An easy to dry photosensitive resin paint formula and its manufacturing method, including: 30 kilogram of malic acid resin, 10 kilogram of propylene glycol, 0.01 kilogram of polyethylene glycol (600), 1 kilogram of super fine silica, 2 kilogram of polyamide wax (n-butanol, petroleum brain mixture), 1250 order of 0.01 kilogram of slide stone powder, and phthalic unsaturated polymerization. Ester resin 15 kg, polyvinyl butyral 0.1 kg, styrene 10 kg, photosensitive resin initiator (D1173) 2 kg. Acid resin polymer (solid content 80%), propylene glycol, polyethylene glycol (600), ultra fine silica, polyamide wax (n-butanol, petroleum brain mixture), and talcum powder were mixed for 90 minutes, and then mixed with phthalic unsaturated polyester resin, polyvinyl alcohol butyral, styrene, 2,2 dimethymethymethyl. Butyric acid, continue stirring for 30 minutes, finally add photosensitive resin initiator (D1173), avoid light.
【技术实现步骤摘要】
一种易干的光敏树脂漆配方及其制造方法
本专利技术涉及化工涂料制造领域，具体说是一种改良光敏树脂漆漆膜干燥速率的配方及其制造方法。
技术介绍
现在市场上的光敏树脂漆普遍存在黏度大、漆膜干燥效果不理想的问题，喷涂后需要长时间静置干燥才能照射紫外线，影响了光敏树脂漆的施工时间。同时，在长时间的干燥过程中，也容易受外界环境的影响，破坏制品的美观。
技术实现思路
本专利技术解决现有的光敏树脂漆漆膜干燥慢的问题，专利技术一种提高漆膜干燥速率的配方及其制造方法。本专利技术的技术方案是，一种解决光敏树脂漆漆膜干燥速率慢的配方及其制造方法，包括：失水苹果酸树脂、丙二醇、聚乙二醇（600）、超细微二氧化硅、聚酰胺蜡（正丁醇、石油脑混合物）、滑石粉1250目、邻苯型不饱和聚酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛、苯乙烯、光敏树脂引发剂（D1173）、2,2-二羟甲基丁酸。组分重量比：失水苹果酸树脂30～50%、丙二醇2～10%、聚乙二醇（600）0.01～0.1%、超细微二氧化硅0.1～2%、聚酰胺蜡（正丁醇、石油脑混合物）0.1～2%、滑石粉1250目1～5%、邻苯型不饱和聚酯树脂10～20%、聚乙烯醇缩丁醛0.01～0.1%、苯乙烯5～15%、光敏树脂引发剂（D1173）1～10%、2,2-二羟甲基丁酸0.1～1.0%。制造方法：失水苹果酸树脂、丙二醇、聚乙二醇（600）、超细微二氧化硅、聚酰胺蜡（正丁醇、石油脑混合物）、滑石粉1250目混合，持续搅拌90分钟，之后加入邻苯型不饱和聚酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛、苯乙烯、2,2-二羟甲基丁酸，继续搅拌30分钟，最后添加光敏树脂引发剂（D1173），注...
【技术保护点】
1.组分重量比：失水苹果酸树脂30～50%、丙二醇2～10%、聚乙二醇（600）0.01～0.1%、超细微二氧化硅0.1～2%、聚酰胺蜡（正丁醇、石油脑混合物）0.1～2%、滑石粉1250目1～5%、邻苯型不饱和聚酯树脂10～20%、聚乙烯醇缩丁醛0.01～0.1%、苯乙烯5～15%、光敏树脂引发剂（D1173）1～10%、2,2‑二羟甲基丁酸0.1～1.0%。
【技术特征摘要】
1.组分重量比：失水苹果酸树脂30～50%、丙二醇2～10%、聚乙二醇（600）0.01～0.1%、超细微二氧化硅0.1～2%、聚酰胺蜡（正丁醇、石油脑混合物）0.1～2%、滑石粉1250目1～5%、邻苯型不饱和聚酯树脂10～20%、聚乙烯醇缩丁醛0.01～0.1%、苯乙烯5～15%、光敏树脂引发剂（D1173）1～10%、...
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