光栅耦合器及其制作方法技术

一种光栅耦合器及其制作方法，该光栅耦合器包括衬底层(10)、设置于衬底层(10)上的反射层(11)、设置于反射层(11)上的第一限制层(12)、设置于第一限制层(12)上的波导芯层(13)以及设置于波导芯层(13)上的第二限制层(14)。波导芯层(13)包括亚微米波导(130)、锥形波导(131)、扇形衍射光栅(132)和弧形分布布拉格反射光栅(133)。亚微米波导(130)与锥形波导(131)的窄端连接，锥形波导(131)的宽端与扇形衍射光栅(132)的凹面连接，扇形衍射光栅(132)的凸面与弧形分布布拉格反射光栅(133)的凹面连接。该光栅耦合器在垂直耦合的基础上，易于高密度集成、耦合损耗小。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】PCT国内申请，说明书已公开。

【技术保护点】
PCT国内申请，权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】PCT国内申请，...

【专利技术属性】
技术研发人员：涂鑫，付红岩，赵飞，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44