一种显示面板、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置，该制作方法，包括：提供多个第一基板和多个第二基板；第一基板包括多个第一对位标记，第二基板包括多个分别与各第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的第一对位标记与第二对位标记对应一个基准坐标值；获取每一个第一对位标记和每一个第二对位标记的实际坐标值；根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势；将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒。该制作方法，将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒，提高了对位精度和对比度。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板、其制作方法及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。
技术介绍
薄膜晶体管显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)技术经过最近几十年的发展，技术和工艺日趋成熟，已经取代冷阴二极管(ColdCathodeFluorescentLamp，CCFL)显示器，成为显示领域的主流产品。液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)产品生产过程主要分为四个步骤：阵列(Array)基板制作、彩膜(CF)基板制作、对盒(Cell)、组装(Module)。其中，对盒(Cell)工艺又可以细分为取向膜(PI)制作、对取向膜进行紫外光配向(OA)、滴下式注入(OneDropFilling，ODF)液晶、切割(Cutting)几个部分，其中ODF工艺部分就是对前段工艺形成的阵列基板和彩膜基板进行对盒，形成真空液晶盒(Cell)。ODF工艺中选择对阵列基板进行液晶滴下，对彩膜基板进行密封胶(Sealant)涂覆，之后在真空环境下进行成盒，如图1a所示，其中，步骤(1)表示制作阵列基板或彩膜基板，步骤(2)表示在彩膜基板上涂覆密封胶，步骤(3)表示在阵列基板上滴下液晶，步骤(4)表示在真空环境下将阵列基板与彩膜基板对盒。现有技术中，在ODF工艺阶段，是将彩膜基板和阵列基板进行随机对盒，由于随机对盒时，阵列基板的对位标记(TP)的波动趋势和彩膜基板的对位标记的波动趋势不一致，因而阵列基板与彩膜基板无法对齐，导致阵列基板上的金属走线无法被彩膜基板上的黑矩阵(BlackMatrix，BM)完全遮挡，从而导致对盒后出现串色不良和金属走线裸露现象，如图1b所示，由于数据线(SD线)已经偏离黑矩阵(BM)的遮挡，部分数据线的图像裸露在R/G/B亚像素中。在进行电学(ET)检测时，零灰阶(L0)画面下金属走线的反光效应造成亮度增大，也就是L0增大，在255灰阶(L255)亮度不变的情况下，L255/L0比值减小，从而使对比度CR(L255/L0)偏低。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置，用以解决现有技术中存在的由于随机对盒，阵列基板与彩膜基板无法对齐，导致显示面板出现串色不良和对比度低的问题。第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板的制作方法，包括：提供多个第一基板和多个第二基板；所述第一基板包括多个第一对位标记，所述第二基板包括多个分别与各所述第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的所述第一对位标记与所述第二对位标记对应一个基准坐标值；获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值；根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势；将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值，包括：针对每一个所述第一基板，根据各所述基准坐标值，逐个确定各所述第一对位标记的实际坐标值，以及针对每一个所述第二基板，根据各所述基准坐标值，逐个确定各所述第二对位标记的实际坐标值。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势，包括：按照预先设定的方式将所述第一基板中的至少部分所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；针对每一个所述第一基板，按照所述预先设定的方式将至少部分所述第一对位标记的实际坐标值进行连线，得到第二图形，比较所述第二图形与所述第一图形得到所述第一基板的形变趋势；针对每一个所述第二基板，按照所述预先设定的方式将至少部分所述第二对位标记的实际坐标值进行连线，得到第三图形，比较所述第三图形与所述第一图形得到所述第二基板的形变趋势。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述按照预先设定的方式将所述第一基板中的至少部分所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形，包括：将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；或，将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，以及将各列的所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；或，将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，以及将各列和各行的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒，包括：将偏移方向一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板；所述将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒，包括：将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值大于对应的所述第二对位标记的实际坐标值的所述彩膜基板与阵列基板进行对盒。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值大于对应的所述第二对位标记的实际坐标值的所述彩膜基板与阵列基板进行对盒，包括：将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值与对应的所述第二对位标记的实际坐标值的差值在1μm～2μm范围内的所述彩膜基板与所述阵列基板进行对盒。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述提供多个第一基板和多个第二基板，包括：提供包括多个均匀分布的所述第一对位标记的所述第一基板，以及包括多个均匀分布的所述第二对位标记的所述第二基板。第二方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，所述显示面板由上述显示面板的制作方法制作而成。第三方面，本专利技术实施例提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。本专利技术有益效果如下：本专利技术实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，该制作方法，包括：提供多个第一基板和多个第二基板；第一基板包括多个第一对位标记，第二基板包括多个分别与各第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的第一对位标记与第二对位标记对应一个基准坐标值；获取每一个第一对位标记和每一个第二对位标记的实际坐标值；根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势；将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒。本专利技术实施例提供的制作方法，在进行对盒之前，根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势，并将形变趋势一致的第一基板与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供多个第一基板和多个第二基板；所述第一基板包括多个第一对位标记，所述第二基板包括多个分别与各所述第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的所述第一对位标记与所述第二对位标记对应一个基准坐标值；获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值；根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势；将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供多个第一基板和多个第二基板；所述第一基板包括多个第一对位标记，所述第二基板包括多个分别与各所述第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的所述第一对位标记与所述第二对位标记对应一个基准坐标值；获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值；根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势；将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒。2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值，包括：针对每一个所述第一基板，根据各所述基准坐标值，逐个确定各所述第一对位标记的实际坐标值，以及针对每一个所述第二基板，根据各所述基准坐标值，逐个确定各所述第二对位标记的实际坐标值。3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势，包括：按照预先设定的方式将所述第一基板中的至少部分所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；针对每一个所述第一基板，按照所述预先设定的方式将至少部分所述第一对位标记的实际坐标值进行连线，得到第二图形，比较所述第二图形与所述第一图形得到所述第一基板的形变趋势；针对每一个所述第二基板，按照所述预先设定的方式将至少部分所述第二对位标记的实际坐标值进行连线，得到第三图形，比较所述第三图形与所述第一图形得到所述第二基板的形变趋势。4.如权利要求3所述的制作方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭艳召，孟维欣，陈强，夏高飞，任伟，黎文秀，见帅敏，岳景明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11