硅片生产工艺中水泵的控制方法和装置制造方法及图纸

技术编号:19164167 阅读:18 留言:0更新日期:2018-10-13 13:57
本申请公开了一种硅片生产工艺中水泵的控制方法和装置,该方法包括如下步骤:分别获取硅片生产过程中在冷却工艺、切割工艺、清洗工艺阶段的参数信息;根据每个生产工艺的参数信息,确定分别为冷却工艺、切割工艺、清洗工艺供水的第一水泵、第二水泵、第三水泵的电机运行频率,并根据分别为冷却工艺、切割工艺、清洗工艺供水的第一水箱、第二水箱和第三水箱的储水量和第一水泵、第二水泵、第三水泵的电机运行频率,确定为第一水箱、第二水箱和第三水箱供水的工艺水箱的工艺水泵的运行频率;控制第一水泵、第二水泵、第三水泵、工艺水泵按照对应的运行频率工作。本申请根据工艺的实时供水量调整水泵的电机运行频率,可以达到节能的效果。

【技术实现步骤摘要】
硅片生产工艺中水泵的控制方法和装置
本申请涉及太阳能电池领域,尤其涉及一种硅片生产工艺中水泵的控制方法和装置。
技术介绍
目前,太阳能电池主要采用硅片作为基底,由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一,对太阳能电池的大规模应用奠定了基础。硅片生产过程主要由锭检、黏胶、切割、清洗、分选、包装组成。对于硅片生产过程中的很多环节都需要水泵的供水。以切割为例,由于切割(包括切块和切片)是硅片生产过程中非常重要的一个工艺,切割的好坏直接关系硅片质量的好坏。在切割之前,需要进行冷却处理,通常需要使用水蒸气和氩气等进行冷却处理;在切割过程中,配合切割线进行切割的切割液需要使用水来配制;在切割之后,还需要使用大量水对硅片进行清洗处理。可以看出,硅片生产的这些工艺过程中都涉及到供水操作。通常,供水是通过水泵来实现的。目前,现有的硅片生产过程中,采用的水泵均按照工频运行,产生很多无用功,增加了能耗。需要说明的是,上述内容属于专利技术人的技术认知范畴,并不必然构成现有技术。
技术实现思路
为了解决上述问题,本申请提出了一种硅片生产工艺中水泵的控制方法,所述方法包括如下步骤:获取硅片生产工艺的参数信息,其中,所述生产工艺包括如下至少之一:冷却工艺、切割工艺、清洗工艺;所述冷却工艺的参数信息包括如下至少之一:冷却温度、水蒸气量;所述切割工艺的参数信息包括如下至少之一:切割面积、切割温度、切割速度、切割压力、切割液的类型、切割液成分比例;所述清洗工艺的参数信息包括如下至少之一:清洗水温、水流大小;根据每个生产工艺的参数信息,确定为所述每个生产工艺供水的水泵的电机运行频率,并根据为所述每个生产工艺供水的水箱的储水量和水泵的电机运行频率,确定工艺水箱的工艺水泵的运行频率;其中,为所述冷却工艺供水的水泵和水箱为第一水泵和第一水箱,为所述切割工艺供水的水泵和水箱为第二水泵和第二水箱,为所述清洗工艺供水的水泵和水箱为第三水泵和第三水箱;所述工艺水箱通过所述工艺水泵为所述第一水箱、第二水箱和第三水箱供水;控制所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵、所述工艺水泵按照对应的运行频率工作。在一个示例中,根据冷却工艺的参数信息,确定为所述冷却工艺供水的第一水泵的电机运行频率,包括:获取所述冷却工艺的冷却温度和水蒸气量;根据所述冷却温度确定供水温度,并根据所述水蒸气量确定供水量;根据所述供水温度和供水量,确定为所述冷却工艺供水的水泵的电机运行频率。在一个示例中,根据切割工艺的参数信息,确定为所述切割工艺供水的水泵的电机运行频率,包括:获取硅片的生产信息,其中,所述生产信息至少包括:硅片的面积、硅片的厚度;根据所述硅片的生产信息,确定所述切割工艺的切割面积、切割温度、切割速度和切割压力,其中,所述切割工艺采用金刚线切割设备;根据所述切割工艺的切割温度确定所述切割工艺的供水温度;根据所述切割工艺的切割面积、切割速度和切割压力以及切割液的类型和成分比例,确定所述切割工艺的供水量;根据所述切割工艺的供水温度和供水量,确定为所述切割工艺供水的第二水泵的电机运行频率。在一个示例中,根据清洗工艺的参数信息,确定为所述清洗工艺供水的第三水泵的电机运行频率,包括:获取所述清洗工艺的所需要的清洗水温和水流大小;根据所述清洗水温确定所述清洗工艺的供水温度,并根据所述清洗工艺的水流大小,确定为所述清洗工艺的供水量;根据为所述清洗工艺的供水温度和供水量,确定为所述清洗工艺供水的第三水泵的电机运行频率。在一个示例中,控制所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵、所述工艺水泵按照对应的运行频率工作,包括:实时监测冷却工艺、切割工艺、清洗工艺的参数信息,并根据监测到的参数信息实时调整为所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵的电机运行频率;根据调整后的所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵的电机运行频率,调整所述工艺水泵的电机运行频率。在一个示例中,根据调整后的所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵的电机运行频率,调整所述工艺水泵的电机运行频率,包括:检测所述第一水箱、所述第二水箱和所述第三水箱的储水量;基于所述第一水箱、所述第二水箱和所述第三水箱的储水量,根据调整后的所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵的电机运行频率,调整所述工艺水泵的电机运行频率。在一个示例中,在基于所述第一水箱、所述第二水箱和所述第三水箱的储水量,根据调整后的所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵的电机运行频率,调整所述工艺水泵的电机运行频率之后,所述方法还包括:检测所述工艺水箱的储水量;根据所述工艺水箱的储水量、所述第一水箱、所述第二水箱和所述第三水箱的储水量,以及调整后的所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵的电机运行频率,调整所述工艺水泵的电机运行频率。另一方面,本申请还提出了一种硅片生产工艺中水泵的控制装置,所述装置包括:获取单元,用于获取硅片生产工艺的参数信息,其中,所述生产工艺包括如下至少之一:冷却工艺、切割工艺、清洗工艺;所述冷却工艺的参数信息包括如下至少之一:冷却温度、水蒸气量;所述切割工艺的参数信息包括如下至少之一:切割面积、切割温度、切割速度、切割压力、切割液的类型、切割液成分比例;所述清洗工艺的参数信息包括如下至少之一:清洗水温、水流大小;确定单元,用于根据每个生产工艺的参数信息,确定为所述每个生产工艺供水的水泵的电机运行频率,并根据为所述每个生产工艺供水的水箱的储水量和水泵的电机运行频率,确定工艺水箱的工艺水泵的运行频率;其中,为所述冷却工艺供水的水泵和水箱为第一水泵和第一水箱,为所述切割工艺供水的水泵和水箱为第二水泵和第二水箱,为所述清洗工艺供水的水泵和水箱为第三水泵和第三水箱;所述工艺水箱通过所述工艺水泵为所述第一水箱、第二水箱和第三水箱供水;控制单元,用于控制所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵、所述工艺水泵按照对应的运行频率工作。另一方面,本申请还提出了一种存储介质,所述存储介质包括存储的程序,其中,所述程序执行上述任意一项可选的硅片生产工艺中水泵的控制方法。另一方面,本申请还提出了一种处理器,所述处理器用于运行程序,其中,所述程序运行时执行上述任意一项可选的硅片生产工艺中水泵的控制方法。通过本申请提出硅片生产工艺中水泵的控制方式,采用变频水泵,根据每个生产工艺的实时工艺条件,来控制为每个生产工艺供水的水泵的电机运行频率,实现了在确保能够满足硅片生产的工艺条件的情况下,降低硅片生产过程中消耗的电能,大大降低企业成本。附图说明此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解,构成本申请的一部分,本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:图1为本申请实施例提供的一种硅片生产工艺中水泵的控制系统示意图;图2为本申请实施例提供的一种硅片生产工艺中水泵的控制方法的流程示意图;图3为本申请实施例提供的一种硅片生产工艺中水泵的控制装置示意图。具体实施方式为了更清楚的阐释本申请的整体构思,下面结合说明书附图以示例的方式进行详细说明。本申请的实施例公开了一种硅片生产工艺中水泵的控制系统,图1为本申请实施例提供的一种硅片生产工艺中水泵的控制系统示意图,如图1所示,该系统包括:控制器100、工艺水泵101、工艺水箱102、第一水泵101a、第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片生产工艺中水泵的控制方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:获取硅片生产工艺的参数信息,其中,所述生产工艺包括如下至少之一:冷却工艺、切割工艺、清洗工艺;所述冷却工艺的参数信息包括如下至少之一:冷却温度、水蒸气量;所述切割工艺的参数信息包括如下至少之一:切割面积、切割温度、切割速度、切割压力、切割液的类型、切割液成分比例;所述清洗工艺的参数信息包括如下至少之一:清洗水温、水流大小;根据每个生产工艺的参数信息,确定为所述每个生产工艺供水的水泵的电机运行频率,并根据为所述每个生产工艺供水的水箱的储水量和水泵的电机运行频率,确定工艺水箱的工艺水泵的运行频率;其中,为所述冷却工艺供水的水泵和水箱为第一水泵和第一水箱,为所述切割工艺供水的水泵和水箱为第二水泵和第二水箱,为所述清洗工艺供水的水泵和水箱为第三水泵和第三水箱;所述工艺水箱通过所述工艺水泵为所述第一水箱、第二水箱和第三水箱供水;控制所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵、所述工艺水泵按照对应的运行频率工作。

【技术特征摘要】
1.一种硅片生产工艺中水泵的控制方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:获取硅片生产工艺的参数信息,其中,所述生产工艺包括如下至少之一:冷却工艺、切割工艺、清洗工艺;所述冷却工艺的参数信息包括如下至少之一:冷却温度、水蒸气量;所述切割工艺的参数信息包括如下至少之一:切割面积、切割温度、切割速度、切割压力、切割液的类型、切割液成分比例;所述清洗工艺的参数信息包括如下至少之一:清洗水温、水流大小;根据每个生产工艺的参数信息,确定为所述每个生产工艺供水的水泵的电机运行频率,并根据为所述每个生产工艺供水的水箱的储水量和水泵的电机运行频率,确定工艺水箱的工艺水泵的运行频率;其中,为所述冷却工艺供水的水泵和水箱为第一水泵和第一水箱,为所述切割工艺供水的水泵和水箱为第二水泵和第二水箱,为所述清洗工艺供水的水泵和水箱为第三水泵和第三水箱;所述工艺水箱通过所述工艺水泵为所述第一水箱、第二水箱和第三水箱供水;控制所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵、所述工艺水泵按照对应的运行频率工作。2.根据权利要求1所述的硅片生产工艺中水泵的控制方法,其特征在于,根据冷却工艺的参数信息,确定为所述冷却工艺供水的第一水泵的电机运行频率,包括:获取所述冷却工艺的冷却温度和水蒸气量;根据所述冷却温度确定供水温度,并根据所述水蒸气量确定供水量;根据所述供水温度和供水量,确定为所述冷却工艺供水的第一水泵的电机运行频率。3.根据权利要求1所述的硅片生产工艺中水泵的控制方法,其特征在于,根据切割工艺的参数信息,确定为所述切割工艺供水的第二水泵的电机运行频率,包括:获取硅片的生产信息,其中,所述生产信息至少包括:硅片的面积、硅片的厚度;根据所述硅片的生产信息,确定所述切割工艺的切割面积、切割温度、切割速度和切割压力,其中,所述切割工艺采用金刚线切割设备;根据所述切割工艺的切割温度确定所述切割工艺的供水温度;根据所述切割工艺的切割面积、切割速度和切割压力以及切割液的类型和成分比例,确定所述切割工艺的供水量;根据所述切割工艺的供水温度和供水量,确定为所述切割工艺供水的第二水泵的电机运行频率。4.根据权利要求1所述的硅片生产工艺中水泵的控制方法,其特征在于,根据清洗工艺的参数信息,确定为所述清洗工艺供水的水泵的电机运行频率,包括:获取所述清洗工艺的所需要的清洗水温和水流大小;根据所述清洗水温确定所述清洗工艺的供水温度,并根据所述清洗工艺的水流大小,确定为所述清洗工艺的供水量;根据为所述清洗工艺的供水温度和供水量,确定为所述清洗工艺供水的水泵的电机运行频率。5.根据权利要求1所述的硅片生产工艺中水泵的控制方法,其特征在于,控制所述第一水泵、所述第二水泵、所述第三水泵、所述工艺水泵按照对...

【专利技术属性】
技术研发人员:王建波吴艳杰孙小同成冬冬吴晓彬张广强
申请(专利权)人:山东大海新能源发展有限公司
类型:发明
国别省市:山东,37

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