一种应用于中子散射腔的屏蔽体及其设计方法技术

技术编号:18574804 阅读:46 留言:0更新日期:2018-08-01 09:58
本发明专利技术涉及中子辐射技术领域,尤指一种应用于中子散射腔的屏蔽体及其设计方法;所述的屏蔽体为采用中子吸收材料制作成的中子吸收体,中子吸收体由四个不规则形状的内壁屏蔽体和若干个空间屏蔽体装配而成,上壁屏蔽体、下壁屏蔽体、左壁屏蔽体和右壁屏蔽体分别安装在散射腔内的上壁、下壁、左壁和右壁,使得散射腔内壁上附着大面积中子吸收材料,其中上壁屏蔽体和下壁屏蔽体上设计有通气孔及沟槽;空间屏蔽体通过上壁屏蔽体和下壁屏蔽体上设计的沟槽安装在散射腔内,将散射腔分割成若干个不同空间;成功消除了中子被散射腔体和高温、高压及强磁场等样品环境设备杂散后形成的干扰信号,因而降低了谱仪背底,提升了中子散射数据的纯净度。

A shielding body applied to neutron scattering cavity and its design method

The invention relates to the field of neutron radiation technology, especially a shielding body applied to a neutron scattering cavity and its design method; the shield is a neutron absorber made of neutron absorbing materials. The neutron absorber is assembled by four irregular shaped inner wall shields and several space shields, and the upper wall shield is shielded. The body, the lower wall shield, the left wall shield and the right wall shield are installed on the upper wall, the lower wall, the left wall and the right wall of the scattering cavity respectively, and the large area neutron absorbing materials are attached to the inner wall of the scattering cavity, in which the air blowholes and grooves are designed on the upper wall shield and the lower wall shield, and the space shield passes through the upper wall shield and the bottom. The grooves designed on the wall shield are installed in the scattering cavity to divide the scattering cavity into several different spaces, and the interference signals formed by the scattering cavity of the neutron and the high temperature, high pressure and the strong magnetic field are eliminated successfully. Thus the bottom of the spectrometer is reduced and the purity of the neutron scattering data is improved.

【技术实现步骤摘要】
一种应用于中子散射腔的屏蔽体及其设计方法
本专利技术涉及中子辐射
,尤指一种应用于中子散射腔的屏蔽体及其设计方法。
技术介绍
中子散射是研究物质微观结构和动态的理想工具之一,它具备不带电、含磁矩、能区分同位素、对轻元素敏感、穿透性强等优点,在科研和工业领域有很多重要且无法替代的优势。随着国内中子源建设和中子散射技术的发展,各领域的科研人员和工程技术人员越来越多的用到中子散射技术测试物质的结构和性能,但是由于中子具有很强的穿透能力,一旦泄露将会对环境和生命健康构成严重威胁,所以做好中子射线的辐射防护工作,是当前中子散射
的关键问题之一。在中子谱仪内,中子散射腔一般位于样品腔与探测器之间,样品腔内中子射线除了被样品散射外,还有可能被高温、高压、强磁场等其它环境和结构设备散射,产生杂散信号;由于探测器无法区分杂散信号和样品散射信号,当探测器接收到这些杂散信号时,会将其识别成样品散射信号,降低了实验数据的准确性和可信度,同时增加了后续实验数据的处理难度。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术旨在提供一种中子屏蔽体及其设计方法,能消除中子被散射腔体和高温、高压及强磁场等样品环境设备本文档来自技高网...
一种应用于中子散射腔的屏蔽体及其设计方法

【技术保护点】
1.一种应用于中子散射腔的屏蔽体,其特征在于:所述的屏蔽体为采用中子吸收材料制作成的中子吸收体,中子吸收体由四个不规则形状的内壁屏蔽体和若干个空间屏蔽体装配而成,内壁屏蔽体有四个,均开设有安装孔,上壁屏蔽体、下壁屏蔽体、左壁屏蔽体和右壁屏蔽体分别安装在散射腔内的上壁、下壁、左壁和右壁,使得散射腔内壁上附着大面积中子吸收材料,其中上壁屏蔽体和下壁屏蔽体上设计有通气孔及沟槽;空间屏蔽体通过上壁屏蔽体和下壁屏蔽体上设计的沟槽安装在散射腔内,将散射腔分割成若干个不同空间。

【技术特征摘要】
1.一种应用于中子散射腔的屏蔽体,其特征在于:所述的屏蔽体为采用中子吸收材料制作成的中子吸收体,中子吸收体由四个不规则形状的内壁屏蔽体和若干个空间屏蔽体装配而成,内壁屏蔽体有四个,均开设有安装孔,上壁屏蔽体、下壁屏蔽体、左壁屏蔽体和右壁屏蔽体分别安装在散射腔内的上壁、下壁、左壁和右壁,使得散射腔内壁上附着大面积中子吸收材料,其中上壁屏蔽体和下壁屏蔽体上设计有通气孔及沟槽;空间屏蔽体通过上壁屏蔽体和下壁屏蔽体上设计的沟槽安装在散射腔内,将散射腔分割成若干个不同空间。2.根据权利要求1所述的一种应用于中子散射腔的屏蔽体,其特征在于:所述的内壁屏蔽体的背面,即散射腔内壁和屏蔽体之间可添加过渡层。3.根据权利要2所述的一种应用于中子散射腔的屏蔽体,其特征在于:所述的过渡层是铝片或耐辐照胶层。4.根据权利要求1所述的一种应用于中子散射腔的屏蔽体,其特征在于:所述的中子吸收体的原料主要采用中子吸收材料和高分子材料,其中中子吸收原料为含硼材料、含钆材料或含镉材料任何一种具有较高中子吸收截面的材料,所述的高分子材料为热固性材料或者热塑性材料。5.根据权利要求1或4所述的一种应用于中子散射腔的屏蔽体,其特征在于:所述的内壁屏蔽体和空间屏蔽体采用一次模压成型、注塑成型或挤出成型方式制备。6.根据权利要求1所述的一种应用于中子散射腔的屏蔽体,其特征在于:所述的中子吸收体中各块屏蔽体的厚度不小于2mm。7.一种应用于中子散射腔的屏蔽体的设计方法,其特征在于:所述的设计方案包括屏蔽体的结构设计、屏蔽体的制备及加工和屏蔽体的...

【专利技术属性】
技术研发人员:何伦华卢怀乐康乐陈洁罗平
申请(专利权)人:中国科学院高能物理研究所东莞中子科学中心
类型:发明
国别省市:北京,11

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