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本实用新型提供了一种地下综合管廊及综合管廊体系，地下综合管廊具有位于地面以下的管廊主体，管廊主体具有顶板和底板，底板与地面之间的垂直距离为管廊埋深，管廊埋深为3m‑5.5m。综合管廊体系包括设于地面上的植被层、以及位于植被层下方的上述地下综...
该专利属于中冶京诚工程技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中冶京诚工程技术有限公司授权不得商用。

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