The invention discloses a device for performing exposure processing, including an exposure chamber, a light source assembly, a projection assembly, a bearing platform, a fixed support, and a support frame; a light source assembly, a projection assembly and a support platform are all arranged in the exposure chamber; a light source assembly is used for generating exposure light; and a projection assembly includes a lens and a support. A rail component is fixed at the edge of the lens body; the rail component is a slender prism component extending along the left and right directions in a way orthogonal to the central axis; the upper surface of the rail component joins the back of the lens body; the rail component extends on the left and right ends of the lens body; the first and second connecting components Fixed in the middle part of the left and right directions of the track components, the first and second connecting parts are constructed in U shape with an upward opening; the first and second connecting parts are orthogonal to the central axis of the lens body. The invention can adjust the angle of the projection component in the equipment used for carrying out the exposure processing.
【技术实现步骤摘要】
用于执行曝光处理的设备
本专利技术涉及曝光
,特别涉及一种用于执行曝光处理的设备。
技术介绍
传统的用于执行曝光处理的设备一般包括曝光光源和投影镜片,该曝光光源用于产生曝光光线,并将该曝光光线通过该投影镜片照射待进行曝光处理的器件。该投影镜片在上述传统的用于执行曝光处理的设备中的位置和角度一般是固定的,也就是说,该投影镜片无法改变其接收曝光光线或输出曝光光线的角度。当需要对具有斜面的显示器件或半导体器件进行曝光处理时,上述传统的用于执行曝光处理的设备无法向该具有斜面的显示器件或半导体器件输出正对该斜面的曝光光线,从而无法对待进行曝光处理的显示器件或半导体器件进行更优的曝光处理。故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于执行曝光处理的设备,其能调整投影组件在用于执行曝光处理的设备中的角度。为解决上述问题,本专利技术的技术方案如下:一种用于执行曝光处理的设备,所述用于执行曝光处理的设备包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架;所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内;所述光源组件用于产生曝光光线,并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件;所述投影组件包括透镜和支撑构件,所述透镜包括透镜主体,所述透镜主体的边缘部固定有轨道部件;两个所述轨道部件安装在所述透镜主体的边缘部,所述轨道部件在所述透镜的摆动运动的中心轴的轴向上隔开预定的间隔配置,所述轨道部件是以与所述中心轴正交的方式沿左右方向延伸的细长的棱柱部件,所述轨道部件的上表面与所述透镜主体的背面接合,所述 ...
【技术保护点】
1.一种用于执行曝光处理的设备,其特征在于,所述用于执行曝光处理的设备包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架;所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内;所述光源组件用于产生曝光光线,并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件;所述投影组件包括透镜和支撑构件,所述透镜包括透镜主体,所述透镜主体的边缘部固定有轨道部件;两个所述轨道部件安装在所述透镜主体的边缘部,所述轨道部件在所述透镜的摆动运动的中心轴的轴向上隔开预定的间隔配置,所述轨道部件是以与所述中心轴正交的方式沿左右方向延伸的细长的棱柱部件,所述轨道部件的上表面与所述透镜主体的背面接合,所述轨道部件在所述透镜主体的左右两端上延伸;第一连接部件、第二连接部件分别固定在所述轨道部件的左右方向的中间部分,所述第一连接部件、所述第二连接部件构造成向上开口的U字形,所述第一连接部件、所述第二连接部件具有近端部分和远端部分;所述第一连接部件、所述第二连接部件正交于所述透镜主体的中心轴。
【技术特征摘要】
1.一种用于执行曝光处理的设备,其特征在于,所述用于执行曝光处理的设备包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架;所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内;所述光源组件用于产生曝光光线,并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件;所述投影组件包括透镜和支撑构件,所述透镜包括透镜主体,所述透镜主体的边缘部固定有轨道部件;两个所述轨道部件安装在所述透镜主体的边缘部,所述轨道部件在所述透镜的摆动运动的中心轴的轴向上隔开预定的间隔配置,所述轨道部件是以与所述中心轴正交的方式沿左右方向延伸的细长的棱柱部件,所述轨道部件的上表面与所述透镜主体的背面接合,所述轨道部件在所述透镜主体的左右两端上延伸;第一连接部件、第二连接部件分别固定在所述轨道部件的左右方向的中间部分,所述第一连接部件、所述第二连接部件构造成向上开口的U字形,所述第一连接部件、所述第二连接部件具有近端部分和远端部分;所述第一连接部件、所述第二连接部件正交于所述透镜主体的中心轴。2.根据权利要求1所述的用于执行曝光处理的设备,其特征在于,所述第一连接部件、所述第二连接部件比所述透镜主体的前侧面、后侧面更接近所述透镜主体的中央。3.根据权利要求1所述的用于执行曝光处理的设备,其特征在于,所述支撑构件具有安装台,所述安装台的支承构件的板状部的长度方向的两端部与所述第一连接部件、所述第二连接部件交叉地沿所述中心轴的轴向延伸。...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:佛山尉达科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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