一种刻蚀阳极膜层的方法及其显示面板技术

本发明专利技术公开了一种刻蚀阳极膜层的方法，用于解决现有技术中对阳极膜层进行刻蚀时会导致刻蚀药液与阳极膜层下的金属连接线接触，使得阳极膜层下的金属连接线被刻蚀的问题，包括：使用第一药液对所述阳极膜层进行第一次刻蚀，去除所述阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层和金属导电膜层；使用第二药液对第一次刻蚀后的所述阳极膜层进行第二次刻蚀，去除所述阳极膜层中的底层导电氧化物膜层，所述第二药液选自不会损伤所述金属连接线的药液中的一种或多种混合药液。本发明专利技术还公开了一种显示面板。

Method for etching anode film and display panel thereof

The invention discloses a method for etching an anode film layer, which is used to solve the problem that the etching solution may contact the metal connecting wire under the anode film when etching the anode film layer in the prior art, thereby causing the metal connecting wire under the anode film to be etched, including: using the first pharmaceutical solution to etch the anode film layer first The second etching removes the top conductive oxide film and the metal conductive film in the anode film layer; the second etching of the anode film after the first etching is carried out using a second pharmaceutical solution to remove the bottom conductive oxide film in the anode film layer, and the second pharmaceutical solution is selected from the metal connecting wire without damaging the metal connecting wire. One or more mixed liquids in a liquid. The invention also discloses a display panel.

