【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光电倍增器及其制作方法
本公开文涉及光电倍增器。
技术介绍
光电倍增器是能够使入射光产生的光电子多次倍增的设备。由此,光电倍增器甚至可以在入射光很弱的情况下检测到入射光。光电倍增器在核和粒子物理学、天文学、医学诊断(包括验血)、医学成像、电影胶片扫描、雷达干扰和高端图像扫描器中具有重要应用。图1示意性地示出了常规的光电倍增管(PMT)100,该光电倍增管包括外壳101,该外壳包含光电阴极102、数个倍增极104和电子集电极110。由于光电效应,进入PMT100且入射在光电阴极102上的光致使光电阴极102发射光电子。光电阴极102发射的光电子可称为一次电子。一次电子撞击接续的倍增极104,从而通过二次发射导致电子倍增。由倍增极104发射的电子可称为二次电子。平均来看,从每个倍增极104发射的电子数量大于撞击该倍增极104的电子数量。从最后一个倍增极发射的二次电子被集电极110收集并且用于检测入射光。尽管被广泛使用,PMT100的尺寸很大、笨重、易碎、昂贵且难以生产。
技术实现思路
本文公开了光电倍增器,包括:电子喷射器,其配置成回应于到电子喷射器上的入射光 ...
【技术保护点】
1.一种光电倍增器,包括:电子喷射器,其配置成回应于入射到所述电子喷射器上的入射光来发射一次电子;检测器,其配置成收集电子并提供代表所述入射光的输出信号;衬底;以及在所述衬底中并且在所述电子喷射器与所述检测器之间的第一电极,所述第一电极配置成回应于电子撞击所述第一电极而发射二次电子;在所述衬底中并且在所述第一电极与所述检测器之间的第二电极,所述第二电极配置成回应于电子撞击所述第二电极而发射二次电子;在所述衬底中并且在所述第二电极与所述检测器之间的第三电极,所述第三电极配置成回应于电子撞击所述第三电极而发射二次电子;其中,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极中的每个电极包 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光电倍增器,包括:电子喷射器,其配置成回应于入射到所述电子喷射器上的入射光来发射一次电子;检测器,其配置成收集电子并提供代表所述入射光的输出信号;衬底;以及在所述衬底中并且在所述电子喷射器与所述检测器之间的第一电极,所述第一电极配置成回应于电子撞击所述第一电极而发射二次电子;在所述衬底中并且在所述第一电极与所述检测器之间的第二电极,所述第二电极配置成回应于电子撞击所述第二电极而发射二次电子;在所述衬底中并且在所述第二电极与所述检测器之间的第三电极,所述第三电极配置成回应于电子撞击所述第三电极而发射二次电子;其中,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极中的每个电极包括与所述衬底的法线方向成角度的平坦或弯曲的表面;其中,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极中的每个电极包括第一端和第二端,所述第一端比所述第二端更接近所述电子喷射器;其中,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极中的每个电极在空间上布置成使得所述第一电极的第二端、所述第二电极的第二端以及所述第三电极的第二端在同一平面上,或者使得所述第一电极的第二端和所述第三电极的第二端所在的平面与所述第二电极相交。2.如权利要求1所述的光电倍增器,该光电倍增器进一步包括透明电极,所述透明电极配置成在所述电子喷射器与所述检测器之间建立电场。3.如权利要求1所述的光电倍增器,其中,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极中的每个电极包括MgO、碱锑化物、碱卤化物、BeO、GaP、GaAsP、PbO或Cs2O。4.如权利要求1所述的光电倍增器,其中,所述检测器包括一个或多个电极以及电连接到所述一个或多个电极的放大器。5.如权利要求1所述光电倍增器,其中,所述衬底包括半导体或绝缘体。6.如权利要求1所述的光电倍增器,其中,所述角度在30度与60度之间。7.如权利要求1所述的光电倍增器,其中,所述电子喷射器包括双碱、多碱、Ag-O-Cs、Sb-Cs、InGaAs、GaAs、Cs-Te或Cs-I。8.如权利要求1所述的光电倍增器,其中,所述输出信号是电压变化或频率变化。9.如权利要求1所述的光电倍增器,其中,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极至少部分地暴露。10.如权利要求9所述的光电倍增器,其中,所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极至少部分地暴露在所述衬底的孔中。11.如权利要求1所述的光电倍增器,其中,所述弯曲表面是部分圆柱形表面、部分球形表面或部分椭圆形表面。12.一种夜视设备,包括:如权利要求1所述的光电倍增器,其中,所述夜视设备配置成用于检测来自光源但对人类肉眼不可见的光子。13.一种用于制作光电倍增器的方法,所述方法包括:在衬底上制造第一多个支承结构,所述第一多个支承结构具有与所述衬底的法线方向成角度的平坦或弯曲的表面;在所述第一多个支承结构的平坦或弯曲的表面上形成第一多个电极。14.如权利要求13所述的方法,其中,通过微压印来制造所述第一多个支承结构。15.如权利要求13所述的方法,该方法进一步包括用材料层掩埋所述第一多个支承结构。16.如权利要求15所述的方法,该方法进一步包括在所述材料...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹培炎,刘雨润,
申请(专利权)人:深圳源光科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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