一种二维材料电极制作装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种二维材料电极制作装置，包括一基座、一基于伺服控制的传送带，传送带上设有多个电动卡钳，还包括基于伺服控制的光刻刀、刻蚀刀以及等离子体刻蚀刀，光刻刀、刻蚀刀及等离子体刻蚀刀的上端分别设有基于伺服控制的第一、第二、第三液压伸缩装置；本实用新型专利技术将自动传送结构、光刻刀、刻蚀刀以及离子体刻蚀刀、液压伸缩结构相结合进行电极的加工，不但可较为方便地生成电极图案，而且减少了对二维材料的破坏与污染。

【技术实现步骤摘要】
一种二维材料电极制作装置
本技术涉及一种电极制作装置，尤其涉及一种二维材料电极制作装置，属于石墨烯等二维材料电极制作

技术介绍
在石墨烯、黑磷等二维材料制作电极时候，为了提高器件的性能，我们需要减小沟道尺寸的同时，还需要降低光刻胶对二维材料的污染，为实现上述要求，微掩膜便是最好的实现方法；但是目前进行微掩膜大多采用人工的方式进行，不但加工效率低，而且成品也相对较少，因此，需要设计一种专用设备来进行微掩膜。
技术实现思路
本技术就是针对上述问题，提出一种二维材料电极制作装置，该二维材料电极制作装置采用聚酰亚胺打孔方法，不仅提高了微掩膜的强度，成本也有大幅的缩减。为解决上述技术问题，本技术提供的一种二维材料电极制作装置，包括一基座、一基于伺服控制的传送带，所述传送带上每间隔一段距离设有一电动卡钳，所述传送带位于基座上，还包括基于伺服控制的三个加工装置，分别为：基于伺服控制的光刻刀；基于伺服控制的刻蚀刀，以及基于伺服控制的等离子体刻蚀刀，所述光刻刀、刻蚀刀以及等离子体刻蚀刀的上端分别设有基于伺服控制的第一液压伸缩装置、第二液压伸缩装置和第三液压伸缩装置，所述光刻刀、刻蚀刀以及等离子体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种二维材料电极制作装置，包括一基座、一基于伺服控制的传送带，所述传送带上每间隔一段距离设有一电动卡钳，所述传送带位于基座上，其特征在于，还包括基于伺服控制的三个加工装置，分别为：基于伺服控制的光刻刀；基于伺服控制的刻蚀刀，以及基于伺服控制的等离子体刻蚀刀，所述光刻刀、刻蚀刀以及等离子体刻蚀刀的上端分别设有基于伺服控制的第一液压伸缩装置、第二液压伸缩装置和第三液压伸缩装置，所述光刻刀、刻蚀刀以及等离子体刻蚀刀之间的距离和任意两个电动卡钳之间的距离相等；所述三个液压伸缩装置上端均连接于一L型架体底部，且该L型架体左端和基座上端连接。

【技术特征摘要】
1.一种二维材料电极制作装置，包括一基座、一基于伺服控制的传送带，所述传送带上每间隔一段距离设有一电动卡钳，所述传送带位于基座上，其特征在于，还包括基于伺服控制的三个加工装置，分别为：基于伺服控制的光刻刀；基于伺服控制的刻蚀刀，以及基于伺服控制的等离子体刻蚀刀，所述光刻刀、刻蚀刀以及等离子体刻蚀刀的上端分别设有基于伺服控制的第一液压伸缩装置、第二液压伸缩装置和第三液压伸缩装置，所述光刻刀、刻蚀刀...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘尧，
申请(专利权)人：苏州锐材半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32