基板清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术要求保护基板清洗装置。基板清洗机(1)具有：对基板进行保持的基板保持装置(10)；第1清洗装置(11)，其具有第1清洗部件(11a)，使该第1清洗部件与由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；第2清洗装置(12)，其具有第2清洗部件(12a)，使该第2清洗部件与基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；以及控制装置(50)，其将第1、2清洗装置(11、12)控制成，当第1清洗部件(11a)及第2清洗部件(12a)中的一方对由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)进行清洗时，使另一方处于离开基板(W)的位置。采用本发明专利技术，能用清洁的清洗部件进行清洗并能提高处理量。

Substrate cleaning device

The invention requires that the substrate cleaning device be protected. The substrate cleaning machine (1) has: a substrate holding device (10) for holding the substrate; a first cleaning device (11) having a first cleaning component (11a) for cleaning the first cleaning component in contact with the first surface (WA) of the substrate (W) held by the substrate holding device (10); and a second cleaning device (12) having a second cleaning component (12a). The second cleaning component contacts the first surface (WA) of the substrate (W) to clean the surface; and the control device (50) controls the first and second cleaning devices (11, 12) to clean the first surface (WA) of the substrate (W) held by the substrate holding device (10) when one of the first cleaning components (11a) and the second cleaning component (12a) cleans the first surface (WA) of the substrate (W) held by the substrate holding device (10). The other party is in the position of leaving the substrate (W). By adopting the invention, the cleaning parts can be cleaned and the processing capacity can be increased.

【技术实现步骤摘要】
基板清洗装置本申请为下述申请的分案申请：原申请的申请日：2014年7月18日原申请的申请号：201410345524.4原申请的专利技术名称：基板清洗机、基板清洗装置、清洗后基板的制造方法及基板处理装置
本专利技术涉及一种基板清洗机、基板清洗装置、清洗后基板的制造方法及基板处理装置，尤其涉及一种用清洁的清洗部件进行清洗并缩短清洗所需的时间的基板清洗机、基板清洗装置、清洗后基板的制造方法及基板处理装置。
技术介绍
半导体晶片等的基板，在对其表面进行镀铜处理、CMP(化学机械研磨)处理后，在基板表面上会残留研磨屑及浆料。因此，在研磨基板后，一般通过基板清洗装置对基板进行清洗处理。作为进行这种清洗处理的清洗装置，具有辊形或笔形的清洗部件，通过使清洗部件一边旋转一边擦在旋转的基板上而对基板进行清洗，并设有自动清洁装置，该自动清洁装置对因清洗一个基板而被污染的清洗部件予以清洁化以清洗下个基板(例如，参照专利文献1)。另外，有这样一种基板清洗装置，其构成：一边将药液供给到基板表面上，一边用笔形海绵或辊形海绵等的海绵清洗件对基板表面进行擦洗，然后，在使海绵清洗件与基板表面接触的状态下将纯水等冲洗液本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，具有：基板保持部，该基板保持部对基板进行保持并使所述基板旋转；海绵清洗件，该海绵清洗件一边绕自身中心轴线旋转，一边与所述基板的表面接触；药液供给喷管，该药液供给喷管将药液供给到所述基板的表面上；以及药液供给机构，该药液供给机构将药液直接供给到所述海绵清洗件上。

【技术特征摘要】
2013.07.19 JP 2013-150506;2013.09.26 JP 2013-199471.一种基板清洗装置，其特征在于，具有：基板保持部，该基板保持部对基板进行保持并使所述基板旋转；海绵清洗件，该海绵清洗件一边绕自身中心轴线旋转，一边与所述基板的表面接触；药液供给喷管，该药液供给喷管将药液供给到所述基板的表面上；以及药液供给机构，该药液供给机构将药液直接供给到所述海绵清洗件上。2.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述海绵清洗件在内部具有药液流道，所述药液在该药液流道流动。3.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述药液供给机构构成为将所述药液直接供给到所述海绵清洗件的内部。4.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述药液供给机构包含供给管，该供给管将所述药液直接供给到所述海绵清洗件的上表面上。5.如权利要求1至权利要求4中任一项所述的基板清装置，其特征在于，具有腔室，该腔室收容所述基板保持部及所述海绵清洗件，所述海绵清洗件构成为包含第1海绵清洗件和第2海绵清洗件，所述基板清装置还具有第1臂部和第2臂部，该第1臂部设于所述腔室内且支承所述第1海绵清洗件，该第2臂部设于所述腔室内且支承所述第2海绵清洗件。6.如权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于，具有第1自动清洁装置和第2自动清洁装置，该第1自动清洁装置配置于由所述基板保持部保持的所述基板的周围且对所述第1海绵清洗件进行清洗，该第2自动清洁装置配置于由所述基板保持部保持的所述基板的周围且对所述第2海绵清洗件进行清洗。7.如权利要求6所述的基板清洗装置，其特征在于，所述第1自动清洁装置构成为包含第1清洗板和第1药液喷管，所述第1海绵清洗件按压在该第1清洗板上，该第1药液喷管将药液供给到所述第1海绵清洗件，所述第2自动清洁装置构成为包含第2清洗板和第2药液喷管，所述第2海绵清洗件按压在该第2清洗板上，该第2药液喷管将药液供给到所述第2海绵清洗件。8.如权利要求6所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：樱井武史，平井英治，滨浦薰，宫崎充，丸山浩二，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP