一种基板、掩膜版、显示面板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:19221845 阅读:110 留言:0更新日期:2018-10-20 09:34
本实用新型专利技术公开了一种基板、掩膜版、显示面板及显示装置,所述基板包括:衬底基板以及设置于衬底基板上的彩色光阻层;基板具有显示区和非显示区;其中,非显示区中的彩色光阻层设置有削弱单元,用于削弱或断开非显示区中远离显示区一端的彩色光阻层与显示区中的彩色光阻层的连接。上述基板通过设置削弱单元,当基板在显影冲洗过程中即使非显示区中的彩色光阻层被剥离起来,显示区中的彩色光阻层也不会被连带一起剥离,能够保证显示区中彩色光阻层的安全可靠。因此,本申请能够避免显示区的彩色光阻层在显影冲洗过程中被非显示区中彩色光阻层连带剥离,进而减小显示区彩色光阻层脱模的风险,提高产品品质。

A substrate, mask, display panel and display device.

The utility model discloses a substrate, a mask plate, a display panel and a display device. The substrate comprises a substrate substrate and a color photoresistive layer arranged on the substrate substrate; the substrate has a display area and a non-display area; and the color photoresistive layer in the non-display area is provided with a weakening unit for weakening or disconnecting the non-display area. The color resist layer at one end of the display area is connected with the color resist layer in the display area. The substrate is provided with a weakening unit, and when the substrate is peeled off in the developing and flushing process, even the color light-resisting layer in the non-display area will not be peeled off together, thus ensuring the safety and reliability of the color light-resisting layer in the display area. Therefore, the application can avoid the color light barrier layer in the display area being stripped by the color light barrier layer in the non-display area during the development and development process, thereby reducing the risk of color light barrier layer demoulding in the display area and improving the product quality.

【技术实现步骤摘要】
一种基板、掩膜版、显示面板及显示装置
本技术涉及液晶显示相关
,特别是指一种基板、掩膜版、显示面板及显示装置。
技术介绍
在现有技术中,参照图1和图2所示,分别为现有技术中彩膜基板的剖视图和俯视图;由图可知,所述彩膜基板中包括显示区12和非显示区11,且处于衬底基板1上的彩色光阻层3同时覆盖到显示区12和非显示区11;也即非显示区11中的彩色光阻层(DummyRGB)为显示区12中的RGBPattern条的延伸,DummyRGB的完整性直接影响AA(显示区)RGB的完整性。由于DummyRGB区存在Pattern条断面,所以当显影冲洗力或AirKnife吹干力作用在Pattern断面方向时,Pattern条断面受力比较集中,受侵蚀比较彻底,容易导致DummyRGB被剥起,造成DummyPattern脱膜和缺失,基于DummyPattern与AAPattern为一体结构,容易连带AAPattern一同剥起,造成AA(显示区)区脱膜问题,影响产品显示。因此,在实现本申请的过程中,专利技术人发现现有技术至少存在以下缺陷:当前的基板中彩色光阻层连贯一体的结构容易由于显影冲洗过程导致显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板,其特征在于,包括:衬底基板以及设置于所述衬底基板上的彩色光阻层;所述基板具有显示区和非显示区;其中,所述非显示区中的彩色光阻层设置有削弱单元,用于削弱或断开所述非显示区中远离所述显示区一端的彩色光阻层与所述显示区中的彩色光阻层的连接。

【技术特征摘要】
1.一种基板,其特征在于,包括:衬底基板以及设置于所述衬底基板上的彩色光阻层;所述基板具有显示区和非显示区;其中,所述非显示区中的彩色光阻层设置有削弱单元,用于削弱或断开所述非显示区中远离所述显示区一端的彩色光阻层与所述显示区中的彩色光阻层的连接。2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述削弱单元为隔断结构。3.根据权利要求2所述的基板,其特征在于,所述隔断结构的宽度小于预设的隔断宽度阈值。4.根据权利要求2所述的基板,其特征在于,所述隔断结构沿直线延伸;所述显示区和所述非显示区之间的连线方向为横向方向;所述隔断结构的延伸方向在所述彩色光阻层对应的平面内与所述横向方向形成小于90度的夹角。5.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,所述显示区中的彩色光阻层与所述隔断结构具有第一接触面;所述第一接触面与所述横向方向形成小于90度的夹角。6.根据权利要求2所述的基板,其特征在于,所述隔断结构与彩色光阻层的接触面设置为曲面。7.根据权利要求6所述的基板,其特征在于,靠近所述显示区的彩色光阻层与所述隔断结构对应的接触面设置为曲面。8.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:王雄伟赵宝杰李坚王丽惠翔赵言麻清琳马春红
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
类型:新型
国别省市:北京,11

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