具有遮光层的偏振光栅及其制作方法、阵列基板、显示面板、显示模组及终端技术

本发明专利技术公开了一种具有遮光层的偏振光栅及其制作方法、阵列基板、显示面板、显示模组及终端。该制作方法包括：在基板上形成金属层；在所述金属层上形成遮挡层，其中，所述遮挡层包括遮光图案层和偏振光栅图案层；根据所述遮挡层对所述金属层进行刻蚀，以形成所述偏振光栅，其中，所述偏振光栅包括偏振部和直接连接于所述偏振部的遮光部。提高了显示面板的结构的紧凑性。

Polarization grating with shading layer and its fabrication method, array substrate, display panel, display module and terminal

The invention discloses a polarization grating with a light-shielding layer and its fabrication method, an array substrate, a display panel, a display module and a terminal. The fabrication method includes: forming a metal layer on a substrate; forming a shielding layer on the metal layer, wherein the shielding layer comprises a light shielding pattern layer and a polarization grating pattern layer; etching the metal layer according to the shielding layer to form the polarization grating, wherein the polarization grating comprises a polarization part and a straight line. The shading part connected to the polarization part is connected. The compactness of the display panel is improved.

【技术实现步骤摘要】
具有遮光层的偏振光栅及其制作方法、阵列基板、显示面板、显示模组及终端
本专利技术属于显示
，具体地讲，涉及一种具有遮光层的偏振光栅及其制作方法、阵列基板、显示面板、显示模组及终端。
技术介绍
液晶显示器作为人与信息的沟通界面，是当前主流的显示方式。它具有高空间利用率、低功耗、无辐射以及低电磁干扰等优越特性，在电视、手机、平板电脑等信息沟通工具中广泛使用。液晶显示器是一种通过电场来调节液晶分子的排列状态，从而实现光通量调制的被动型显示器件。目前应用最广泛的液晶显示器件是扭曲向列型液晶显示器，它是将液晶夹在两片玻璃之间并使其分子沿玻璃表面平行排列，分子在两片玻璃之间连续扭曲一定角度，玻璃外面再配上偏振片。当显示部位施加上电压后，会引起液晶分子排列状态的改变，通过调制光通量从而达到显示的目的。为了提高液晶显示器的明暗对比度和光通率，一般直接在阵列基板上设置偏光片。另外为进一步提高液晶显示器的对比度，还会在阵列基板的薄膜晶体管的下方设置遮光结构，减少外界光源对半导体层的激发，避免显示不良。然而，现有技术中光栅和遮光结构为独立的两层，降低了显示面板的结构紧凑性。
技术实现思路
为了解决上述现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种提高显示面板的结构紧凑性的偏振光栅及其制作方法、阵列基板、显示面板、显示模组及终端。为了实现上述的目的，本专利技术采用了如下的技术方案：一种具有遮光层的偏振光栅的制作方法，包括：在基板上形成金属层；在所述金属层上形成遮挡层，其中，所述遮挡层包括遮光图案层和偏振光栅图案层；根据所述遮挡层对所述金属层进行刻蚀，以形成所述偏振光栅，其中，所述偏振光栅包括偏振部和直接连接于所述偏振部的遮光部。优选地，所述遮光图案层和偏振光栅图案层是在同一道工艺中形成的。优选地，在所述金属层上形成所述遮挡层的方法具体包括：在所述金属层上形成压印胶层；采用具有与所述遮光图案层和所述偏振光栅图案层相对应的压印模板对所述压印胶层进行转印处理以形成所述遮挡层。或者，在所述金属层上形成所述遮挡层的方法具体包括：在所述金属层上形成光阻层；采用与所述遮挡层相对应的掩模板对所述光阻层采用黄光工艺以形成所述遮挡层。优选地，所述遮光部包括阵列排布的多个遮光块，相邻的两列遮光块之间设置至少一条沿列方向延伸的第一栅条，每列遮光块中的相邻的两所述遮光块之间设置至少一条沿列方向延伸的第二栅条，所述偏振部包括所述第一栅条和所述第二栅条。优选地，所述遮光部包括阵列排布的多个遮光块，所述偏振部包括间隔设置的若干栅条，每一遮光块位于至少一所述栅条上。本专利技术还公开了一种具有遮光层的偏振光栅，包括偏振部和直接连接于所述偏振部的遮光部。优选地，所述遮光部包括阵列排布的多个遮光块，所述偏振部包括多条第一栅条和第二栅条；其中，相邻的两列遮光块之间设置至少一条沿列方向延伸的第一栅条，每列遮光块中的相邻的两所述遮光块之间设置至少一条沿列方向延伸的所述第二栅条。优选地，所述遮光部包括阵列排布的多个遮光块，所述偏振部包括间隔设置的若干栅条，每一遮光块位于至少一所述栅条上。优选地，所述遮光部和所述偏振部是在同一道工艺中形成的。优选地，所述遮光块呈长方体状，所述遮光部和所述偏振部为金属材料制成。优选地，所述偏振部的厚度为20nm～3000nm，所述偏振部的栅条的宽度为30nm～100nm，相邻两条所述栅条之间的间距为30nm～100nm。本专利技术还公开了一种阵列基板，包括利用上述任一项所述的制作方法制成的具有遮光层的偏振光栅，或者包括如上述任一项所述的具有遮光层的偏振光栅。本专利技术还公开了一种显示面板，包括阵列基板和具有遮光层的偏振光栅，所述具有遮光层的偏振光栅设置于所述阵列基板上，所述遮光部与所述阵列基板的薄膜晶体管正对，所述具有遮光层的偏振光栅为利用任一种上述的制作方法制成的具有遮光层的偏振光栅，或者所述具有遮光层的偏振光栅为任一种上述的具有遮光层的偏振光栅。本专利技术还公开了一种显示模组，包括利用上述任一项所述的制作方法制成的具有遮光层的偏振光栅，或者包括如上述任一项所述的具有遮光层的偏振光栅。本专利技术还公开了一种终端，包括利用上述任一项所述的制作方法制成的具有遮光层的偏振光栅，或者包括如上述任一项所述的具有遮光层的偏振光栅。有益效果：本专利技术公开的具有遮光层的偏振光栅的制作方法、具有遮光层的偏振光栅、阵列基板、显示面板、显示模组和终端，将偏振部和遮光部制作到一个部件上，提高了显示面板的结构的紧凑性。附图说明图1A至图1D为本专利技术的实施例一的具有遮光层的偏振光栅的制程图；图2A至图2C为本专利技术的实施例一的遮挡层的制程图；图3A至图3C为本专利技术的实施例二的遮挡层的制程图；图4为本专利技术的实施例三的具有遮光层的偏振光栅的俯视图；图5为本专利技术的实施例四的具有遮光层的偏振光栅的剖面图；图6为本专利技术的实施例五的显示面板的剖面图；图7为本专利技术的实施例五的另一显示面板的剖面图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。实施例一图1A至图1D示出了根据本专利技术的具有遮光层的偏振光栅的制程图，该具有遮光层的偏振光栅的制作方法包括步骤一至步骤四：步骤一：参照图1A，在基板10上形成金属层20。作为优选实施例，基板10优选为玻璃基板，金属层20的材料选为金属钼，采用沉积工艺在基板10的表面上生长一层钼薄膜。当然在其他实施方式中，金属层20的材料还可以选为铝，金属层20在材料的选择上要保证具有良好的遮光性。步骤二：参照图1B，在金属层20上形成遮挡层，遮挡层包括遮光图案层31和偏振光栅图案层32。其中，遮光图案层31和偏振光栅图案层32是在同一道工艺中形成的。作为优选实施方式，该步骤二具体包括步骤二一至步骤二三。具体地，步骤二一：参照图2A，在金属层20上形成压印胶层30。进一步地，压印胶层30的材料优选为聚酰亚胺(Polyimide，简称PI)，采用涂覆的方式将聚酰亚胺均匀地涂布在金属层20上，以形成压印胶层30。当然在其他实施方式中，压印胶层30的材料还可以选为其他，另外还可利用旋涂机在金属层20上涂覆形成压印胶层30。步骤二二：参照图2B，采用具有与遮光图案层31和偏振光栅图案层32相对应的压印模板40对压印胶层30进行转印处理以形成遮挡层。具体地，压印模板40上设有与遮光图案层31对应的凹槽结构以及与偏振光栅图案层32对应的凹凸结构。进一步，将压印模板40对准压印胶层30后，直接对压印模板施力，使得压印胶层30的部分进入到凹槽结构内，压印胶层30的另一部分进入到凹凸结构内，且压印模板40抵接金属层20，这样压印胶层30被压印至凹槽结构和凹凸结构，且没有多余的残留层。步骤二三：参照图2C，将压印模板40剥离。具体地，将压印模板40压印至压印胶层30后，对压印胶层30进行固化处理，以使得压印胶层30上形成固定的遮光图案层31和偏振光栅图案层32。其中，优选采用紫外光照射压印胶层30以固化遮光图案层31和偏振光栅图案层32。固化处理后将压印模板40从压印胶层30上剥离。当然在其他实施方式中，压印模板40还可以采用圆柱体形的模板，该压印模板40的侧壁上设有与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有遮光层的偏振光栅的制作方法，其特征在于，包括：在基板(10)上形成金属层(20)；在所述金属层(20)上形成遮挡层，其中，所述遮挡层包括遮光图案层(31)和偏振光栅图案层(32)；根据所述遮挡层对所述金属层(20)进行刻蚀，以形成所述偏振光栅，其中，所述偏振光栅包括偏振部(22)和直接连接于所述偏振部(22)的遮光部(21)。

