耐光的活性红染料制造技术

技术编号:1887771 阅读:181 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种耐光的活性红染料其结构为右式,其特点是:所述的活性红染料适合于大部分含羟基或含氮等纤维材料的染色和印花,如丝、皮革、木材、聚酰胺纤维和聚酯纤维,特别是纤维素纤维,如棉、亚麻、大麻纤维和再生纤维素。本发明专利技术的染料特别适合于纤维素纤维材料的染色和印花。本发明专利技术所述的活性红染料可使用已知的活性染料应用技术对以上纤维进行染色和印花。本发明专利技术的染料用于印染时,可获得色彩鲜艳的、耐光牢度和耐汗光牢度极好的染织物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于有机染料,特别涉及一种含紫外线吸收官能团的耐光的活性 红染料。
技术介绍
现代染色工艺要求活性染料具有高固色率、高提升力、高匀染性和高染 料一纤维键的稳定性。同时,还应具备良好的色牢度,如耐光牢度和耐汗光 牢度等。目前大量的专利报道是从研究活性染料的商品化技术角度来提高染料的 上述应用性能,而从染料分子结构的设计上针对提高其应用性能的专利报道 并不多。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种耐光的活性红染料。它从染料分子结构的设 计上有针对性地引入了紫外线吸收官能团。这样得到的染料特别适合纤维素 或其它亲核性纤维的染色和印花,这些染料表现出高耐光牢度和高耐汗光牢 度。本专利技术的具体内容 本耐光的活性红染料其结构为 (I )染料-<formula>formula see original document page 4</formula> (I )其中,R,为H或d C4的垸基; R2为H或d C4的烷基;R3为卤素、-NHR4或-N(Rs)2, R4为d C4的垸基或d C4的烷氧基、Rs为d C4的烷基或羟乙基;M各自为H或碱金属原子;本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种耐光的活性红染料,其结构为: (Ⅰ)染料: *** (Ⅰ) 其中: R↓[1]为H或C↓[1]~C↓[4]的烷基; R↓[2]为H或C↓[1]~C↓[4]的烷基; R↓[3]为卤素、-NHR↓[4]或-N(R↓[5])↓[2],R↓[4]为C↓[1]~C↓[4]的烷基或C↓[1]~C↓[4]的烷氧基、R↓[5]为C↓[1]~C↓[4]的烷基或羟乙基; M各自为H或碱金属原子; X↓[1]为H或磺酸基; X↓[2]为-CH=CH↓[2]、-C↓[2]H↓[4]OSO↓[3]M’或-C↓[2]H↓[4]Cl,M’为H或碱金属原子; 所述的R↓[1]、R↓[2]各自优选为-CH↓[3]; R↓[...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王占群孙作勇
申请(专利权)人:天津市秀波科技有限公司
类型:发明
国别省市:12[中国|天津]

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