and a spray chamber and a buffer gas. The chamber, the vacuum chamber and the deposition chamber are connected in turn. The buffer gas chamber has the outlet I, the outlet II and the buffer gas inlet. The outlet II is round with a diameter of 2 mm. The outlet I is a ring with an inner diameter of 6 mm and an outer diameter of 8 mm. The buffer gas enters the buffer gas chamber from the inlet of the buffer gas and passes through the outlet I and the outlet II. The inner wall of the outer tube end of the electrospray device has the same shape of the gap, and the spacing between the adjacent notches is uniform, so that more local liquid electric spray can be generated by increasing the local electric field, and the distributor I has heating wires. The invention is suitable for macromolecule deposition.
【技术实现步骤摘要】
一种大分子沉积装置
本专利技术涉及材料制备领域,尤其是一种具有特殊喷雾装置及过滤方法的一种大分子沉积装置。
技术介绍
电喷雾沉积方法是一种用于沉积分子量较大且易分解的分子的方法,通过电喷雾装置使得包含有待沉积分子的溶液雾化,并使得分子带电而以离子形式进入真空系统,在电场或不同真空段的气压差的作用下运动并最终沉积到衬底上。现有技术缺陷一:采用室温温度的分流器来分隔真空腔内的不同真空段,缺点是容易堵塞,导致待沉积的分子的透射率较低;现有技术缺陷二:现有技术中采用的电喷雾装置产生的喷雾的质量流量输出较低,不适合于大量分子的沉积;现有技术缺陷三:现有技术中采用缓冲气体的逆流来达到稳定电喷雾射流的目的,即缓冲气体的流动方向与喷雾射流的方向相反,但是缓冲气体的逆流在空间中没有层次,极易形成湍流,从而会影响喷雾的均匀度及质量流量,所述一种大分子沉积装置能够解决问题。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术一种大分子沉积装置采用特殊的电喷雾装置、能够加热的分流器及特殊设计的缓冲气体出气口,克服了上述缺陷,适合于大量的大分子的沉积。本专利技术所采用的技术方案是:所述一种大分子沉积装置主要包括缓冲气出口、喷雾腔、电喷雾装置、高压电源、缓冲气体腔、出气口I、出气口II、缓冲气进口、真空腔、泵组I、分流器I、泵组II、分流器II、泵组III、沉积腔、挡板、直流电源和样品,xyz为三维坐标系,所述喷雾腔、缓冲气体腔、真空腔和沉积腔依次连接,所述真空腔被分流器I和分流器II分为真空段I、真空段II和真空段III,真空段I和真空段III分别位于真空腔的起始端和末端,所述起始端和末端均具 ...
【技术保护点】
1.一种大分子沉积装置,主要包括缓冲气出口(1)、喷雾腔(2)、电喷雾装置(3)、高压电源(4)、缓冲气体腔(5)、出气口I(6)、出气口II(7)、缓冲气进口(8)、真空腔(9)、泵组I(10)、分流器I(11)、泵组II(12)、分流器II(13)、泵组III(14)、沉积腔(15)、挡板(16)、直流电源(17)和样品(18),xyz为三维坐标系,所述喷雾腔(2)、缓冲气体腔(5)、真空腔(9)和沉积腔(15)依次连接,所述真空腔(9)被分流器I(11)和分流器II(13)分为真空段I(9‑1)、真空段II(9‑2)和真空段III(9‑3),真空段I(9‑1)和真空段III(9‑3)分别位于真空腔(9)的起始端和末端,所述起始端和末端均具有小孔,沉积腔(15)的起始端具有小孔;泵组I(10)、泵组II(12)和泵组III(14)分别连接真空段I(9‑1)、真空段II(9‑2)和真空段III(9‑3);所述挡板(16)和样品(18)位于沉积腔(15)中,挡板(16)为金属材质并具有通孔,所述通孔直径范围是一毫米至十毫米;直流电源(17)的一个电极连接挡板(16),另一个电极接地,能 ...
【技术特征摘要】
1.一种大分子沉积装置,主要包括缓冲气出口(1)、喷雾腔(2)、电喷雾装置(3)、高压电源(4)、缓冲气体腔(5)、出气口I(6)、出气口II(7)、缓冲气进口(8)、真空腔(9)、泵组I(10)、分流器I(11)、泵组II(12)、分流器II(13)、泵组III(14)、沉积腔(15)、挡板(16)、直流电源(17)和样品(18),xyz为三维坐标系,所述喷雾腔(2)、缓冲气体腔(5)、真空腔(9)和沉积腔(15)依次连接,所述真空腔(9)被分流器I(11)和分流器II(13)分为真空段I(9-1)、真空段II(9-2)和真空段III(9-3),真空段I(9-1)和真空段III(9-3)分别位于真空腔(9)的起始端和末端,所述起始端和末端均具有小孔,沉积腔(15)的起始端具有小孔;泵组I(10)、泵组II(12)和泵组III(14)分别连接真空段I(9-1)、真空段II(9-2)和真空段III(9-3);所述挡板(16)和样品(18)位于沉积腔(15)中,挡板(16)为金属材质并具有通孔,所述通孔直径范围是一毫米至十毫米;直流电源(17)的一个电极连接挡板(16),另一个电极接地,能够中和积聚在挡板(16)上的电荷;电喷雾装置(3)位于喷雾腔(2)内,电喷雾装置(3)由外管(1-1)、内管(1-2)、挡板(1-3)和液体...
【专利技术属性】
技术研发人员:周红晓,张向平,
申请(专利权)人:金华职业技术学院,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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