一种CT扫描仪辐射源焦点的确定方法和系统技术方案

一种用于CT成像系统的焦点确定方法，所述CT成像系统包括扫描器，所述扫描器包括辐射源以及至少一个反散射滤线栅，所述反散射滤线栅包括一个或多个容纳两个及以上检测单元的第一栅格，所述反散射滤线栅基于所述辐射源的第一焦点配置，所述方法包括：确定入射在所述扫描器的第一检测单元上的第一辐射的第一强度；确定入射在所述扫描器的第二检测单元上的第二辐射的第二强度，其中，所述第一辐射和第二辐射均从所述辐射源的第二焦点发出；以及，基于所述第一强度和所述第二强度确定从所述第一焦点到所述第二焦点的焦点位移，所述焦点位移包括位移方向，其中，所述第一检测单元与所述第二检测单元位于相同或不同的第一栅格中。

Method and system for determining focal point of radiation source of CT scanner

A focus determination method for a CT imaging system includes a scanner comprising a radiation source and at least one backscatter filter grid comprising one or more first grids containing two or more detection units based on the radiation source. The first focus configuration includes: determining the first intensity of the first radiation incident on the first detection unit of the scanner; determining the second intensity of the second radiation incident on the second detection unit of the scanner, wherein both the first and second radiations are from the second focus of the radiation source Emitted; and, based on the first strength and the second strength, the focus displacement from the first focus to the second focus is determined, including the displacement direction, where the first detection unit and the second detection unit are located in the same or different first grid.

