The invention discloses a method of making ultra thin coils with thin film deposition technology and a super thin coil, which belongs to the ultra thin coil making technique for detecting or producing electromagnetic signals. The method involves the selection of the core shaft bracket, the deposition of the film and the layer by layer convolution, the thinning treatment of micromachining and the removal of the core shaft support. The ultra-thin coil of the thickness of the rice is used to replace the traditional manual wound coating line by film deposition and winding methods. It is simple in technology and convenient in operation. It can ensure the accuracy and consistency of the coil size. The thin coil with adjustable thickness can be obtained by radial cutting and grinding, so the line diameter and the overall thickness of the coil are so thick. The degree is in the order of micrometers above the order of magnitude. It can accurately control the coils' thickness and ensure the high consistency of the coil and line distance. In addition, the ultra thin coils made by this method are circular and have a rectangular cross section cut along the circular circular axis. It is very different from the circular cross section of the traditional enameled wire and is used more in performance. Excellent.
【技术实现步骤摘要】
一种利用薄膜沉积技术制作超薄线圈的方法及超薄线圈
本专利技术涉及一种用于检测电磁信号的超薄线圈制作方法及其组成结构,具体是指一种利用薄膜沉积技术制作超薄线圈的方法及超薄线圈。
技术介绍
近年来,随着电子器件的小型化与精密化,对小尺寸样品的电磁信号控制要求越来越高,而线圈是检测电磁信号的重要工具;通常状况来说,线圈主要通过绕制漆包线获得。然而,由于漆包线的线径、绕制技术等限制,常规的线圈厚度基本都在宏观尺度、即通常在毫米以上厚度,而当线圈厚度变小后,通过手工绕制线圈变的越来越困难,且电磁信号的测试准确度也很难控制。因此,精密设计与加工超薄线圈逐渐成为学术界与工业界的一个热点。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于克服现有技术的缺陷而提供一种通过薄膜沉积技术和微加工手段制作厚度为微米量级,包括线径与线圈整体厚度都在微米量级的超薄线圈方法及超薄线圈。本专利技术的技术问题通过以下技术方案实现:一种利用薄膜沉积技术制作超薄线圈的方法,包括如下步骤:⑴选择一根圆柱型的芯轴支架,该芯轴支架使用便于后期去除的材料制成;⑵选择一根长条带状的绝缘基底,利用薄膜沉积技术先在绝缘基底表面沉积单层导电薄膜,再将带有单层导电薄膜的绝缘基底在芯轴支架上逐层卷绕,获得由绝缘层隔离的导电薄带卷,或利用薄膜沉积技术在自转的芯轴支架外表面逐层交替沉积绝缘基底和导电薄膜以形成双层薄膜,获得由绝缘层隔离的导电薄带卷;⑶将步骤⑵制作的导电薄带卷通过径向切割、磨抛和离子刻蚀而进行微加工减薄处理,并得到线圈;⑷将经过步骤⑶得到的线圈去除芯轴支架,最后得到超薄线圈。所述的步骤⑵中绝缘基底通过一对水平 ...
【技术保护点】
1.一种利用薄膜沉积技术制作超薄线圈的方法,其特征在于包括如下步骤:⑴选择一根圆柱型的芯轴支架(5),该芯轴支架使用便于后期去除的材料制成;⑵选择一根长条带状的绝缘基底(1),利用薄膜沉积技术先在绝缘基底(1)表面沉积单层导电薄膜(2),再将带有单层导电薄膜的绝缘基底(1)在芯轴支架(5)上逐层卷绕,获得由绝缘层隔离的导电薄带卷,或利用薄膜沉积技术在自转的芯轴支架(5)外表面逐层交替沉积绝缘基底(1)和导电薄膜(2)以形成双层薄膜,获得由绝缘层隔离的导电薄带卷;⑶将步骤⑵制作的导电薄带卷通过径向切割、磨抛和离子刻蚀而进行微加工减薄处理,并得到线圈;⑷将经过步骤⑶得到的线圈去除芯轴支架(5),最后得到超薄线圈。
【技术特征摘要】
1.一种利用薄膜沉积技术制作超薄线圈的方法,其特征在于包括如下步骤:⑴选择一根圆柱型的芯轴支架(5),该芯轴支架使用便于后期去除的材料制成;⑵选择一根长条带状的绝缘基底(1),利用薄膜沉积技术先在绝缘基底(1)表面沉积单层导电薄膜(2),再将带有单层导电薄膜的绝缘基底(1)在芯轴支架(5)上逐层卷绕,获得由绝缘层隔离的导电薄带卷,或利用薄膜沉积技术在自转的芯轴支架(5)外表面逐层交替沉积绝缘基底(1)和导电薄膜(2)以形成双层薄膜,获得由绝缘层隔离的导电薄带卷;⑶将步骤⑵制作的导电薄带卷通过径向切割、磨抛和离子刻蚀而进行微加工减薄处理,并得到线圈;⑷将经过步骤⑶得到的线圈去除芯轴支架(5),最后得到超薄线圈。2.根据权利要求1所述的一种利用薄膜沉积技术制作超薄线圈的方法,其特征在于所述的步骤⑵中绝缘基底(1)通过一对水平放置的、可调速的同向同速转动卷筒(3)进行匀速卷动运动,再在一对卷筒之间设有薄膜沉积装置(4),该薄膜沉积装置向绝缘基底(1)表面沉积单层导电薄膜(2);或在竖直放置的芯轴支架(5)两侧分别设有薄膜沉积装置(4),两个薄膜沉积装置向自转的芯轴支架(5)外表面逐层交替沉积绝缘基底(1)和导电薄膜(2)以形成双层薄膜。3.根据权利要求2所述的一种利用薄膜沉积技术制作超薄线圈的方法,其特征在于所述的绝缘基底(1)采用聚酰亚胺柔性基底或氧化铝为代表的绝缘薄膜,所述的导电薄膜(2)采用铜薄膜为代表的金属导电薄膜或其他可用于沉积的...
【专利技术属性】
技术研发人员:高伟波,王顺杰,
申请(专利权)人:宁波市计量测试研究院宁波市衡器管理所,宁波新材料检验检测中心,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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