新型研磨盘制造技术

本实用新型专利技术提供了一种新型研磨盘，属于机械技术领域。它解决了现有的研磨盘在研磨时用于研磨的金刚砂易向一侧偏移的问题。本新型研磨盘，包括呈圆盘状的盘体，盘体的一端具有与盘体的中轴线垂直设置的研磨面，研磨面上设有与盘体的中轴线同轴设置的外环形挡边，外环形挡边的高度小于金刚砂的外径，外环形挡边与研磨面之间形成有用于容纳金刚砂的容纳腔，盘体上设有与容纳腔连通的送料孔，盘体远离容纳腔的一端设有用于储存金刚砂的储料槽，送料孔远离容纳腔的一端与该储料槽连通。本实用新型专利技术能有效防止金刚砂偏移，从而提高研磨精度。

【技术实现步骤摘要】
新型研磨盘
本技术属于机械
，涉及一种新型研磨盘。
技术介绍
通常采用研磨的方法对平面度要求较高的工件表面进行加工，现有的平面研磨工艺是在两平面间均匀铺上金刚砂，再使两平面相对转动，在两个平面相对转动时，两相对于工件表面的运动对如金刚砂类的研磨粉施以一压力，在压力的影响下研磨粉相对于工件表面研磨滚动。大量的实践证明，在该运动状态下，金刚砂在上下两平面摩擦力的作用下，砂粒的运动轨迹向研磨盘的旋转中心流动，从而造成了工件表面的不均匀磨削。中国专利公开了一种研磨盘[公告号为CN2566980Y]，至少包括有一主研磨盘，该主研磨盘具有一研磨端面；在该主研磨盘的同一个研磨端面内至少设有一个分研磨盘，该分研磨盘的研磨端面与主研磨盘的研磨端面在同一平面内；主研磨盘和分研磨盘由各自的驱动轴带动转动。其可以使得研磨用金刚砂均匀地铺平在平板上，从而实现均匀地研磨，达到平面度的较高的质量要求。但上述的研磨盘仍存在以下问题：由于设置了分研磨盘，导致其结构复杂，而且需要单独的驱动轴带动，工作时能耗高；设置的分研磨盘会影响主研磨盘在工件上所形成的研磨轨迹，导致工件表面研磨不均匀，研磨效果差。为防止金刚石从本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型研磨盘，包括呈圆盘状的盘体(1)，所述盘体(1)的一端具有与盘体(1)的中轴线垂直设置的研磨面，其特征在于，所述的研磨面上设有与盘体(1)的中轴线同轴设置的外环形挡边(2)，所述外环形挡边(2)的高度小于金刚砂的外径，所述的外环形挡边(2)与研磨面之间形成有用于容纳金刚砂的容纳腔，所述的盘体(1)上设有与容纳腔连通的送料孔，所述的盘体(1)远离容纳腔的一端设有用于储存金刚砂的储料槽(3)，所述的送料孔远离容纳腔的一端与该储料槽(3)连通。

【技术特征摘要】
1.一种新型研磨盘，包括呈圆盘状的盘体(1)，所述盘体(1)的一端具有与盘体(1)的中轴线垂直设置的研磨面，其特征在于，所述的研磨面上设有与盘体(1)的中轴线同轴设置的外环形挡边(2)，所述外环形挡边(2)的高度小于金刚砂的外径，所述的外环形挡边(2)与研磨面之间形成有用于容纳金刚砂的容纳腔，所述的盘体(1)上设有与容纳腔连通的送料孔，所述的盘体(1)远离容纳腔的一端设有用于储存金刚砂的储料槽(3)，所述的送料孔远离容纳腔的一端与该储料槽(3)连通。2.根据权利要求1所述的新型研磨盘，其特征在于，所述的研磨面上还设有若干位于外环形挡边(2)内侧的内环形挡边，若干所述的内环形挡边与研磨盘的中轴线同轴设置，且若干所述的内环形挡边将容纳腔分割成若干个与内环形挡边数量相等的环形容纳槽和一个位于正中部的圆形容纳槽(4)，位于最外侧的环形容纳槽通过送料孔与储料槽(3)连通，每个所述的内环形挡边上设有缺口。3.根据权利要求2所述的新型研磨盘，其特征在于，所述的内环形挡边为三个：位于最外侧的第一内环形挡边(5)，位于最内侧的第三内环形挡边(7)和位于第一内环形挡边(5)与第三内环形挡边(7)之间的第二内环形挡边(6)；所述的环形容纳槽为三个：位于外环形挡边(2)与第一内...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雷，
申请(专利权)人：台州市永安机械有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33