喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法制造方法及图纸

实现易于在狭小区域成膜的、喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法。喷雾器喷嘴1具备：载气的通道沿着该载气的流向而缩小的气体入口部(2)、载气的通道沿着该载气的流向而扩大的通路扩大部(3)、形成有将所述载气的通道与外部空间连通的一个或多个开口(4a)的开口形成部(4)、以及、所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小的气体出口部(5)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法
本专利技术涉及向基材同时喷射载气(CarrierGas)及膜材料从而在该基材上成膜的、喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法。
技术介绍
近年，在电子工学领域，电子部件及电路的小型化及轻量化不断发展。随之而来的是对于对微小区域进行表面处理(表面改性)以及在微小区域形成电极等的需求也不断增加。为了满足这样的需求，近年来利用喷涂法来成膜的方法受到了关注。例如，作为喷涂法之一，例如有包括以下步骤的的冷喷涂法：(1)使温度低于膜材料的融点或软化温度的载气高速流动，(2)向该载气的气流中投入膜材料来使其加速，(3)使膜材料以固相状态高速撞击基板等从而成膜。关于使用冷喷涂法来成膜的技术，在专利文献1～3中有所揭载。(现有技术文献)(专利文献)专利文献1：日本国公开专利公报“特开2011－240314号(2011年12月1日公开)”专利文献2：日本国公开专利公报“特开2005－95886号(2005年4月14日公开)”专利文献3：日本国公开专利公报“特开2009－120913号(2009年6月4日公开)”
技术实现思路
(专利技术要解决的课题)专利文献1～3所揭载的冷喷涂法均使用了载气通道沿着该载气的流向而扩大的喷雾器喷嘴。即，专利文献1～3的喷雾器喷嘴设计为喷雾器喷嘴的出口径大于入口径。其目的是为了使载气越靠近喷雾器喷嘴出口就越膨胀，从而利用该膨胀了的载气来使膜材料加速。由于专利文献1～3的喷雾器喷嘴中出口径大于入口径，因此如果在对比其出口径小的区域进行表面处理(表面改性)以及在该区域形成电极，则需要另外设置掩模。举例来看，现在喷雾器喷嘴已经实现了标准化，该标准化喷雾器喷嘴的入口径是直径2mm，出口径是直径5mm或6mm，长度是120mm。因此，在对比出口径(直径5mm或6mm)狭小的区域进行成膜时，需要花费时间及成本来设置掩模。另一方面，也可考虑不改变入口径的大小而只缩小出口径的方案，但是该方案下，喷雾器喷嘴内的载气膨胀受到抑制而不能使膜材料充分加速。因此，即使采用上述方案，成膜效率也低，很难在狭小的区域成膜。本专利技术是鉴于上述问题而实施的，本专利技术的目的在于实现易于在狭小区域成膜的、喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法。(解决课题的手段)为解决上述课题，本专利技术的喷雾器喷嘴是用以向基材同时喷射载气及膜材料从而在该基材上成膜的喷雾器喷嘴，该喷雾器喷嘴具备：气体入口部，该气体入口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小；与所述气体入口部相连的通路扩大部，该通路扩大部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而扩大；与所述通路扩大部相连的开口形成部，该开口形成部上形成有将所述载气的通道与外部空间连通的一个或多个开口；以及与所述开口形成部相连的气体出口部，该气体出口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。根据所述方案，所述喷雾器喷嘴的所述气体入口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。由此，所述载气的速度在所述气体入口部得到增加。此外，所述喷雾器喷嘴具备与所述气体入口部相连的所述通路扩大部。在所述通路扩大部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而扩大。由此，所述喷雾器喷嘴中，所述载气在所述通路扩大部得到膨胀，利用该膨胀了的载气来使膜材料加速。所述喷雾器喷嘴进一步具备所述开口形成部及所述气体出口部。在所述气体出口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。因此，所述载气可能会在所述气体出口部发生逆流而妨碍所述膜材料加速。但是，在所述开口形成部上形成有将所述载气的通道与外部空间连通的所述一个或多个开口，通过该一个或多个开口，所述载气的一部分被放出。由此，所述喷雾器喷嘴能够抑制所述载气在所述气体出口部逆流。结果是所述喷雾器喷嘴能够在不妨碍所述膜材料加速的情况下向所述基材喷射该膜材料。并且，所述喷雾器喷嘴的所述气体出口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。因此，与以往的喷雾器喷嘴相比，所述喷雾器喷嘴的气体出口部的出口面积能更小。结果是所述喷雾器喷嘴能够在不降低成膜效率的情况下容易地在狭小的区域成膜。为解决所述课题，本专利技术的喷雾器喷嘴是向基材同时喷射载气及膜材料从而在该基材上成膜的喷雾器喷嘴，该喷雾器喷嘴具备：气体入口部，该气体入口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小；与所述气体入口部相连的通路扩大部，该通路扩大部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而扩大，并且该通路扩大部上形成有将所述载气的通道与外部空间连通的一个或多个开口；以及与所述通路扩大部相连的气体出口部，该气体出口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。