一种地下综合管廊及综合管廊体系制造技术

本实用新型专利技术提供了一种地下综合管廊及综合管廊体系，地下综合管廊具有位于地面以下的管廊主体，管廊主体具有顶板和底板，底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，管廊埋深为3m‑5.5m。综合管廊体系包括设于地面上的植被层、以及位于植被层下方的上述地下综合管廊。本实用新型专利技术的地下综合管廊属于浅埋式地下综合管廊，与现有地下式综合管廊相比，建设时土方开挖量较小，回填量较少，工程建设成本大幅降低，与现有半地上式或地上式综合管廊相比，不会占据地上面积，不影响地块使用率。

An integrated underground pipe corridor and integrated pipe corridor system

The utility model provides an underground comprehensive corridor and a comprehensive corridor system. The underground comprehensive corridor has the main body of the tube gallery below the ground, the main body of the tube Gallery has the roof and the floor, the vertical distance between the floor and the ground is the buried depth of the tube corridor, and the depth of the pipe gallery is 3M 5.5m. The integrated pipe gallery system includes vegetation layer on the ground and underground underground pipe gallery below the vegetation layer. The underground comprehensive Gallery of the utility model belongs to the shallow buried underground comprehensive pipe corridor. Compared with the existing underground integrated pipe corridors, the excavation amount of the earthwork is smaller, the backfilling is less and the cost of the construction is reduced greatly. Compared with the existing semi ground or ground type comprehensive pipe corridors, it will not occupy the area on the ground and do not affect the use of the land. Rate.

