【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及一种成膜装置。
技术介绍
1、以往，公知有作为喷镀法的一种的冷喷涂法。在冷喷涂法中，通过自喷枪的喷嘴顶端将成膜原料与载气一起向基材喷射，从而在该基材上进行成膜。若使用冷喷涂法，则能够抑制成膜原料在大气中的氧化和热变质，能够在基材上形成致密且密合性较高的覆膜。
2、冷喷涂法中使用的喷嘴有时会产生供载气和成膜原料流动的通路的内壁面的“堵塞”。堵塞是由于在成膜工序中粉末附着于通路的内壁面使通路变窄而产生的。
3、若通路的内壁面的堵塞变大，则成膜原料和工作气体无法在通路中流动，而无法相对于基材进行成膜。于是，在日本特许第6404532号(专利文献1)和日本特许5877590号(专利文献2)中，公开了一种具有能够防止成膜原料的粉末相对于喷嘴的内壁面的附着的喷嘴的冷喷涂装置。
4、现有技术文献
5、专利文献
6、专利文献1：日本特许第6404532号
7、专利文献2：日本特许第5877590号
技术实现思路
1、专利技术要解决的问题
2、喷嘴的通路的内壁面除了堵塞以外，有时还会产生“磨削”。在成膜工序中，由于成膜原料的粉末与通路的内壁面碰撞而产生磨削。若通路的内壁面的磨削变大，则通过通路的工作气体的流动相对于通常的流动产生变化。由此，相对于基材的成膜状态也意外地产生变化。但是，日本特许第6404532号和日本特许第5877590号中都没有公开任何从抑制磨削的观点出发的对策。
3、从抑制磨削
4、本公开的目的在于提供一种包括廉价且能够抑制通路的内壁面的磨削而改善了耐久性的喷嘴的成膜装置。
5、用于解决问题的方案
6、本公开的成膜装置是在喷镀法中使用的成膜装置。成膜装置具备：喷嘴；粉末供给部，其向上述喷嘴供给成为成膜原料的粉末；以及气体供给部，其向喷嘴供给工作气体。喷嘴具有：喷嘴管；陶瓷管，其与喷嘴管的供工作气体流动的上游侧连接；以及喷嘴支架，其供陶瓷管嵌插。喷嘴支架包括第1部分，该第1部分沿工作气体在喷嘴支架内流动的第1方向延伸。该成膜装置还具备连结粉末供给部与第1部分的配管。该配管的与第1部分连接的部分沿与第1方向交叉的第2方向延伸。
7、专利技术的效果
8、根据上述内容，能够提供一种包括廉价且能够抑制通路的内壁面的磨削而改善了耐久性的喷嘴的成膜装置。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种成膜装置，其在喷镀法中使用，其中，
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其中，
4.根据权利要求1～3中任一项所述的成膜装置，其中，
5.根据权利要求1～4中任一项所述的成膜装置，其中，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种成膜装置，其在喷镀法中使用，其中，
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
3.根据权利要求1或2所述的成膜装...
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