一种可实现自动翻转的基片架制造技术

本专利公开了一种可实现自动翻转的基片架，用于在基片上形成溅射层环境下，包括：翻转机构、旋转机构和棘轮机构；所述棘轮机构与夹持所述夹爪相连接，用于传递翻转的动力，从而驱动所述夹爪带动基片翻转。所述旋转机构与设置多个夹爪的圆盘啮合，从而驱动所述转盘旋转带动所述转盘上的夹爪转动。所述翻转机构与所述转盘上的棘轮机构配合，并带动所述棘轮机构翻转所述夹爪。通过设置棘轮和棘爪的配合，同时利用了杠杆的升降和转盘转动的力同时驱动基片卡具的翻转，在保证了翻转稳定可靠的工作的情况下，节约了有限的利用空间。

【技术实现步骤摘要】
一种可实现自动翻转的基片架
本专利主要半导体设备制造
，尤其涉及一种可实现自动翻转的基片架。
技术介绍
真空镀膜设备根据其镀膜原理及形式的不同，主要分为物理气相沉积设备及化学气相沉积设备。其中真空溅射镀膜设备和真空蒸发镀膜设备是最为常见、应用最广的镀膜设备。随着科技的日益进步及经济的不断发展，真空镀膜设备的应用越来越广泛，特别是真空溅射镀膜设备及真空蒸发镀膜设备在光学、电子等领域的应用。同时，不断创新的镀膜工艺对镀膜设备的性能要求越来越高。在镀膜设备，无论是真空溅射镀膜设备还是真空蒸发镀膜设备，各部分结构中，基片架的结构是最为重要的。它是被镀产品——基片安装、固定的机构，基片架结构设计的合理性直接关系到镀膜的效果和质量。由于溅射镀膜和蒸发镀膜绕射性差，即基片面对镀膜材料的一面可以沉积上薄膜而背对膜材的一面却不能沉积上薄膜，的特点，然而更多的产品例如精密天文望远镜镜片、晶体膜厚测控仪晶振片等都要求在基片两面上沉积一种或几种相同或不同的薄膜。若采用传统的基片架结构，就只能在完成基片一面的镀膜工作后打开真空室，换成另一面进行镀膜，不但影响了工作效率，而且损害了镀膜质量。为了保证镀膜质本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可实现自动翻转的基片架，用于溅射镀膜设备和真空蒸发镀膜设备环境下，其特征在于，包括：翻转机构、旋转机构和棘轮机构；所述棘轮机构夹持所述基片，并传递旋转和翻转所述基片的旋转力和翻转力；包括工件、工件卡具、棘轮，卡具支座；所述工件用于半导体元器件基片；工件卡具整体呈现三方封闭一方开口的形状，所述卡具穿过底壁中心与侧壁平行的轴线倾斜设置，从水平面方向向上延伸；所述工件卡具的底壁外侧，垂直于所述底壁的方向设置有一轴，所述轴穿过卡具支座上的孔轴后，安装上棘轮；所述卡具支座固定设置在所述旋转机构上；旋转机构，所述旋转机构包括转盘、电机和驱动机构，所述转盘上承载多个所述棘轮机构，所述电机通过驱动机构...

【技术特征摘要】
1.一种可实现自动翻转的基片架，用于溅射镀膜设备和真空蒸发镀膜设备环境下，其特征在于，包括：翻转机构、旋转机构和棘轮机构；所述棘轮机构夹持所述基片，并传递旋转和翻转所述基片的旋转力和翻转力；包括工件、工件卡具、棘轮，卡具支座；所述工件用于半导体元器件基片；工件卡具整体呈现三方封闭一方开口的形状，所述卡具穿过底壁中心与侧壁平行的轴线倾斜设置，从水平面方向向上延伸；所述工件卡具的底壁外侧，垂直于所述底壁的方向设置有一轴，所述轴穿过卡具支座上的孔轴后，安装上棘轮；所述卡具支座固定设置在所述旋转机构上；旋转机构，所述旋转机构包括转盘、电机和驱动机构，所述转盘上承载多个所述棘轮机构，所述电机通过驱动机构与所述转盘相连，驱动所述转盘沿着其中心转动；翻转机构，包括棘爪、轴、拉杆、杠杆、气缸；杠杆与杠杆座连接，杠杆可以以杠杆与杠杆座的连接点为中心旋转；杠杆的一端A与气缸固定，杠杆的另一端B与拉杆固定；拉杆与轴以及与棘爪连接；当气缸收缩时，气缸拉动杠杆以杠杆座为中心转动，杠杆推动拉杆上升，进而实现棘爪的上升；当气缸伸长时，气缸推动杠杆以杠杆座为中心逆时针转动，杠杆拉动拉杆下降，进而实现棘爪的下降；当所述棘爪上升且棘轮机构旋转至棘爪上方时，所述翻转机构上的棘爪与所述棘轮机构上的棘轮接触，同时，由于棘轮本身是随着圆盘旋转的，而...

【专利技术属性】
技术研发人员：李辉，段瑞飞，王军喜，曾一平，付强，
申请(专利权)人：北京中科优唯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11