【技术实现步骤摘要】
一种地下综合管廊及综合管廊体系
本技术涉及综合管廊
，尤其是一种浅埋式的地下综合管廊及综合管廊体系。
技术介绍
半地上式或地上式综合管廊占据地上面积较大，影响地块使用率，并且景观效果较差；地下式综合管廊不会占据过多的地上面积，但目前建设的地下式综合管廊埋深较大，一般为6m-9m，导致开挖土石方量加大，回填量较大，工程建设成本大幅增加。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种地下综合管廊及综合管廊体系，其采用浅埋式的地下综合管廊，与现有综合管廊相比，既不占据地上面积，又能降低管廊建设成本。为达到上述目的，本技术提出一种地下综合管廊，其具有位于地面以下的管廊主体，所述管廊主体具有顶板和底板，所述底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，所述管廊埋深为3m-5.5m。如上所述的地下综合管廊，其中，所述顶板与地面之间的垂直距离为覆土深度，所述覆土深度为0.3m-1.5m。如上所述的地下综合管廊，其中，所述管廊主体还具有设于所述顶板与所述底板之间的第一隔板、以及设于所述第一隔板与所述底板之间的第二隔板，所述第一隔板将所述顶板与所述底板之间的空间分隔为位于所述第一隔板上方的管廊附属设备层、以及位于所述第一隔板下方的电舱和管道舱，所述电舱和所述管道舱分别位于所述第二隔板的左右两侧。如上所述的地下综合管廊，其中，所述第一隔板上开设有将所述电舱与所述管廊附属设备层连通的逃生洞。如上所述的地下综合管廊，其中，所述逃生洞上盖设有防火盖板。如上所述的地下综合管廊，其中，所述地下综合管廊还具有位于所述管廊主体上方，且与所述管廊附属设备层连通的逃生通道，所述逃生通道由所述顶板延伸至地面以上。如上所述的地下综合管廊，其中，所述顶板、所述底板和所述第一隔板均为水平设置，所述第二隔板竖直设置。如上所述的地下综合管廊，其中，所述顶板的厚度为0.3m-0.5m，所述底板的厚度为0.4m-0.7m。本技术还提供一种综合管廊体系，其包括设于地面上的植被层、以及位于所述植被层下方的如上所述的地下综合管廊。如上所述的综合管廊体系，其中，所述植被层包括草皮层和/或小型灌木层。本技术的地下综合管廊及综合管廊体系的特点和优点是：1、本技术的地下综合管廊属于浅埋式地下综合管廊，管廊埋深为3m-5.5m，与现有地下式综合管廊相比，建设时土方开挖量较小，回填量较少，工程建设成本大幅降低，与现有半地上式或地上式综合管廊相比，不会占据地上面积，不影响地块使用率；2、本技术的综合管廊体系，在地下综合管廊上方的地面上设置植被层，地下综合管廊的覆土深度只需满足植物种植要求即可，与现有地下式综合管廊相比，覆土深度较浅，尤其能减小管廊节点处的覆土深度，降低管廊造价。附图说明以下附图仅旨在于对本技术做示意性说明和解释，并不限定本技术的范围。其中：图1是本技术的地下综合管廊节点处的剖面示意图。主要元件标号说明：1、管廊主体；11、顶板；12、底板；13、第一隔板；14、管廊附属设备层、15、电舱；16、管道舱；17、逃生洞；18、防火盖板；19、第二隔板；2、逃生通道；S、管廊埋深；H、覆土深度；W、地面。具体实施方式为了对本技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本技术的具体实施方式。如图1所示，本技术提供一种地下综合管廊，其具有位于地面以下的管廊主体1，管廊主体1具有顶板11和底板12，底板12与地面W之间的垂直距离为管廊埋深S，管廊埋深S为3m-5.5m。本技术的地下综合管廊的管廊埋深为3m-5.5m，属于浅埋式地下综合管廊，与管廊埋深为6m-9m的现有地下式综合管廊相比，建设时土方开挖量较小，回填量较少，工程建设成本大幅降低，与现有半地上式或地上式综合管廊相比，不会占据地上面积，不影响地块使用率。再如图1所示，进一步，顶板11与地面W之间的垂直距离为覆土深度H，覆土深度H为0.3m-1.5m。本技术中，由于管廊埋深较小，覆土深度也相应较小，进一步减少建设时的回填量，降低工程建设成本；而现有地下式综合管廊的覆土深度较大，一般为2.5m-3.5m。如图1所示，在一个具体实施例中，管廊主体1还具有设于顶板11与底板12之间的第一隔板13、以及设于第一隔板13与底板12之间的第二隔板19，第一隔板13将顶板11与底板12之间的空间分割为位于第一隔板13上方的管廊附属设备层14、以及位于第一隔板13下方的电舱15和管道舱16，电舱15和管道舱16分别位于第二隔板19的左右两侧。其中，管廊附属设备层14内例如设有风机或变电箱等管廊附属设备。如图1所示，进一步，第一隔板13上开设有将电舱15与管廊附属设备层14连通的逃生洞17，以方便人员逃生。更进一步，逃生洞17上盖设有防火盖板18，以将电舱15与管廊附属设备层14分隔开，防止失火后火势蔓延。其中，防火盖板18采用防火材料制成。较佳地，防火盖板18为轻质防火盖板。如图1所示，进一步，地下综合管廊还具有位于管廊主体1上方，且与管廊附属设备层14连通的逃生通道2，逃生通道2由顶板11延伸至地面以上，以方便人员从地下综合管廊内逃出。进一步，顶板11、底板12和第一隔板13均为水平设置，第二隔板19竖直设置，另外，管廊主体1还具有设于顶板和底板两侧的两个侧板，两个侧板均为竖直设置。进一步，顶板11的厚度为0.3m-0.5m，底板12的厚度为0.4m-0.7m。在管廊主体跨度相同的情况下，本技术中顶板11和底板12的厚度分别比现有的地下综合管廊的顶板和底板厚度减小5cm至10cm。如图1所示，本技术还提供一种综合管廊体系，综合管廊体系包括设于地面上的植被层、以及位于植被层下方的上述地下综合管廊，也就是，管廊主体上方的地面只用于种植绿植，故地面载荷小，地下综合管廊的管廊埋深仅需3m-5.5m即可，地下综合管廊的覆土深度只需满足植物种植要求即可。进一步，植被层包括草皮层和/或小型灌木层，草皮层和小型灌木层对覆土深度要求低，从而能进一步减小覆土深度。其中，植被层可以全部为草皮层，或全部为小型灌木层，或部分为草皮层且其余部分为小型灌木层。但本技术并不以此为限，植被层还可以设置为：植被层的主体部分为草皮层和/或小型灌木层，对应地，草皮层和/或小型灌木层下方的覆土深度为0.3m-1.5m；植被层的局部为乔木层和/或大型灌木层，对应地，乔木层和/或大型灌木层下方的覆土深度为1.5m-2.5m，也就是乔木层和/或大型灌木层下方的覆土高于草皮层和/或小型灌木层下方的覆土而呈凸点状。由于植被层的主体部分为草皮层和/或小型灌木层，管廊上方大部分区域的覆土深度仍较浅，管廊建设时的回填量小。本技术的综合管廊体系，将地下综合管廊建设在绿地下方，通过对地下综合管廊上方绿化形式的约束，比如只种植草皮层或小型灌木层，能减小管廊节点处的覆土深度，降低管廊造价。以上所述仅为本技术示意性的具体实施方式，并非用以限定本技术的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本技术的构思和原则的前提下所作的等同变化与修改，均应属于本技术保护的范围。而且需要说明的是，本技术的各组成部分并不仅限于上述整体应用，本技术的说明书中描述的各技术特征可以根据实际需要选择一项单独采用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种地下综合管廊，其特征在于，所述地下综合管廊具有位于地面以下的管廊主体，所述管廊主体具有顶板和底板，所述底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，所述管廊埋深为3m‑5.5m。

【技术特征摘要】
1.一种地下综合管廊，其特征在于，所述地下综合管廊具有位于地面以下的管廊主体，所述管廊主体具有顶板和底板，所述底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，所述管廊埋深为3m-5.5m。2.如权利要求1所述的地下综合管廊，其特征在于，所述顶板与地面之间的垂直距离为覆土深度，所述覆土深度为0.3m-1.5m。3.如权利要求1或2所述的地下综合管廊，其特征在于，所述管廊主体还具有设于所述顶板与所述底板之间的第一隔板、以及设于所述第一隔板与所述底板之间的第二隔板，所述第一隔板将所述顶板与所述底板之间的空间分隔为位于所述第一隔板上方的管廊附属设备层、以及位于所述第一隔板下方的电舱和管道舱，所述电舱和所述管道舱分别位于所述第二隔板的左右两侧。4.如权利要求3所述的地下综合管廊，其特征在于，所述第一隔板上开设有将所述电舱与所述管廊附属设...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈思，蒋晓昊，侯建强，王婷婷，蔡宝华，孔萃敏，廖丽莎，
申请(专利权)人：中冶京诚工程技术有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11