热产酸剂及使用其的抗蚀剂组合物制造技术

本发明专利技术提供产酸温度高的热产酸剂及使用其的抗蚀剂组合物。一种磺酸衍生物化合物，其由下述通式(I)(式(I)中，R1表示碳原子数1～18的脂肪族烃基等或下述通式(II)(通式(II)中，Y1表示单键或碳原子数1～4的烷二基，R11和R12各自独立地表示碳原子数2～6的烷二基等，R13表示碳原子数1～18的直链或支链烷基等，a、b表示0或1，a、b中的任一者为1。)所示的基团，R2～R7各自独立地表示碳原子数1～14的直链或支链烷基等，R1中的脂肪族烃基等不具有取代基、或被卤素原子等取代，R1中的脂肪族烃基等中的亚甲基结构可以被‑O‑等取代。)表示。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】热产酸剂及使用其的抗蚀剂组合物
本专利技术涉及热产酸剂及使用其的抗蚀剂组合物，详细而言，涉及产酸温度高的热产酸剂及使用其的抗蚀剂组合物。
技术介绍
热产酸剂用于半导体、显示元件、密封剂、外涂剂等各种用途中。对于这样的热产酸剂，进行了各种报道。例如，专利文献1中公开了包含锍盐的热产酸剂。另外，专利文献2～4中公开了含有热产酸剂的抗蚀剂材料。进而，专利文献4中公开了：作为热产酸剂，虽然是鎓盐系的物质但热产酸温度为100℃以上。此外，专利文献5中公开了包含具有特定的结构的磺酸衍生物化合物的光产酸剂。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2007-008919号专利文献2：日本专利5453615号专利文献3：日本专利5789461号专利文献4：日本专利4813537号专利文献5：WO2014/084269
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，专利文献5中既没有公开也没有启示能使用磺酸衍生物化合物作为热产酸剂。由此，对于产酸温度高的热产酸剂的结构，仍存在有待研究的地方。因此，本专利技术的目的在于提供产酸温度高的热产酸剂及使用其的抗蚀剂组合物。用于解决问题的方案本专利技术人等为了解决上述课题而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种热产酸剂，其特征在于，其由下述通式(I)表示，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.26 JP 2016-0128141.一种热产酸剂，其特征在于，其由下述通式(I)表示，式(I)中，R1表示碳原子数1～18的脂肪族烃基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数7～20的芳基烷基、被酰基取代的碳原子数7～20的芳基、碳原子数3～12的脂环式烃基、10-樟脑基或下述通式(II)所示的基团，R2、R3、R4、R5、R6和R7各自独立地表示碳原子数1～14的直链或支链烷基或甲硅烷基，R1中的所述脂肪族烃基、所述芳基、所述芳基烷基、所述脂环式烃基不具有取代基、或被选自卤素原子、碳原子数1～4的卤代烷基、碳原子数1～18的烷氧基和碳原子数1～18的烷硫基中的基团取代，R1中的所述脂肪族烃基、所述芳基烷基、所述脂环式烃基中的亚甲基结构任选被-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-NHCO-、-CONH-取代，通式(II)中，Y1表示单键或碳原子数1～4的...

【专利技术属性】
技术研发人员：三宅惇哉，竹内良智，佐藤直美，木村健太郎，
申请(专利权)人：株式会社ADEKA，
类型：发明
国别省市：日本,JP