酸可裂解单体和包括其的聚合物制造技术

一种具有式(I)的单体：

Acid cracking monomer and polymer containing it

A monomer with type (I):

【技术实现步骤摘要】
酸可裂解单体和包括其的聚合物
本公开大体上涉及包括光酸产生剂的聚合物组合物。具体来说，本公开提供衍生自含碘单体的共聚物。
技术介绍
极紫外光刻(“EUVL”)是在<20nm的特征尺寸下取代用于体积半导体制造的光学光刻的主要技术选项之一。极短的波长(13.4nm)是多代技术所需高分辨率的关键促成因素。另外，整个系统概念-扫描曝光、投影光学器件、掩模格式和抗蚀剂技术-与当前光学技术所用的相当类似。与前几代光刻一样，EUVL由抗蚀剂技术、曝光工具技术和掩模技术组成。主要挑战为EUV源功率和吞吐量。EUV电源的任何改进都将直接影响目前严格的抗蚀剂灵敏度规格。实际上，EUVL成像中的主要问题是抗蚀剂灵敏度，灵敏度越低，需要的源功率越大或完全曝光抗蚀剂所需的曝光时间越长。功率级越低，影响印刷线的线边缘粗糙度(LER)的噪声越多。提高EUV灵敏度是关键促成因素。已表明，EUV光吸收截面和二次电子产生率是EUV灵敏度的关键因素。提高EUV光致抗蚀剂灵敏度的一种方式是增加其在13.5nm处的吸收截面，所述吸收截面是可以使用已知的原子吸收在理论上计算的材料的原子特性。构成抗蚀剂材料的典型原子，如碳、氧、氢和氮在13.5nm处具有非常弱的吸收。氟原子具有稍高的吸收，并且已用于寻找高EUV吸收光致抗蚀剂。碘在EUV辐射下具有显著高的吸收截面。最近的专利申请JP2015-161823公开可用于光刻加工的含碘单体和相应聚合物。然而，这些单体都不容易被酸裂解。因此，仍需要新的含碘高吸收性单体以产生可用于光刻加工的含碘聚合物。
技术实现思路
一实施例提供一种具有式(I)的单体：其中在式(I)中：Ra是H、F、-CN、C1-10烷基或C1-10氟烷基；R1和R2各自独立地是未经取代或经取代的C1-10直链或支链烷基、未经取代或经取代的C3-10环烷基、未经取代或经取代的C3-10烯基烷基、未经取代或经取代的C3-10炔基烷基或未经取代或经取代的C6-30芳基，其中R1和R2任选地包括至少一个选自O和S的连接基团，并且其中R1和R2一起任选地形成环；表示未经取代或经取代的单环或多环C6-30亚芳基或未经取代或经取代的单环或多环C3-30亚杂芳基，其中“*”和“*’”指示邻近基团或原子的连接点，“I”表示碘，和n是1、2、3、4、5、6、7、8和9。另一实施例提供一种共聚物，包括具有式(I)的单体和至少一种不同于具有式(I)的单体的不饱和单体的聚合产物。另一实施例提供一种共聚物，包括具有可聚合基团的光酸产生剂单体和具有式(I)的单体的聚合产物。具体实施方式现将详细参考示例性实施例，其实例在附图中示出，其中相同的参考数字始终指代相同的元件。就此来说，本专利技术示例性实施例可以具有不同形式并且不应被解释为限于本文中所阐述的描述。因此，下文仅通过参照图式描述示例性实施例以解释本专利技术描述的方面。如本文所用，术语“和/或”包括一个或多个相关联的所列项目中的任一个和所有组合。如“至少一个”的表述当在元件清单之前时，修饰整个元件清单并且不修饰清单的个别元件。应理解，当元件称为在另一元件“上”时，它可以直接与另一元件接触或可以在它们之间存在插入元件。相比之下，当元件称为“直接位于”另一元件“上”时，不存在插入元件。应理解，尽管在本文中可以使用术语第一、第二、第三等描述各种元件、组件、区域、层和/或区段，但这些元件、组件、区域、层和/或区段不应受这些术语限制。这些术语仅用于区分一个元件、组件、区域、层或区段与另一元件、组件、区域、层或区段。因此，下文论述的第一元件、组件、区域、层或区段可以称为第二元件、组件、区域、层或区段而不背离本专利技术实施例的教示内容。本文所用的术语仅出于描述特定实施例的目的并且并不意欲是限制性的。如本文所用，除非上下文另外明确地指示，否则单数形式“一(a/an)”和“所述”还意欲包括复数形式。应进一步理解，术语“包含(comprises和/或comprising)”或“包括(includes和/或including)”在用于本说明书中时指定所陈述特征、区域、整数、步骤、操作、元件和/或组件的存在，但不排除一个或多个其它特征、区域、整数、步骤、操作、元件、组件和/或其群组的存在或添加。如本文所用，“约”或“大致”包括陈述值并且意指在如由所属领域的普通技术人员所测定的特定值的可接受偏差范围内，考虑到所讨论的测量和与特定数量的测量相关联的误差(即测量系统的限制)。举例来说，“约”可以意指在一个或多个标准差内或在陈述值的±30％、20％、10％、5％内。除非另外定义，否则本文所用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本专利技术所属领域的普通技术人员通常所理解相同的含义。应进一步理解，术语(如常用词典中所定义的术语)应解释为具有与其在相关技术和本公开的上下文中的含义一致的含义，并且除非本文中明确地如此定义，否则将不会以理想化或过度形式化意义进行解释。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“烷基”是指衍生自直链或支链饱和脂族烃的具有规定数目碳原子并且具有至少一价的基团。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“氟烷基”是指一个或多个氢原子经氟原子置换的烷基。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“烷氧基”是指“烷基-O-”，其中术语“烷基”具有与上文所述相同的含义。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“氟烷氧基”是指一个或多个氢原子经氟原子置换的烷氧基。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“环烷基”是指具有一个或多个饱和环的单价基团，其中所有环成员是碳。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“烯基”是指具有至少一个碳碳双键的直链或支链单价烃基。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“烯基烷基”是指“烯基-烷基-”，其中术语“烯基”和“烷基”具有与上文所述相同的含义。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“炔基”是指具有至少一个碳碳三键的直链或支链单价烃基。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“炔基烷基”是指“炔基-烷基-”，其中术语“炔基”和“烷基”具有与上文所述相同的含义。如本文所用，当不另外提供定义时，单独或组合使用的术语“芳基”是指含有至少一个环并且具有规定数目的碳原子的芳族或杂芳族烃。术语“芳基”可以解释为包括具有与至少一个环烷基或杂环烷基环稠合的芳族或杂芳环的基团。“芳基”可以包括一个或多个独立地选自氮(N)、氧(O)、P(磷)和硫(S)的杂原子。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“芳氧基”是指“芳基-O-”，其中术语“芳基”具有与上文所述相同的含义。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“芳烷基”是指与连接到化合物的烷基共价连接的经取代或未经取代的芳基。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“亚烷基”是指具有至少两价的直链或支链饱和脂族烃基，任选地在指示处经一个或多个取代基取代，限制条件是不超过亚烷基的价数。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“亚环烷基”是指具有至少两价的环烃基，任选地在指示处经一个或多个取代基取代，限制条件是不超过亚环烷基的价数。如本文所用，当不另外提供定义时，术语“亚芳基”是指通过去除芳环中的两个氢获得的具有至少两价的官能团，任选地在指示处经一个或多个取代基取代，限制条件是不超过亚芳基的价数。如本文所用，当不另外提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单体，具有式(I)：

