有机发光显示面板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

提供一种有机发光显示面板，包括盖板和背板，所述盖板包括：盖板玻璃，在所述盖板玻璃上形成有R、G、B三种彩膜；绝缘覆盖层，覆盖所述盖板玻璃；BM区，形成在所述绝缘覆盖层上，并定义出像素区；隔离柱，形成于所述BM区；辅助阴极，形成于所述隔离柱和所述绝缘覆盖层上；以及所述背板包括：有源层阵列；平坦化层，形成于所述有源层阵列上，对应于所述像素区具有凸台；OLED器件，形成于所述凸台上。还提供该有机发光显示面板的制备方法和包含该有机发光显示面板的显示装置。本发明专利技术的显示面板中OLED器件设置在凸台上，缩小了与盖板玻璃间的距离，可以有效提升面板亮度。

【技术实现步骤摘要】
有机发光显示面板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种有机发光显示面板、其制备方法及显示装置。
技术介绍
顶发射显示技术用于实现大尺寸OLED8KUHD显示，该技术涉及TFT背板和彩膜盖板的独立制作，以及后段封装压合工艺。封装压合工艺过程中，首先要沿玻璃基板外围喷涂一定厚度和宽度的围墙胶(Dam胶)，Dam胶的厚度和封装时的气压基本上决定了面板(panel)上下基板间的厚度。上下基板间的空隙由填充物(Filler胶)进行填充。因此，对于顶发射显示，OLED器件发出的光出射时需要先后经过较厚的Filler(5～7um)，绝缘覆盖层(OC层)以及彩色滤光层(CF层)，因此可能出现高灰阶下面板亮度较低的问题，无法满足高动态范围图像(HDR)的要求。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本专利技术提供一种亮度提高了的有机发光显示面板、其制备方法，和包括该显示面板的显示装置。本专利技术一方面提供一种有机发光显示面板，一种有机发光显示面板，包括盖板和背板。所述盖板包括：盖板玻璃，在所述盖板玻璃上形成有R、G、B三种彩膜；绝缘覆盖层，覆盖所述盖板玻璃；BM区，形成在所述绝缘覆盖层上，并定义出像素区；隔离柱，形成于所述BM区；辅助阴极，形成于所述隔离柱和所述绝缘覆盖层上。所述背板包括：有源层阵列；平坦化层，形成于所述有源层阵列上，对应于所述像素区具有凸台；OLED器件，形成于所述凸台上。根据本专利技术的一实施方式，每个像素中的相邻子像素间的彩膜发生交叠。根据本专利技术的另一实施方式，所述彩膜交叠部分的宽度是3-5μm。根据本专利技术的另一实施方式，所述OLED器件与所述辅助阴极相互交错。本专利技术另一方面还提供一种显示面板的制备方法，包括形成盖板步骤和形成背板步骤。所述形成盖板步骤包括：在盖板玻璃上形成R、G、B三种彩膜；在形成有所述R、G、B三种彩膜的所述盖板玻璃上形成绝缘覆盖层；在所述绝缘覆盖层上形成BM区，并定义出像素区；在所述BM区上形成用隔离柱；在所述隔离柱和所述绝缘覆盖层上沉积金属层，并刻蚀走线，形成辅助阴极。所述形成背板步骤包括：在有源层阵列上形成平坦化层，所述平坦化层对应于所述像素区具有凸台；在所述凸台上形成OLED器件。根据本专利技术的一实施方式，形成具有所述凸台的所述平坦化层的步骤是先形成覆盖所述有源阵列的第一平坦化层，然后在所述第一平坦化层上、对应于所述像素区形成第二平坦化层以形成所述凸台。根据本专利技术的另一实施方式，形成具有所述凸台的所述平坦化层的步骤是形成覆盖所述有源阵列的平坦化层，然后除去对应于非像素区的部分平坦化层以形成所述凸台。根据本专利技术的另一实施方式，每个像素中的相邻子像素间的彩膜发生交叠。根据本专利技术的另一实施方式，所述制备方法还包括封装背板和盖板步骤，封装后所述OLED器件与所述辅助阴极相互交错。本专利技术的第三方面提供一种包括上述显示面板的显示装置。本专利技术的显示面板中OLED器件设置在凸台上，缩小了与盖板玻璃间的距离，可以有效提升面板亮度。同时OLED器件出射光路径缩短，能够避免相邻子像素间漏光现象的出现。由于缩短出射光路经，有利于减小BM区的线宽，有助于提高开口率。本专利技术的显示面板中，OLED器件与辅助阴极相交错，所以不会有OLED发出的光照射到辅助阴极的金属上而发生漫反射，从而可以彻底消除面板内部光线对背板TFT特性的影响。更进一步，隔离柱设置在BM区，因而具有更好的粘附力，不易脱落。附图说明通过参照附图详细描述其示例实施方式，本专利技术的上述和其它特征及优点将变得更加明显。图1是本专利技术的有机发光显示面板(封装前)的结构示意图。图2是本专利技术的有机发光显示面板(封装后)的结构示意图。图3是实施例1的盖板的制备流程图。图4是实施例1的背板的制备流程图(单个子像素)。图5是实施例2的背板的制备流程图(单个子像素)。其中，附图标记说明如下：1：盖板11：彩膜(CF)12：绝缘覆盖层(OC层)13：BM区(黑矩阵区)14：隔离柱(PS)15：辅助阴极(AUX)2：背板21：有源层阵列22：平坦化层221：凸台222：第一平坦化层23：OLED器件231：阳极232：有机功能层233：阴极24：像素界定层具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本专利技术将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中，为了清晰，夸大了区域和层的厚度。