The invention belongs to the technical field of semiconductor manufacturing, in particular to a plasma etching machine, which comprises a reaction chamber with an ion-producing electrode; a support frame is arranged above the ion-producing electrode to support the workpiece to be processed; a mounting hole is arranged vertically on the surface of the support frame; and an ion-producing electrode is corresponding to the ion-producing electrode. A threaded hole is arranged in the area of the mounting hole, and the mounting hole and the threaded hole are connected by screws; a pad is arranged between the screw and the supporting frame, which can prevent the screw from loosening in the mounting hole due to vibration; a sealing unit is arranged in the position of the mounting hole, and the sealing unit is located above the pad, and the sealing unit and the pad are arranged between the screw and the supporting frame. The plates are mutually matched to realize the sealing of the mounting holes of the supporting frames. The invention can fix the sealing unit, and at the same time adopts sealing rings and liquid seals and other forms to prevent plasma from entering the mounting hole and causing damage to the ion electrode, thereby improving the service life of the etcher.
【技术实现步骤摘要】
一种等离子刻蚀机
本专利技术属于半导体制造
,具体的说是一种等离子刻蚀机。
技术介绍
等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。现有技术中也出现了一些等离子刻蚀机的技术方案,如申请号为2015106577680的一项中国专利公开了一种等离子刻蚀机,包括反应腔室,所述反应腔室内设置有离子产生电极,所述离子产生电极上方设置有支撑框以支撑待加工工件,所述支撑框开设有安装孔,所述离子产生电极在对应着所述安装孔的区域开设有螺纹孔,所述安装孔和所述螺纹孔通过螺钉连接,所述螺钉的轴向、且位于所述螺钉的上方设置有密封单元,所述密封单元用于密封所述安装孔。该技术方案虽然通过密封帽盖、密封圈和密封体实现了对安装孔内螺钉的保护,但是由于工作温度高,密封圈容易发生失效,这时,等离子体便能够通过密封单元与支撑框之间的间隙进入安装孔,对离子产生电极进行破坏;而且,密封单元没有很好的实现固定,可能会因连接松动导致出现间隙的情况,使得该专利技术的使用受到限制。鉴于此,本专利技术所述的一种等离子刻蚀机,能够对密封单元进行固定,同时采用密封圈和液封等多种形式来阻止等离子体进入安装孔后对离子产生电极造成破坏,提高了刻蚀机的使用寿命。
技术实现思路
为了弥补现有技术的不足,本专利技术提出了一种等离子刻蚀机, ...
【技术保护点】
1.一种等离子刻蚀机,包括反应腔室,所述反应腔室内设置有离子产生电极(2);所述离子产生电极(2)上方设置有支撑框(1)以支撑待加工工件;所述支撑框(1)上表面竖直开设有安装孔;所述离子产生电极(2)在对应着安装孔的区域开设有螺纹孔,安装孔和螺纹孔通过螺钉(3)连接,其特征在于:所述螺钉(3)与支撑框(1)之间设置有垫板(4),垫板(4)能够避免螺钉(3)因振动而在安装孔内发生松动;所述支撑框(1)在安装孔的位置设置有密封单元(5),密封单元(5)位于垫板(4)的上方,密封单元(5)与垫板(4)相互配合实现对支撑框(1)的安装孔的密封。
【技术特征摘要】
1.一种等离子刻蚀机,包括反应腔室,所述反应腔室内设置有离子产生电极(2);所述离子产生电极(2)上方设置有支撑框(1)以支撑待加工工件;所述支撑框(1)上表面竖直开设有安装孔;所述离子产生电极(2)在对应着安装孔的区域开设有螺纹孔,安装孔和螺纹孔通过螺钉(3)连接,其特征在于:所述螺钉(3)与支撑框(1)之间设置有垫板(4),垫板(4)能够避免螺钉(3)因振动而在安装孔内发生松动;所述支撑框(1)在安装孔的位置设置有密封单元(5),密封单元(5)位于垫板(4)的上方,密封单元(5)与垫板(4)相互配合实现对支撑框(1)的安装孔的密封。2.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机,其特征在于:所述安装孔为台阶孔,台阶孔包括第一台阶孔和位于第一台阶孔上方的第二台阶孔,第二台阶孔的孔径大于第一台阶孔的孔径;所述螺钉(3)的主体部分位于螺纹孔和第一台阶孔内,螺钉(3)的头部位于第二台阶孔内;所述垫板(4)位于第二台阶孔内,垫板(4)为“U”字型结构,螺钉(3)头部位于垫板(4)内,螺钉(3)穿过垫板(4)底部将支撑框(1)与离子产生电极(2)通过螺纹实现连接,垫板(4)上端的开口位置竖直设置有螺纹结构;所述密封单元(5)与垫板(4)通过螺纹实现连接。3.根据权利要求2所述的一种等离子刻蚀机,其特征在于:所述密封单元(5)包括密封盖(51)、活塞(52)和活塞杆(53),所述密封盖(51)为圆柱体,圆柱体底面上沿外圆周表面设置有圆环形凹槽,圆柱体的下端位于支撑框(1)的第二台阶孔内,圆柱体的台阶面与支撑框(1)的上表面接触,圆柱体的底面上沿轴向竖直开设有沉孔一,在沉孔一的顶端同轴竖直开设有...
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