【技术特征摘要】
1.一种具有遮光层的偏振光栅的制作方法，其特征在于，包括：在基板(10)上形成金属层(20)；在所述金属层(20)上形成遮挡层，其中，所述遮挡层包括遮光图案层(31)和偏振光栅图案层(32)；根据所述遮挡层对所述金属层(20)进行刻蚀，以形成所述偏振光栅，其中，所述偏振光栅包括偏振部(22)和直接连接于所述偏振部(22)的遮光部(21)。2.根据权利要求1所述的具有遮光层的偏振光栅的制作方法，其特征在于，所述遮光图案层(31)和偏振光栅图案层(32)是在同一道工艺中形成的。3.根据权利要求2所述的具有遮光层的偏振光栅的制作方法，其特征在于，在所述金属层(20)上形成所述遮挡层的方法具体包括：在所述金属层(20)上形成压印胶层(30)；采用具有与所述遮光图案层(31)和所述偏振光栅图案层(32)相对应的压印模板(40)对所述压印胶层(30)进行转印处理以形成所述遮挡层。4.根据权利要求2所述的具有遮光层的偏振光栅的制作方法，其特征在于，在所述金属层(20)上形成所述遮挡层的方法具体包括：在所述金属层(20)上形成光阻层(80)；采用与所述遮挡层相对应的掩模板(90)对所述光阻层(80)采用黄光工艺以形成所述遮挡层。5.根据权利要求1至4任一项所述的具有遮光层的偏振光栅的制作方法，其特征在于，所述遮光部(21)包括阵列排布的多个遮光块(21a)，相邻的两列遮光块(21a)之间设置至少一条沿列方向延伸的第一栅条(22a)，每列遮光块(21a)中的相邻的两所述遮光块(21a)之间设置至少一条沿列方向延伸的第二栅条(22b)，所述偏振部(22)包括所述第一栅条(22a)和所述第二栅条(22b)。6.一种具有遮光层的偏振光栅，其特征在于，包括偏振部(22)和直接连接于所述偏振部(22)的遮光部(21)。7.根据权利要求6述的具有遮光层的偏振光栅，其特征在于，所述遮光部(21)包括阵列排布的多个遮光块(21a)，所述偏振部(22)包括多条第一栅条(22a)和第二栅条(22b)；其中，相邻的两列遮光块(21a)之间设置至少一条沿列方向延伸的第一栅条(22a...

【专利技术属性】
技术研发人员：颜源，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42