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。如图1所示，有机发光显示面板包括盖板1和背板2。盖板1包括盖板玻璃、在盖板玻璃上形成R、G、B三种彩膜11、覆盖盖板玻璃的绝缘覆盖层12、形成在绝缘覆盖层12上BM区13，形成于1BM区13的隔离柱14、形成于隔离柱14和绝缘覆盖层12上的辅助阴极15。其中，每个像素中的相邻子像素间的彩膜发生交叠，彩膜交叠部分的宽度是3-5μm，以避免子像素之间漏光。绝缘覆盖12可以是具有平坦化效果的胶材，胶材可以是一种或多种材料的组合。BM区13形成于绝缘覆盖层12上，并定义出像素区。隔离柱14由有机材料制成。与现有制在金属材料上相比，由于BM区13为有机材料，粗糙度更高，因此隔离柱14底座在有机材料上的抓附力更强。辅助阴极15可以是形成在隔离柱14和绝缘覆盖层12上的金属层，通过刻蚀出走线后形成。背板2包括有源层阵列21、覆盖有源层阵列21的平坦化层22、形成在平坦化层上对应于像素区的OLED器件23和像素界定层24。其中，有源层阵列21可以是常规有源层阵列，可以包括但不限于，Gate&GI图形、ACT区域、S/D等等。覆盖有源阵列21的平坦化层22包括凸台221，凸台221可以通过先形成第一平坦化层222，然后在第一平坦化层222上形成第二平坦化层形成凸台221；也可以先形成较厚的平坦化层21后，通过曝光、显影等方式除去非像素区对应的部分平坦化层后形成凸台221。平坦化层22可以由有机绝缘介质材料形成，有机绝缘材料可以包含但不限于聚硅氧烷系材料，亚克力系材料，或聚酰亚胺系材料等具有平坦化效果的材料。OLED器件23形成在像素界定层24内，OLED器件至少包括阳极231、有机功能层232和阴极233。有机功能层232至少包括发光层，还可以包括但不限于电子注入层、电子传输层、空穴注入层、空穴传输层、阻挡层等。盖板1和背板2封装后形成显示面板，如图2所示。从图2中可以看出，OLED器件23被垫高，距离盖板1的距离比现有显示面中OLED器件距盖板的距离小，且OLED器件23与辅助阴极15的相互交错。本申请中OLED器件与辅助阴极“相互交错”是指OLED器件23内没有辅助阴极15在垂直方向上的全部或部分投影；或者OLED器件23距盖板的距离小于或等于辅助阴极15底部(即形成在绝缘覆盖层12上的部分)距盖板的距离。本专利技术实施例的有机发光显示面板的各电极和走线金属可以是常用的金属材料，如Ag，Cu，Al，Mo等，或多层金属如Mo/Cu/Mo等，或上述金属的合金材料，如AlNd、MoNb等，也可以是金属和透明导电氧化物(如ITO、AZO等)形成的堆栈结构如Mo/AlNd/ITO，ITO/本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有机发光显示面板，包括盖板和背板，其特征在于，所述盖板包括：盖板玻璃，在所述盖板玻璃上形成有R、G、B三种彩膜；绝缘覆盖层，覆盖所述盖板玻璃；BM区，形成在所述绝缘覆盖层上，并定义出像素区；隔离柱，形成于所述BM区；辅助阴极，形成于所述隔离柱和所述绝缘覆盖层上；以及所述背板包括：有源层阵列；平坦化层，形成于所述有源层阵列上，对应于所述像素区具有凸台；OLED器件，形成于所述凸台上。

【技术特征摘要】
1.一种有机发光显示面板，包括盖板和背板，其特征在于，所述盖板包括：盖板玻璃，在所述盖板玻璃上形成有R、G、B三种彩膜；绝缘覆盖层，覆盖所述盖板玻璃；BM区，形成在所述绝缘覆盖层上，并定义出像素区；隔离柱，形成于所述BM区；辅助阴极，形成于所述隔离柱和所述绝缘覆盖层上；以及所述背板包括：有源层阵列；平坦化层，形成于所述有源层阵列上，对应于所述像素区具有凸台；OLED器件，形成于所述凸台上。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每个像素中的相邻子像素间的彩膜发生交叠。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜交叠部分的宽度是3-5μm。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述OLED器件与所述辅助阴极相互交错。5.一种显示面板的制备方法，包括形成盖板步骤和形成背板步骤，其特征在于，所述形成盖板步骤包括：在盖板玻璃上形成R、G、B三种彩膜；在形成有所述R、G、B三种彩膜的所述盖板玻璃上形成绝缘覆盖层；在所述绝缘覆盖层上形成BM区，并定...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋振，王国英，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11