【技术实现步骤摘要】
一种CT扫描仪辐射源焦点的确定方法和系统
本专利技术涉及焦点确定方法和系统，尤其是涉及CT扫描仪辐射源焦点的确定方法和系统。
技术介绍
在装配有反散射滤线栅(Anti-scattergrid，ASG，或称为滤线栅)的计算机断层(CT)扫描仪的扫描期间，CT扫描仪辐射源的焦点位移可能导致辐射源发射的预期由CT扫描仪的检测器接收的辐射的一部分被滤线栅阻挡，造成扫描图像的品质下降。多种硬件相关技术(例如，焦点追踪)或软件相关技术(例如，图像后处理)可以用于补偿这种图像品质下降。然而，大多数此类技术需要确定焦点位移。因此，需要一种低成本且高可靠性的用于在CT扫描仪的扫描期间确定焦点位移的方法。
技术实现思路
为了克服现有技术中存在的问题，本专利技术旨在提供一种用于CT扫描仪的焦点确定方法和系统。为达到上述专利技术目的，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术实施例提供了一种用于CT成像系统的焦点确定方法，所述CT成像系统包括扫描器，所述扫描器包括辐射源以及至少一个反散射滤线栅，所述反散射滤线栅包括一个或多个容纳两个及以上检测单元的第一栅格，所述反散射滤线栅基于所述辐射源的第一焦点配置，所述方法包括：确定入射在所述扫描器的第一检测单元上的第一辐射的第一强度；确定入射在所述扫描器的第二检测单元上的第二辐射的第二强度，其中，所述第一辐射和第二辐射均从所述辐射源的第二焦点发出；以及，基于所述第一强度和所述第二强度确定从所述第一焦点到所述第二焦点的焦点位移，所述焦点位移包括位移方向，其中，所述第一检测单元与所述第二检测单元位于相同或不同的第一栅格中。可选的，所述反散射滤线栅的构造造成所述第一强度不同于所述第二强度。可选的，确定所述焦点位移具体包括：确定所述第一强度和第二强度的比值；确定所述焦点位移和所述比值之间的关联，其中，所述焦点位移基于所述比值和所述关联进行确定。可选的，所述方法还包括：通过控制所述扫描器对扫描对象进行扫描获得扫描数据；以及基于所述扫描数据和所述焦点位移生成扫描图像，其中所述第一辐射和第二辐射在获得所述扫描数据的过程中发射。可选的，所述方法还包括：获得和所述反散射滤线栅的构造相关的参数，其中，所述参数、所述第一强度和所述第二强度共同用于确定所述焦点位移，以及，所述参数包括所述反散射滤线栅的至少一个部位的高度和从所述第二焦点到该部位顶部的距离。本专利技术实施例还提供了一种CT成像系统，包括焦点确定程序和扫描器，所述扫描器包括辐射源以及至少一个反散射滤线栅，所述反散射滤线栅包括一个或多个容纳两个及以上检测单元的第一栅格，所述反散射滤线栅基于所述辐射源的第一焦点配置，所述焦点确定程序的执行过程如下：确定入射在所述扫描器的第一检测单元上的第一辐射的第一强度；确定入射在所述扫描器的第二检测单元上的第二辐射的第二强度，其中，所述第一辐射和第二辐射均从所述辐射源的第二焦点发出；以及基于所述第一强度和所述第二强度确定从所述第一焦点到所述第二焦点的焦点位移，所述焦点位移包括位移方向，其中，所述第一检测单元与所述第二检测单元位于相同或不同的第一栅格中，以及，所述反散射滤线栅的构造造成所述第一强度不同于所述第二强度。可选的，所述焦点确定程序的执行过程还包括：确定所述第一强度和第二强度的比值；以及，确定所述焦点位移和所述比值之间的关联，其中所述焦点位移基于所述比值和所述关联进行确定。可选的，所述焦点确定程序的执行过程还包括：获得和所述反散射滤线栅的构造相关的参数，所述参数、所述第一强度和所述第二强度共同用于确定所述焦点位移，其中所述参数包括所述反散射滤线栅的至少一个部位的高度和从所述第二焦点到该部位顶部的距离。本专利技术实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述存储介质存储计算机指令，当计算机读取存储介质中的计算机指令后，计算机运行如本专利技术实施例所提供的CT成像系统的焦点确定方法。本专利技术实施例还提供了一种用于确定CT扫描仪的辐射源焦点的反散射滤线栅，包括多个壁板，所述壁板用于阻挡X射线，所述壁板界定了多个栅格，其中，所述多个栅格包括一个或多个第一栅格，以及，当所述反散射滤线栅安装于一个CT扫描仪的检测器上时，所述第一栅格容纳所述检测器上的至少两个检测单元。本专利技术实施例的技术方案中，利用了区别于传统滤线栅的非均匀滤线栅测定CT扫描仪的辐射源焦点位移。和传统的滤线栅相比，非均匀滤线栅可以在较低的计算资源占用下，有效区分由焦点位移造成的辐射接收量下降和由其他系统原因造成的辐射接收量下降，从而降低了焦点位移的计算复杂度和计算资源的占用。此外，本专利技术的技术方案还允许在对扫描对象进行扫描时同时进行焦点位移的测定，可省去对CT扫描仪单独进行的焦点确定操作，并可随时确定CT扫描仪的焦点位置，从而提高了最终生成的CT图像质量。附图说明在此所述的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的限定。各图中相同的标号表示相同的部件，其中：图1-A是根据本专利技术的一些实施例的CT系统的示意图；图1-B是根据本专利技术的一些实施例的CT扫描仪的结构和机制的示意图；图2-A是根据本专利技术的一些实施例的计算设备的硬件和/或软件组件的示意图；图2-B是根据本专利技术的一些实施例的移动设备的硬件和/或软件组件的示意图；图3是根据本专利技术的一些实施例的处理引擎的示意图；图4-A是CT扫描仪中辐射源的焦点改变所造成影响的示意图；图4-B是根据本专利技术的一些实施例的非均匀滤线栅的示意图；图4-C是根据本专利技术的一些实施例的非均匀滤线栅的示意图；图4-D是根据本专利技术的一些实施例的非均匀滤线栅的示意图；图5是根据本专利技术的一些实施例的确定辐射源焦点的流程的示意图；图6是根据本专利技术的一些实施例的基于第一强度和第二强度确定焦点位移的流程的示意图；图7-A和图7-B是根据本专利技术的一些实施例的图6中所示流程的示意图；图8是根据本专利技术的一些实施例的基于第一强度和第二强度确定焦点位移的流程的示意图；以及图9-A和图9-B是根据本专利技术的一些实施例的用于生成第一强度与第二强度的比值与焦点位移之间的关联的技术的示意图。具体实施方式本专利技术涉及在执行扫描期间，装配有非均匀反散射滤线栅的CT扫描仪的焦点确定方法和系统。在下面的具体实施方式中，通过示例阐述了许多具体细节，以便提供对相关专利技术的全面理解。然而，本领域的技术人员应清楚，即使没有这类具体细节也可实施本专利技术。本专利技术并不旨在受限于所示的实施例，而是要符合与权利要求书相一致的最大范围。本专利技术所用的术语仅用于描述特定示例性实施例，并不旨在对其进行限制。除非上下文明确提示例外情形，否则本专利技术所用的“一”、“一个”、“一种”和“该”等词并非特指单数，也可包括复数。可以进一步理解的是，说明书中所用的术语“包括”与“包含”是指存在多个列出的特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除呈现或添加一个或多个其它特征、整数、步骤、操作、元件、组件，和/或它们的组合。图1-A是根据本专利技术的一些实施例的CT系统的示意图。如图所示，CT系统100可以包括CT扫描仪110、网络120、一个或多个终端130、处理引擎140和存储器150。CT扫描仪110可以包括机架111、检测器112、检测区域113、工作台114和辐射源115。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于CT成像系统的焦点确定方法，所述CT成像系统包括扫描器，所述扫描器包括辐射源，其特征在于，所述扫描器还包括至少一个反散射滤线栅，所述反散射滤线栅包括一个或多个容纳两个及以上检测单元的第一栅格，所述反散射滤线栅基于所述辐射源的第一焦点配置，所述方法包括：确定入射在所述扫描器的第一检测单元上的第一辐射的第一强度；确定入射在所述扫描器的第二检测单元上的第二辐射的第二强度，其中，所述第一辐射和第二辐射均从所述辐射源的第二焦点发出；以及基于所述第一强度和所述第二强度确定从所述第一焦点到所述第二焦点的焦点位移，所述焦点位移包括位移方向，其中所述第一检测单元与所述第二检测单元位于相同或不同的第一栅格中。