【技术特征摘要】
2017.03.31 US 15/4756301.一种单体，具有式(I)：其中在式(I)中：Ra是H、F、-CN、C1-10烷基或C1-10氟烷基；R1和R2各自独立地是未经取代或经取代的C1-10直链或支链烷基、未经取代或经取代的C3-10环烷基、未经取代或经取代的C3-10烯基烷基、未经取代或经取代的C3-10炔基烷基或未经取代或经取代的C6-30芳基，其中R1和R2任选地包含至少一个选自O和S的连接基团，并且其中R1和R2一起任选地形成环；表示未经取代或经取代的单环或多环C6-30亚芳基或未经取代或经取代的单环或多环C3-30亚杂芳基，其中“*”和“*’”指示邻近基团或原子的连接点；“I”表示碘；和n是1、2、3、4、5、6、7、8和9。2.根据权利要求1所述的单体，其中所述C6-30亚芳基是单环C6-30亚芳基、稠合双环C6-30亚芳基或单键结合的C6-30亚芳基。3.根据权利要求1或2所述的单体，其中R1和R2中的每一个是未经取代的C1-10直链或支链烷基。4.根据权利要求3所述的单体，其中R1和R2中的一个是未经取代的C1-10直链或支链烷基并且R1和R2中的另一个是经至少一个氟原子取代的C1-10直链或支链烷基。5.根据权利要求1至4中任一项所述的单体，其中n是1、2或3。6.一种共聚物，包含根据权利要求1至5中任一项所述的单体的聚合产物。7.根据权利要求6所述的共聚物，另外包含碱溶性单体、含有内酯的单体或其组合的聚合产物。8.根据权利要求7所述的共聚物，其中所述碱溶性单体由式(II)表示，并且其中所述含有内酯的单体由式(III)表示：其中各Ra独立地是H、F、C1-10烷基或C1-10氟烷基；Q1是选自C1-20烷基、C3-20环烷基、C6-20芳基和C7-20芳烷基的含酯或不含酯基团；W是碱反应性基团，包含-C(＝O)-OH；-C(CF3)2OH；-NH-SO2-Y1，其中Y1是F或C1-4全氟烷基；芳族-OH；或前述任一个与乙烯基醚的加合物；a是1至3的整数；和L是含有单环、多环或稠合多环C4-20内酯的基团。9.根据权利要求6至8中任一项所述的共聚物，另外包含具有光酸产生剂的单体的聚合产物。10.根据权利要求9所述的共聚物，其中所述包含可聚合基团的光酸产生剂单体由式(VIII)表示：其中Ra独立地是H、F、C1-10烷基或C1-10氟烷基；Q2是单键或选自C1-20亚烷基、C3-20亚环烷基、C6-20亚芳基和C7-20亚芳烷基的含酯或不含酯的氟化或未氟化基团；A是选自C1-20亚烷基、C3-20亚环烷基、C6-20亚芳基和C7-20亚芳烷基的含酯或不含酯的氟化或...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·阿卡德，J·W·萨克莱，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国,US