一种基片固定装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种基片固定装置，载板的各个边框槽的深度不同，即各个边框槽的外侧边缘与对应的边框的内侧边缘的距离不尽相同，在实际放置基片时，可将基片向深度较小的边框槽靠近或贴紧放置，即首先保证基片在深度较小边框槽处无效边被遮挡，即可保证各个无效边被遮挡，如此即可避免基片放置到基片槽中之后的遮挡无效边区域变小、甚至遮挡失败的情况，满足镀膜要求；另外，在基片与压块之间设置弹性件，可保证始终对基片实现压紧，从而解决基片厚度的差异会造成基片无法同时压紧的情况。

A substrate fixing device

The utility model discloses a substrate fixing device. The depth of each frame groove of the plate is different, that is, the distance between the outer edge of each frame groove and the inner edge of the corresponding frame is different. When the substrate is actually placed, the substrate can be placed close to or close to the frame groove with a smaller depth, that is, the substrate is first guaranteed to be in the frame groove. The invalid edges in the lower depth frame groove are occluded, which can ensure that each invalid edge is occluded, so that the occlusion invalid edge area becomes smaller, or even the occlusion failure after the substrate is placed in the substrate groove can be avoided, and the coating requirements can be met. In addition, the elastic components between the substrate and the compactor can ensure that the substrate is always solid. The pressure is pressed to solve the difference of substrate thickness which causes the substrate to be pressed at the same time.