【技术特征摘要】
2017.08.31 CN PCT/CN2017/0998991.一种用于CT成像系统的焦点确定方法，所述CT成像系统包括扫描器，所述扫描器包括辐射源，其特征在于，所述扫描器还包括至少一个反散射滤线栅，所述反散射滤线栅包括一个或多个容纳两个及以上检测单元的第一栅格，所述反散射滤线栅基于所述辐射源的第一焦点配置，所述方法包括：确定入射在所述扫描器的第一检测单元上的第一辐射的第一强度；确定入射在所述扫描器的第二检测单元上的第二辐射的第二强度，其中，所述第一辐射和第二辐射均从所述辐射源的第二焦点发出；以及基于所述第一强度和所述第二强度确定从所述第一焦点到所述第二焦点的焦点位移，所述焦点位移包括位移方向，其中所述第一检测单元与所述第二检测单元位于相同或不同的第一栅格中。2.如权利要求1所述方法，其特征在于，所述反散射滤线栅的构造造成所述第一强度不同于所述第二强度。3.如权利要求1所述方法，其特征在于，确定所述焦点位移包括：确定所述第一强度和第二强度的比值；确定所述焦点位移和所述比值之间的关联，其中所述焦点位移基于所述比值和所述关联进行确定。4.如权利要求1所述方法，其特征在于，所述方法还包括：通过控制所述扫描器对扫描对象进行扫描获得扫描数据；以及基于所述扫描数据和所述焦点位移生成扫描图像，其中所述第一辐射和第二辐射在获得所述扫描数据的过程中发射。5.如权利要求1所述方法，其特征在于，所述方法还包括：获得和所述反散射滤线栅的构造相关的参数，其中，所述参数、所述第一强度和所述第二强度共同用于确定所述焦点位移，以及，所述参数包括所述反散射滤线栅的至少一个部位的高度和从所述第二焦点到该部位顶部的距离。6.一种CT成像系统，包括焦点确定程...

【专利技术属性】
技术研发人员：江一峰，
申请(专利权)人：上海联影医疗科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31