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀阳极膜层的方法及其显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种刻蚀阳极膜层的方法及其显示面板。
技术介绍
随着显示技术的发展，新型显示产品层出不穷。其中，有机发光显示面板凭借其反应速度快、对比度高、视角宽度广等优点被认定为下一代最具潜力的显示面板。现有技术中，在OLED的阳极上形成包括顶层导电氧化物膜层、中间的金属导电膜层和底层导电氧化物膜层(ITO/Ag/ITO)三层结构的阳极膜层之后，往往要对该阳极膜层进行刻蚀，以形成图形化的阳极，从而实现显示区域与外部电路的电性连接。在上述场景中，通常使用包括磷酸、硝酸和醋酸的刻蚀药液对该阳极膜层进行刻蚀，在此过程中，由于刻蚀药液中的磷酸、硝酸和醋酸既能与阳极膜层中的ITO/Ag/ITO反应，也会与阳极膜层下的PAD区和FPC(FlexiblePrintedCircuit，中文名称为可弯曲印刷电路)的金属连接线Ti/Al/Ti中的Al反应，使得阳极膜层下的金属连接线Ti/Al/Ti中的Al被刻蚀掉，进而导致附着在Al上的Ti脱落，这些脱落的Ti可能会散布在阳极上，由于Ti能够导电，这将导致阳极短路以及亮点、烧屏甚至导致PAD区的金属连接线被刻蚀断等问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种刻蚀阳极膜层的方法及应用该方法制备的显示面板，用于解决现有技术中对阳极膜层进行刻蚀时会导致刻蚀药液与阳极膜层下的金属连接线接触，使得阳极膜层下的金属连接线被刻蚀的问题。本专利技术实施例采用下述技术方案：一种刻蚀阳极膜层的方法，包括：使用第一药液对所述阳极膜层进行第一次刻蚀，去除所述阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层和金属导电膜层；使用第二药液对第一次刻蚀后的所述阳极膜层进行第二次刻蚀，去除所述阳极膜层中的底层导电氧化物膜层，所述第二药液选自不会损伤所述金属连接线的药液中的一种或多种混合药液。优选地，所述第一药液为硝酸、醋酸、磷酸的混合液，所述第一药液包含的硝酸为6.5％-7.5％，醋酸为13％-15％，磷酸为48％-51％，水为28％-32％。优选地，所述第二药液为草酸，所述第二药液的草酸浓度为2.4％-3.4％。优选地，所述第一次刻蚀的模式为喷射模式。优选地，所述第一刻蚀的刻蚀压力为0.15Mpa-0.35Mpa。优选地，所述第一、第二次刻蚀的条件包括：所述金属导电膜层与所述底层透明导电层的线宽损失均不大于1.5μm。优选地，所述第一次刻蚀的刻蚀终点为：所述银薄膜由反光状态转为透明状态；优选地，当所述第一次刻蚀的刻蚀到达终点时，会造成所述底层导电氧化物膜层厚度损失不大于所述底层导电氧化物膜层厚度的百分之五十。优选地，在所述第二次刻蚀去除所述阳极膜层中的所述底层导电氧化物膜层之后，所述方法还包括：剩余的底层导电氧化物膜层在第二次刻蚀后的轮廓角度不大于90°，且所述阳极膜层中无任意膜层缩进。一种显示面板，包括通过上述所述方法制成的显示面板。本专利技术实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：本申请中，使用第一药液对阳极膜层进行第一次刻蚀，去除阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层和金属导电膜层，在第一刻蚀的过程中，第一药液仅去除阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层和金属导电膜层，使得阳极膜层中的底层导电氧化物膜层便可以能够保护阳极膜层下的金属连接线Ti/Al/Ti；然后再使用第二药液对阳极膜层进行第二次刻蚀，去除阳极膜层中的底层导电氧化物膜层，该第二药液选自不会损伤金属连接线中的药液中的一种或多种混合药液，因此能够避免刻蚀阳极膜层的过程中导致阳极膜层下的金属连接线被刻蚀的问题。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为本申请实施例提供的方法的实施流程示意图；图2为本申请实施例提供的方法实施的具体过程示意图；图3为使用本专利技术实施例提供的方法刻蚀阳极膜层之后的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术具体实施例及相应的附图对本专利技术技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。以下结合附图，详细说明本专利技术各实施例提供的技术方案。为解决现有技术中对阳极膜层进行刻蚀时会导致刻蚀药液与阳极膜层下的金属连接线接触，进而导致阳极膜层下的金属连接线损伤的问题，本申请提供一种刻蚀阳极膜层的方法，如图1所示，为该方法的实施流程示意图，包括：步骤101，使用第一药液对阳极膜层进行第一次刻蚀，去除阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层和金属导电膜层；其中，阳极膜层，如图2所示，包括顶层导电氧化物膜层11、中间的金属导电膜层12和底层导电氧化物膜层13的三层结构；导电氧化物膜层包括ITO、IZO等导电氧化物，本实施例中的导电氧化物膜层为ITO，即顶层ITO、中间的Ag或美银合金等金属导电物和底层ITO的三层结构。本申请提供的方法用于刻蚀如图1所示的阳极膜层，如
技术介绍
所述，现有技术中，在刻蚀阳极膜层的过程中，刻蚀药液会与阳极膜层下的金属连接线的区域14接触，进而导致金属连接线被刻蚀、从而造成金属线断裂损伤的问题。为了解决刻蚀药液会与阳极膜层下的金属连接线接触，导致金属连接线的区域14被侵蚀的问题，本申请提供的方法首先使用第一药液对阳极膜层进行第一次刻蚀，去除阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层11和中间的金属导电膜层12，该第一药液为硝酸、醋酸、磷酸的混合液，在第一次刻蚀的过程中，第一药液仅刻蚀阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层11和金属导电膜层12，避免第一药液与底层导电氧化物膜层13进行反应，这样在第一次刻蚀过程中，底层导电氧化物膜层13便能起到对阳极膜层下金属连接线的区域14的保护作用。在此基础上，为了能够使得第一药液能够同时与顶层导电氧化物膜层11和金属导电膜层12反应，本申请提供的方法中的第一药液的配比为：硝酸为6.5％-7.5％，醋酸为13％-15％，磷酸为48％-51％，水为28％-32％。由于第一次刻蚀要同时刻蚀掉阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层11和中间的金属导电膜层12，为了提高生产效率，在第一次刻蚀时可以选择刻蚀速率相对较快的喷射刻蚀模式来对阳极膜层进行刻蚀，在实际应用过程中可以选择喷射(Spary)类型的刻蚀设备来执行第一次刻蚀，其中，在采用喷射类型的刻蚀设备进行第一次刻蚀时，刻蚀压力可以为0.15Mpa-0.35Mpa。优选地，为了尽可能减少底层导电氧化物膜层的线宽损失，在实际刻蚀过程中，该刻蚀压力可以为0.2Mpa-0.25Mpa。在实际操作过程中，为了使得刻蚀的较为均匀，顶层导电氧化物膜层11和金属导电膜层12的线宽损失(CDLoss)往往不大于1.5μm，优选地，在实际刻蚀过程中，为了保证较好的均一性，顶层导电氧化物膜层11和金属导电膜层12的线宽损失可以为1μm。其中均一性可以用来衡量刻蚀的均匀性，在实际应用中可以用最大线宽损失与最小线宽损失的差值和最大线宽损失与最小线宽损失的和之间的比值来衡量，该比值约小，则表明均一性越好，也就是刻蚀的越均匀。为了能够及时确定刻蚀终点，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种刻蚀阳极膜层的方法，其特征在于，包括：使用第一药液对所述阳极膜层进行第一次刻蚀，去除所述阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层和金属导电膜层；使用第二药液对第一次刻蚀后的所述阳极膜层进行第二次刻蚀，去除所述阳极膜层中的底层电氧化物膜层，所述第二药液选自不会损伤所述金属连接线的药液中的一种或多种混合药液。

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀阳极膜层的方法，其特征在于，包括：使用第一药液对所述阳极膜层进行第一次刻蚀，去除所述阳极膜层中的顶层导电氧化物膜层和金属导电膜层；使用第二药液对第一次刻蚀后的所述阳极膜层进行第二次刻蚀，去除所述阳极膜层中的底层电氧化物膜层，所述第二药液选自不会损伤所述金属连接线的药液中的一种或多种混合药液。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一药液为硝酸、醋酸、磷酸的混合液，所述第一药液包含的硝酸为6.5％-7.5％，醋酸为13％-15％，磷酸为48％-51％，水为28％-32％。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二药液为草酸，所述第二药液的草酸浓度为2.4％-3.4％。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一次刻蚀的模式为喷射模式。5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一刻蚀...

【专利技术属性】
技术研发人员：张田超，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河北,13