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本发明公开了一种刻蚀阳极膜层的方法，用于解决现有技术中对阳极膜层进行刻蚀时会导致刻蚀药液与阳极膜层下的金属连接线接触，使得阳极膜层下的金属连接线被刻蚀的问题，包括：使用第一药液对所述阳极膜层进行第一次刻蚀，去除所述阳极膜层中的顶层导电氧化物...
该专利属于云谷（固安）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过云谷（固安）科技有限公司授权不得商用。

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