一种地下综合管廊及综合管廊体系制造技术

本实用新型专利技术提供了一种地下综合管廊及综合管廊体系，地下综合管廊具有位于地面以下的管廊主体，管廊主体具有顶板和底板，底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，管廊埋深为3m‑5.5m。综合管廊体系包括设于地面上的植被层、以及位于植被层下方的上述地下综合管廊。本实用新型专利技术的地下综合管廊属于浅埋式地下综合管廊，与现有地下式综合管廊相比，建设时土方开挖量较小，回填量较少，工程建设成本大幅降低，与现有半地上式或地上式综合管廊相比，不会占据地上面积，不影响地块使用率。

An integrated underground pipe corridor and integrated pipe corridor system

The utility model provides an underground comprehensive corridor and a comprehensive corridor system. The underground comprehensive corridor has the main body of the tube gallery below the ground, the main body of the tube Gallery has the roof and the floor, the vertical distance between the floor and the ground is the buried depth of the tube corridor, and the depth of the pipe gallery is 3M 5.5m. The integrated pipe gallery system includes vegetation layer on the ground and underground underground pipe gallery below the vegetation layer. The underground comprehensive Gallery of the utility model belongs to the shallow buried underground comprehensive pipe corridor. Compared with the existing underground integrated pipe corridors, the excavation amount of the earthwork is smaller, the backfilling is less and the cost of the construction is reduced greatly. Compared with the existing semi ground or ground type comprehensive pipe corridors, it will not occupy the area on the ground and do not affect the use of the land. Rate.

【技术实现步骤摘要】
一种地下综合管廊及综合管廊体系
本技术涉及综合管廊
，尤其是一种浅埋式的地下综合管廊及综合管廊体系。
技术介绍
半地上式或地上式综合管廊占据地上面积较大，影响地块使用率，并且景观效果较差；地下式综合管廊不会占据过多的地上面积，但目前建设的地下式综合管廊埋深较大，一般为6m-9m，导致开挖土石方量加大，回填量较大，工程建设成本大幅增加。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种地下综合管廊及综合管廊体系，其采用浅埋式的地下综合管廊，与现有综合管廊相比，既不占据地上面积，又能降低管廊建设成本。为达到上述目的，本技术提出一种地下综合管廊，其具有位于地面以下的管廊主体，所述管廊主体具有顶板和底板，所述底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，所述管廊埋深为3m-5.5m。如上所述的地下综合管廊，其中，所述顶板与地面之间的垂直距离为覆土深度，所述覆土深度为0.3m-1.5m。如上所述的地下综合管廊，其中，所述管廊主体还具有设于所述顶板与所述底板之间的第一隔板、以及设于所述第一隔板与所述底板之间的第二隔板，所述第一隔板将所述顶板与所述底板之间的空间分隔为位于所述第一隔板上方的管廊附属设备层、以及位于所述第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种地下综合管廊，其特征在于，所述地下综合管廊具有位于地面以下的管廊主体，所述管廊主体具有顶板和底板，所述底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，所述管廊埋深为3m‑5.5m。

【技术特征摘要】
1.一种地下综合管廊，其特征在于，所述地下综合管廊具有位于地面以下的管廊主体，所述管廊主体具有顶板和底板，所述底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，所述管廊埋深为3m-5.5m。2.如权利要求1所述的地下综合管廊，其特征在于，所述顶板与地面之间的垂直距离为覆土深度，所述覆土深度为0.3m-1.5m。3.如权利要求1或2所述的地下综合管廊，其特征在于，所述管廊主体还具有设于所述顶板与所述底板之间的第一隔板、以及设于所述第一隔板与所述底板之间的第二隔板，所述第一隔板将所述顶板与所述底板之间的空间分隔为位于所述第一隔板上方的管廊附属设备层、以及位于所述第一隔板下方的电舱和管道舱，所述电舱和所述管道舱分别位于所述第二隔板的左右两侧。4.如权利要求3所述的地下综合管廊，其特征在于，所述第一隔板上开设有将所述电舱与所述管廊附属设...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈思，蒋晓昊，侯建强，王婷婷，蔡宝华，孔萃敏，廖丽莎，
申请(专利权)人：中冶京诚工程技术有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11