根据所述方案，所述喷雾器喷嘴的所述气体入口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。由此，所述载气的速度在所述气体入口部得到增加。此外，所述喷雾器喷嘴具备与所述气体入口部相连的所述通路扩大部。在所述通路扩大部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而扩大。由此，所述喷雾器喷嘴中，所述载气在所述通路扩大部得到膨胀，利用该膨胀了的载气来使膜材料加速。所述喷雾器喷嘴进一步具备所述气体出口部。在所述气体出口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。因此，所述载气可能会在所述气体出口部发生逆流而妨碍所述膜材料加速。但是，在所述通路扩大部上形成有将所述载气的通道与外部空间连通的所述一个或多个开口，通过该一个或多个开口，所述载气的一部分被放出。由此，所述喷雾器喷嘴能够抑制所述载气在所述气体出口部逆流。结果是所述喷雾器喷嘴能够在不妨碍所述膜材料加速的情况下向所述基材喷射该膜材料。并且，所述喷雾器喷嘴的所述气体出口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。因此，与以往的喷雾器喷嘴相比，所述喷雾器喷嘴的气体出口部的出口面积能够更小。结果是所述喷雾器喷嘴能够在不降低成膜效率的情况下容易地在狭小的区域成膜。(专利技术的效果)根据本专利技术，本专利技术的喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法能够起到易于在狭小区域成膜的效果。附图说明图1是本实施方式的喷雾器喷嘴的截面图。图2是本实施方式的冷喷涂装置的概要图。图3示出开口形成部的靠气体出口部侧的末端部上形成有开口的状态。图4示出开口形成部上形成有多个开口的状态。图5是气体出口部的详细说明图。图6是开口形成部、以及气体出口部中的载气的流动状况的说明图。图7是其他实施方式的喷雾器喷嘴的截面图。图8是实施例的喷雾器喷嘴的主要部分的外观图。图9是实施例的通路扩大部的截面图及仰视图。图10是实施例的气体出口部的截面图及俯视图。图11是实施例的开口形成部的截面图及俯视图。图12是使用实施例的喷雾器喷嘴时的成膜情况图。图13是使用以往喷雾器喷嘴时的成膜情况图。<附图标记说明>1、10喷雾器喷嘴2气体入口部3、6通路扩大部4开口形成部5气体出口部4a、4b、6a、8a、8b开口5a外侧筒部5b通道界定部7固定用螺钉20基材100冷喷涂装置110罐120加热器140供料器150基材架具体实施方式以下，参照附图对各实施方式进行说明。以下说明中，对相同部件及构成要素赋予相同符号。其名称及功能也相同。因此，不对其进行反复详细说明。〔实施方式1〕首先，参照图2，对使用了本实施方式的喷雾器喷嘴1的冷喷涂装置(成膜装置)100进行说明。以下说明中，以喷雾器喷嘴1适用于冷喷涂法为前提。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种喷雾器喷嘴，其中，该喷雾器喷嘴适用于通过向基材同时喷射载气及膜材料从而在该基材上成膜的成膜装置，该喷雾器喷嘴的特征在于，具备：气体入口部，该气体入口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小；与所述气体入口部相连的通路扩大部，该通路扩大部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而扩大；与所述通路扩大部相连的开口形成部，该开口形成部上形成有将所述载气的通道与外部空间连通的一个或多个开口；以及与所述开口形成部相连的气体出口部，该气体出口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.24 JP 2016-0606741.一种喷雾器喷嘴，其中，该喷雾器喷嘴适用于通过向基材同时喷射载气及膜材料从而在该基材上成膜的成膜装置，该喷雾器喷嘴的特征在于，具备：气体入口部，该气体入口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小；与所述气体入口部相连的通路扩大部，该通路扩大部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而扩大；与所述通路扩大部相连的开口形成部，该开口形成部上形成有将所述载气的通道与外部空间连通的一个或多个开口；以及与所述开口形成部相连的气体出口部，该气体出口部中，所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小。2.根据权利要求1所述的喷雾器喷嘴，其特征在于：所述一个或多个开口形成在所述开口形成部的靠所述气体出口部侧的末端部，或形成在该末端部附近。3.根据权利要求1或2所述的喷雾器喷嘴，其特征在于：所述气体出口部及所述开口形成部相互形成为一体并且相对于所述通路扩大部可拆装。4.根据权利要求1或2所述的喷雾器喷嘴，其特征在于：所述气体出口部相对于所述开口形成部可拆装。5.一种喷雾器喷嘴，其中，该喷雾器喷嘴适用于通过向基材同时喷射载气及膜材料从而在该基材上成膜的成膜装置，该喷雾器喷嘴的特征在于，具备：气体入口部，该气...

【专利技术属性】
技术研发人员：平野正树，
申请(专利权)人：拓自达电线株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP