致动器及具备其的流体压力控制回路制造技术

技术编号:19118430 阅读:34 留言:0更新日期:2018-10-10 03:34
本发明专利技术提供一种虽为简易构成、但探测精度充分高的致动器及具备其的流体压力控制回路。致动器具备:气缸(51);在气缸(51)的内部移动的活塞(52);探测活塞(52)的位置的行程传感器(53);限制朝其中一侧的旋转的缘部(51a1);以及限制朝另一侧的旋转的限制突起(51b)。缘部(51a1)允许旋转的量比限制突起(51b)允许旋转的量大。行程传感器(53)的传感器(53c)的中心从固定于活塞(52)的被探测构件(53b)的中心向其中一侧偏离。

【技术实现步骤摘要】
致动器及具备其的流体压力控制回路
本专利技术涉及一种作为流体压力控制回路的一部分而设置的致动器(actuator)及具备其的流体压力控制回路。
技术介绍
以往,作为搭载于车辆中的变速器(transmission)的液压控制回路(流体压力控制回路),已知有如下者,其基于来自控制部的信号来切换液压(流体压力)的供给目的地,从而控制驻车锁止(parkinglock)机构等(例如,参照专利文献1)。在专利文献1记载的液压控制回路中,经由作为液压控制回路的一部分而设置的致动器来进行驻车锁止机构的状态切换。作为这样使用的致动器,存在如下者,其具备:气缸、根据被供给的液压而在气缸内部沿轴线方向移动的活塞、以及探测活塞的位置的行程传感器(strokesensor)。作为所述行程传感器,存在如下者,其通过利用配置成与被探测构件(例如,磁铁等)对向的传感器探测被探测构件来算出活塞的位置,其中,所述被探测构件是以一体地移动的方式安装于活塞。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2016-176589号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]且说,在像专利文献1记载的致动器那样,使用活塞和气缸所构成的致动器中,担心活塞围绕轴线旋转。若产生这种旋转,则担心固定于活塞的被探测构件的位置会移动至不与传感器对向的位置,从而无法精确地探测活塞的位置。作为防止这种偏离的方法,存在设置对活塞的旋转进行限制的限制构件的方法。但是,为了通过这种方法使探测精度成为充分的探测精度,必须提高限制机构的精度,从而担心致动器的制造成本提高。本专利技术是鉴于以上方面而成者,目的在于提供一种虽为简易构成、但探测精度充分高的致动器及具备其的流体压力控制回路。[解决问题的技术手段]为了达成所述目的,本专利技术的致动器是,一种设置于流体压力控制回路(例如,实施方式中的液压控制回路HC。以下相同)中的致动器(例如,实施方式中的双向活塞50。以下相同),所述致动器的特征在于,具备:气缸(例如,实施方式中的气缸51。以下相同);活塞(例如,实施方式中的活塞52。以下相同),插入所述气缸中,根据被供给的流体压力而在所述气缸的内部沿轴线方向移动;行程传感器(例如,实施方式中的行程传感器53。以下相同),探测所述活塞的位置;第一限制机构(例如,实施方式中的缘部51a1。以下相同),在所述活塞的围绕轴线的旋转中,限制其中一侧的旋转;以及第二限制机构(例如,实施方式中的限制突起51b。以下相同),限制另一侧的旋转,在所述气缸的周面上形成有开口部(例如,实施方式中的开口部51a。以下相同),所述行程传感器具有:拉条(stay)(例如,实施方式中的拉条53a。以下相同),以一体地移动的方式安装于所述活塞,并沿着与所述轴线方向交叉的方向从所述活塞的自所述开口部露出的部分延伸至所述气缸的外部;被探测构件(例如,实施方式中的被探测构件53b。以下相同),安装于所述拉条的位于所述气缸外部的部分;以及传感器(例如,实施方式中的传感器53c。以下相同),以与所述被探测构件对向的方式配置,并探测所述被探测构件的位置,所述第一限制机构允许所述活塞朝所述其中一侧旋转的量比所述第二限制机构允许所述活塞朝所述另一侧旋转的量大,所述传感器的中心位于从所述被探测构件的中心向所述其中一侧偏离的位置。像这样,在本专利技术的致动器中具备:在活塞的围绕轴线的旋转中限制其中一侧的旋转的第一限制机构、和限制另一侧的旋转的第二限制机构,传感器的中心位置相对于被探测构件的中心位置而预先朝这些限制机构允许旋转的量大的方向偏离。由此,与以传感器的中心位置和被探测构件的中心位置对向的方式配置的情况相比,即使活塞发生旋转,也容易维持传感器和被探测构件至少在任一部分对向的状态。即,难以成为被探测构件和传感器在任一部分均不对向的状态(无法进行探测的状态)。因而,根据本专利技术的致动器,即使在使用精度没那么高的简易的限制机构的情况下,由于维持被探测构件(即,活塞位置)的探测能够进行的状态,因此也能以充分的精度进行活塞的位置探测。另外,为了达成所述目的,本专利技术的流体压力控制回路具备对双向离合器(例如,实施方式中的双向离合器F1。以下相同)的逆旋转阻止状态和固定状态进行切换的双向活塞,所述流体压力控制回路的特征在于,所述双向活塞是所述任一致动器。另外,为了达成所述目的,本专利技术的流体压力控制回路具备对驻车锁止机构的驻车锁止状态和驻车解除状态进行切换的驻车活塞,所述流体压力控制回路的特征在于,所述驻车活塞是所述任一致动器。附图说明图1是示意性地表示搭载有具备实施方式的致动器的变速器的车辆的说明图。图2是表示搭载于图1的车辆中的变速器的骨架图。图3是图2的变速器的行星齿轮机构的列线图。图4是表示图2的变速器的各变速档中的各卡合机构的卡合状态的说明图。图5是表示图2的变速器的双向离合器的固定状态的剖面图。图6是表示图2的变速器的双向离合器的主要部分的逆旋转阻止状态的剖面图。图7是表示图2的变速器的双向离合器的固定状态的立体图。图8是表示图2的变速器的双向离合器的逆旋转阻止状态的立体图。图9A、图9B是表示图2的变速器的对双向离合器进行切换的切换控制机构的说明图。图9A表示使双向离合器成为固定状态的情形,图9B表示使双向离合器成为逆旋转阻止状态的情形。图10是表示图9A、图9B的切换控制机构即双向活塞的活塞、拉条、磁铁及传感器的形状的立体图。图11是图10的双向活塞的平面图。图12A~图12C是示意性地表示图10的双向活塞的活塞旋转时的状态的A-A线剖面图,图12A表示活塞未旋转的状态,图12B表示活塞旋转到其中一侧的状态,图12C表示活塞旋转到另一侧的状态。图13A~图13C是示意性地表示参考例的双向活塞的活塞旋转时的状态的剖面图,图13A表示活塞未旋转的状态,图13B表示活塞旋转到其中一侧的状态,图13C表示活塞旋转到另一侧的状态。[符号的说明]1:曲轴2:变矩器3:变速器4:前差速器齿轮5:分动器装置6:后差速器齿轮7L:前部左车轴7R:前部右车轴8:推进轴9L:后部左车轴9R:后部右车轴31:变速器壳体(框体)32:输入轴33:输出构件34:惰齿轮35:惰轮轴36:最终驱动齿轮41:最终从动齿轮50:双向活塞51:气缸51a:开口部51a1:缘部(第一限制构件)51b:限制突起(第二限制构件)52、HC1:活塞52a:第一凹部52b:第三凹部53:行程传感器53a:拉条53a1:第一板状部53a2:第二板状部53a3:螺栓53b:被探测构件53b1:第一磁铁5362:第二磁铁53c:传感器54、HC4:止动机构54a:第一弹性构件54b:第二弹性构件a:轴线B1:第一制动器B2:第二制动器B3:第三制动器C1:第一离合器C2:第二离合器C3:第三离合器Ca、Cb、Cc、Cd:行星架d1:第一间隔d2:第二间隔E:发动机ECU:控制部F1:双向离合器HC:液压控制回路(流体压力控制回路)HC2:第一开闭阀HC3:第二开闭阀Pa、Pb、Pc、Pd:小齿轮PGl:第一行星齿轮机构PG2:第二行星齿轮机构PG3:第三行星齿轮机构PG4:第四行星齿轮机构PT:动力传递装置Ra、Rb、Rc、Rd:内齿圈Sa、Sb、Sc、Sd:太阳齿轮TW11:固本文档来自技高网...
致动器及具备其的流体压力控制回路

【技术保护点】
1.一种致动器,其设置于变速器的流体压力控制回路中,所述致动器的特征在于,包括:气缸;活塞,插入所述气缸中,根据被供给的流体压力而在所述气缸的内部沿轴线方向移动;行程传感器,探测所述活塞的位置;第一限制机构,在所述活塞的围绕轴线的旋转中,限制其中一侧的旋转;以及第二限制机构,限制另一侧的旋转,在所述气缸的周面上形成有开口部,所述行程传感器包括:拉条,以一体地移动的方式安装于所述活塞,并沿着与所述轴线方向交叉的方向从所述活塞的自所述开口部露出的部分延伸至所述气缸的外部;被探测构件,安装于所述拉条的位于所述气缸外部的部分;以及传感器,以与所述被探测构件对向的方式配置,并探测所述被探测构件的位置,所述第一限制机构允许所述活塞朝所述其中一侧旋转的量比所述第二限制机构允许所述活塞朝所述另一侧旋转的量大,所述传感器的中心位于从所述被探测构件的中心向所述其中一侧偏离的位置。

【技术特征摘要】
2017.03.17 JP 2017-0537721.一种致动器,其设置于变速器的流体压力控制回路中,所述致动器的特征在于,包括:气缸;活塞,插入所述气缸中,根据被供给的流体压力而在所述气缸的内部沿轴线方向移动;行程传感器,探测所述活塞的位置;第一限制机构,在所述活塞的围绕轴线的旋转中,限制其中一侧的旋转;以及第二限制机构,限制另一侧的旋转,在所述气缸的周面上形成有开口部,所述行程传感器包括:拉条,以一体地移动的方式安装于所述活塞,并沿着与所述轴线方向交叉的方向从所述活塞的自所述开口部露出的部分延伸至所述气缸的外部;被探测构件,安装于所述拉条的...

【专利技术属性】
技术研发人员:岛﨑树吉田俊辅横田浩贵
申请(专利权)人:本田技研工业株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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