【技术实现步骤摘要】
一种基片固定装置
本技术涉及太阳能电池加工领域，尤其涉及一种基片固定装置。
技术介绍
物理气相沉积(PVD)是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。PVD基本方法一般包括：真空蒸发、溅射、离子镀等。传统的半导体或太阳能设备中，经常有基片镀膜时，需要对基片四周无效边(无需镀膜)进行遮挡的需求，一般通过方框形的载板遮挡基片四周的无效边，中间部分则为待镀膜区域，而载板上设置放置基片的基片槽，且通过压块进行固定，载板和压块之间可以装载若干片基片，通过这样一个结构实现基片的固定和镀膜无效边的遮挡。在通常的应用中，载板上的基片槽的尺寸一般比基片本身略大，在GaAs柔性太阳能电池片的生产中，柔性太阳能电池片是从GaAs基片上经过特定生长程式后剥离而来，而GaAs基片在每一轮使用后，会经过抛光和清洗，反复使用，从而达到高效利用、降低成本的目的。但是多次循环使用后，GaAs基片会出现尺寸磨损后变小的情况，且由于工况和个体差异的客观存在，基片变小的情况会存在差异。这样，镀膜的对象就是若干个大小均有差异的GaAs基片，基片大小的差异会造成无法满足无效边遮挡需求，无法达到镀膜要求。如当较小的基片放置到基片槽中之后，会发现遮挡无效边区域变小，甚至遮挡失败的情况。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种基片固定装置，以解决现有技术中的问题，保证载板能够对基片的无效边进行有效遮挡。本技术提供了一种基片固定装置，所述基片固定装置包括：由四个边框围成的载板，所述边框围成与待镀膜区域对应的基片槽，沿所述基片槽的边缘在所述边框与基片相邻的一侧分别设置有对应的边框槽，所述边框槽用于承载所述基片；至少一个边框槽的深度小于其他边框槽的深度。作为优选，所述基片固定装置还包括压块，所述压块设置在所述基片与所述待镀膜区域相反的一侧，且所述压块与所述载板压合，用于压紧固定基片。作为优选，所述载板为正方形，相邻两个所述边框槽深度相等，且小于其他两个所述边框槽深度。作为优选，所述基片固定装置还包括弹性件，所述弹性件设置在所述基片与所述压块之间。作为优选，所述弹性件上表面与所述基片表面贴合，将所述基片压紧在所述载板上。作为优选，所述弹性件包括基座、弹簧、压柱，所述基座设置在所述压块上，所述压柱与所述基片相贴，所述弹簧位于所述基座与所述压柱之间。作为优选，所述压块上设置有安装槽，所述基座位于所述安装槽内。作为优选，所述弹性件还包括顶部设置有通孔的安装罩，所述安装罩扣装在所述压柱上，所述压柱从所述通孔伸出并与所述基片相贴，所述安装罩的外壁设置有外螺纹，所述安装槽的内壁设置有内螺纹，所述安装罩与所述安装槽螺纹配合。作为优选，所述安装罩伸入所述安装槽的一端的端部设置有限位卡边，所述安装槽的内壁设置有限位卡槽，所述限位卡边与所述限位卡槽配合。作为优选，一个所述基片上设置四个弹性件，且所述弹性件以十字交叉的方式布置在所述基片的边缘。本技术提供的基片固定装置，载板的各个边框槽的深度不同，即各个边框槽的外侧边缘与对应的边框的内侧边缘的距离不尽相同，在实际放置基片时，可将基片向深度较小的边框槽靠近或贴紧放置，即首先保证基片在深度较小边框槽处无效边被遮挡，即可保证各个无效边被遮挡，如此即可避免基片放置到基片槽中之后的遮挡无效边区域变小、甚至遮挡失败的情况，满足镀膜要求；另外，在基片与压块之间设置弹性件，可保证始终对基片实现压紧，从而解决基片厚度的差异会造成基片无法同时压紧的情况。附图说明图1为本技术实施例提供的基片固定装置的结构示意图；图2为本技术又一实施例提供的基片固定装置的结构示意图；图3为本技术又一实施例提供的基片固定装置的截面示意图；图4为本技术又一实施例提供的弹性件的结构示意图；图5为本技术又一实施例提供的压块的结构示意图。其中：1-待镀膜区域，2-载板，21-边框，22-边框槽，3-基片，4-压块，41-安装槽，5-弹性件，51基座，52-弹簧，53-压柱，54-安装罩，55-限位卡边。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能解释为对本技术的限制。如图1所示，本技术实施例提供了一种基片固定装置，所述基片固定装置包括：由四个边框21围成的载板2，所述边框21围成与待镀膜区域1对应的基片槽，沿所述基片槽的边缘在所述边框21与所述基片3相邻的一侧分别设置有对应的边框槽22，所述基片3边缘放置在所述边框槽22上，即所述边框槽22用于承载所述基片3；其中，至少一个所述边框槽22的深度小于其他所述边框槽22的深度。定义边框槽22的深度为边框槽22外侧边缘到对应的边框21的内侧边缘的距离，也即边框槽22沿所述载板2边长方向的深度。本实例中，载板2为正方形，四个边框21围成了基片槽，相邻两个边框槽22深度相等，且小于其他两个边框槽22深度，将基片3靠近或者贴近深度较浅的边框槽22放置，则可以遮挡基片3至少两个无效边，若基片3变小，则其他两个被遮挡的无效边变窄，若基片3尺寸变大，则其他两个被遮挡的无效边变宽，如此可以使待镀膜区域1的有效面积一定，且不会造成无效边遮挡失败。在本技术的其他实施例中，载板2的具体形状和边框槽22的深度根据具体使用需求设置，并且边框槽22可以是四个边框21的内周表面内凹形成，或者边框21的内周表面设置成凸台样式的边框槽22。其中，具体的，如图1所示的实施例中，先将基片3的右下角顶到基片槽右下角边缘，即基片3的右侧边缘、下侧边缘分别顶到右下角相邻的两个边框槽，如此可保证基片3的右侧边、下侧边能够被两个边框21进行有效遮挡，从而能够保证无效边区域；由于该基片3尺寸较大，其在保证中部的待镀膜区域1之外，剩余的两个无效边也可以被遮挡，最终可实现四个边的无效边区域的遮挡；如图2所示的实施例，该基片3尺寸相对较小，但道理相同，依然是先保证右下角的两个无效边，由于基片尺寸变小，其余两个被遮挡的无效边较图1所示的同一位置的无效边减小，但最终均可实现四个边的无效边区域的遮挡。本技术实施例中，通过设置，使得基片槽的任意一个角相邻的两个边框槽22，与各自对应的边框21的内侧边缘的距离均小于其他边框槽22的深度，在实际放置基片3时，可将基片3相邻两个边与深度较浅的两个边框槽22贴紧，即首先保证基片3在该两个边框槽22处的无效边被遮挡，而其余两个被遮挡的无效边则根据基片的实际尺寸变化，避免基片3放置到基片槽中之后的遮挡无效边区域变小、甚至遮挡失败的情况，满足镀膜要求；本技术结构简单，但实际使用优势明显。应当理解，若基片3经过反复使用后的最小尺寸不能满足有效镀膜区域1和最小无效边的面积之和时，该基片即为不合格产品，则该基片3无法继续使用，也不存在遮挡无效边的需求，只有在基片3的最小尺寸至少满足有效镀膜区域和最小无效边的面积之和时，才需要通过遮挡无效边满足实际使用。为了进一步固定基片3，在基片3的背面，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基片固定装置，所述基片固定装置包括：由四个边框围成的载板，所述边框围成与待镀膜区域对应的基片槽，沿所述基片槽的边缘在所述边框与基片相邻的一侧分别设置有对应的边框槽，所述边框槽用于承载所述基片；其特征在于，至少一个边框槽的深度小于其他边框槽的深度。

【技术特征摘要】
1.一种基片固定装置，所述基片固定装置包括：由四个边框围成的载板，所述边框围成与待镀膜区域对应的基片槽，沿所述基片槽的边缘在所述边框与基片相邻的一侧分别设置有对应的边框槽，所述边框槽用于承载所述基片；其特征在于，至少一个边框槽的深度小于其他边框槽的深度。2.根据权利要求1所述的基片固定装置，其特征在于，所述基片固定装置还包括压块，所述压块设置在所述基片与所述待镀膜区域相反的一侧，且所述压块与所述载板压合，用于压紧固定基片。3.根据权利要求2所述的基片固定装置，其特征在于，所述载板为正方形，相邻两个所述边框槽深度相等，且小于其他两个所述边框槽深度。4.根据权利要求2或3所述的基片固定装置，其特征在于，所述基片固定装置还包括弹性件，所述弹性件设置在所述基片与所述压块之间。5.根据权利要求4所述的基片固定装置，其特征在于，所述弹性件上表面与所述基片表面贴合，将所述基片压紧在所述载板上。6.根据权利要求5...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘旭，蒲春，
申请(专利权)人：北京创昱科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11