The invention discloses a coating treatment process for precious metal products, in which gold or silver or platinum are used as precious metal substrates. First, the precious metal substrates to be plated are pre-cleaned, the second step is activation treatment, and the third step is to use chemical deposition method to deposit organosilanes, stabilizers and auxiliary discharge gases in precious gold. It is a surface reaction, and the antioxidant film is prepared on the surface of the precious metal substrate, and then the precious metal coating products can be taken out; the organic silanes are the mixture of tetraethyl orthosilicate, 2(3,4_cyclohexane oxide) ethyl trimethoxysilane, 3-aminopropyl trimethoxysilane, and the stabilizers are cerium zirconia, N, N'. Ethylene bisstearic amide, bis (acetylacetone) isobutoxy isopropoxy titanate and zinc stearate are the four substances; the anti-oxidation film prepared by the invention has strong substrate adhesion, can play a very good anti-oxidation and anti-vulcanization effect, even after a period of time in high temperature environment, it still has very good adhesion.
【技术实现步骤摘要】
一种贵金属制品镀膜处理工艺
本专利技术涉及一种镀膜工艺,更具体的说是涉及一种贵金属制品镀膜处理工艺。
技术介绍
随着经济的快速发展,人们收入的普遍提高,现在越来越多的人都喜欢购买、收藏金、银、铂等贵金属制品,这些贵金属大多数拥有美丽的色泽,具有较强的化学稳定性,但是在长期使用过程中,贵金属还是会与空气中的氧气和硫化物进行反应,特别是金属银,因为银的化学性质相对较活泼,长时间暴露在自然环境中,银容易与空气中的氧气或者硫化物反应,导致其表面会出现“黑锈”,大大影响了银制品的观赏性,因此人们会在银金属表面镀一层膜,以提高银金属表面的抗氧化和抗硫化能力,同时还提高了耐磨性现有的镀膜工艺主要有两种,一种是在金属表面通过贴合的形式在表面覆盖一层透明的塑料薄膜,有效地隔绝外界灰尘和氧化气体对金属表面的反应,起到保护的效果;另一种在基材表面涂覆硅烷液体,在UV光源或者电子枪的作用下,在金属表面均匀的生产微米级的透明氧化硅保护膜,同样也能够达到贵金属表面防氧化的效果。但其中透明塑料薄膜的包裹不能很好的覆盖异形贵金属表面,异性贵金属表面还是很容易出现“黑锈”;而表面涂覆硅烷与水反应生 ...
【技术保护点】
1.一种贵金属制品镀膜处理工艺,其特征在于:包括以下步骤:步骤一:对待镀的贵金属基材进行镀膜前的预清洗处理;步骤二:对贵金属基材进行活化处理,在真空度为10‑20Pa的真空环境下,将预清洗处理后的待镀贵金属基材通过离子源放电处理系统进行表面放电处理,处理方式为先在温度20‑25℃条件下放电10‑20min,然后在贵金属基材表面涂刷活化剂,反复涂刷3遍,然后再进行放电处理,处理方式为在温度25‑30℃的条件下放电10‑30min,进一步对贵金属基材进行活化;步骤三:关闭离子源放电处理系统,重新抽至本底真空,然后通入有机硅烷类物质、稳定剂和辅助放电气体,其质量比为5:2:1;采 ...
【技术特征摘要】
1.一种贵金属制品镀膜处理工艺,其特征在于:包括以下步骤:步骤一:对待镀的贵金属基材进行镀膜前的预清洗处理;步骤二:对贵金属基材进行活化处理,在真空度为10-20Pa的真空环境下,将预清洗处理后的待镀贵金属基材通过离子源放电处理系统进行表面放电处理,处理方式为先在温度20-25℃条件下放电10-20min,然后在贵金属基材表面涂刷活化剂,反复涂刷3遍,然后再进行放电处理,处理方式为在温度25-30℃的条件下放电10-30min,进一步对贵金属基材进行活化;步骤三:关闭离子源放电处理系统,重新抽至本底真空,然后通入有机硅烷类物质、稳定剂和辅助放电气体,其质量比为5:2:1;采用等离子体化学气相沉积的方法,在真空度为20-40Pa的条件下,用中频电源或者射频电源进行放电,使得有机硅烷类物质和稳定剂以及辅助放电气体之间进行反应,在待镀的贵金属基材的表面镀制成一定厚度的氧化硅或者氮化硅防氧化膜;步骤四:关闭放电电源,完成整个防氧化薄膜的制备流程,待真空室恢复大气压后,取出完成防氧化薄膜镀制的贵金属镀膜制品。其中有机硅烷类物质为正硅酸乙酯、2-(3,4-环氧环己烷)乙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷的混合物,其质量比为3:1:1;稳定剂为氧化锆铈、N,N'-乙撑双硬脂酰胺、双(乙酰丙酮基)异丁氧基...
【专利技术属性】
技术研发人员:孔祥产,曾步坚,林德允,
申请(专利权)人:浙江银之源贵金属有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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