一种显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示装置。该显示装置包括：波导层、液晶层、侧入式准直背光和光栅结构；液晶层位于波导层之上，光栅结构分布在液晶层中，且液晶层覆盖光栅结构；光栅结构用于对波导层中形成的TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以对出射显示装置的光线的颜色进行调节。在本发明专利技术实施例中，通过设置光栅结构，对通过波导层形成的TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以实现对出射光线颜色的调节，本发明专利技术实施例可以对TM模式和TE模式两种模式的光进行利用，相比于现有技术中的液晶显示屏，本发明专利技术实施例可以提高显示装置对光的利用率，进而提高了显示装置的显示亮度。

【技术实现步骤摘要】
一种显示装置
本专利技术涉及显示领域，具体而言，本专利技术涉及一种显示装置。
技术介绍
目前，液晶显示屏(LiquidCrystalDisplay，LCD)由于零辐射、低耗能、散热小等优点受到用户的广泛关注，被应用在多个电子显示领域中。现有的液晶显示屏中，通过波导层和一维纳米光栅结构，实现对显示面板出射光的颜色的调控。具体地，入射光在穿过波导层后形成TM模式和TE模式的光，该TM模式和TE模式的光中任一模式的光与一维纳米光栅进行耦合，从而出射出指定颜色的光。由于上述现有液晶显示屏中的一维纳米光栅结构，只能与TM模式或TE模式的光进行耦合发光，而无法对这两种模式的光同时进行利用，因此现有液晶显示屏对光的利用率较低，导致屏幕亮度较低。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提出一种显示装置，通过对TM模式和TE模式的光进行利用，提高显示装置对光的利用率，进而提高显示装置的显示亮度。本专利技术实施例提供一种显示装置，包括：波导层、液晶层、侧入式准直背光和光栅结构；液晶层位于波导层之上，光栅结构分布在液晶层中，且液晶层覆盖光栅结构；侧入式准直背光位于波导层的一侧，侧入式准直背光发出的光从波导层的一侧进入波导层后，与波导层的下表面发生全反射，以及从波导层上表面出射的光形成TM模式和TE模式的光；光栅结构用于对波导层中形成的该TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以对出射显示装置的光的颜色进行调节。优选地，光栅结构具体为平行于该TM模式和TE模式的光传播的方向的二维光栅结构；或，光栅结构具体为相互垂直交叉分布的一维光栅结构。优选地，光栅结构为透明结构；光栅结构的折射率为填充液晶的正常折射率或反常折射率，或介于正常折射率和反常折射率之间的折射率；液晶层用于在电压控制下改变折射率，以调节源自波导层的光的耦合效率。优选地，二维光栅结构的占空比为0.5-0.75，以及二维光栅结构的高度为200-1000纳米。优选地，波导层具体为玻璃或树脂基材。优选地，液晶层具体为蓝相液晶材料，以及液晶层的两侧设置有封胶框。优选地，侧入式准直背光具体包括以下至少一种：由红、绿、蓝三色的半导体激光器芯片混合而成的光源；由红、绿、蓝三色的发光二极管芯片混合而成的光源；由白光发光二极管芯片制成的光源；由条状冷阴极荧光灯管与光线准直结构制成的光源。优选地，本专利技术实施例提供的显示装置还包括：透明电极，电极的形状与光栅结构的形状一致；以及电极设置在光栅结构上，且液晶层覆盖光栅结构和电极。优选地，本专利技术实施例提供的显示装置还包括：上基板和下基板；上基板位于液晶层之上，下基板位于波导层之下；以及显示装置还包括：上保护膜和下保护膜；上保护膜的折射率小于上基板的折射率，下保护膜的折射率小于下基板的折射率。优选地，本专利技术实施例提供的显示装置还包括：配向膜，配向膜位于上基板和液晶层之间，用于控制液晶层中液晶分子的初始排列状态。应用本专利技术实施例所获得的有益效果如下：在本专利技术实施例提供的显示装置中，具体包括：波导层、液晶层、侧入式准直背光和光栅结构；液晶层位于波导层之上，光栅结构分布在液晶层中，且液晶层覆盖光栅结构；侧入式准直背光位于波导层的一侧，侧入式准直背光发出的光从波导层的一侧进入波导层后，与波导层的下表面发生全反射，以及从波导层上表面出射的光形成该TM模式和TE模式的光光栅结构用于对波导层中形成的TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以对出射显示装置的光的颜色进行调节。在本专利技术实施例中，通过在显示装置中设置光栅结构，对通过波导层形成的TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以实现对出射光线颜色的调节，本专利技术实施例可以对TM模式和TE模式两种模式的光进行利用，相比于现有技术中的液晶显示屏，本专利技术实施例可以提高显示装置对光的利用率，进而提高了显示装置的显示亮度。本专利技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1为本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种二维光栅机构的示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种光栅结构对出射光的颜色进行调控的示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种相互垂直交叉分布的一维光栅结构示意图；附图标记介绍如下:101-波导层，102液晶层，103-侧入式准直背光，104-光栅结构，105-封胶框，106-透明电极，107-上基板，108-下基板，109-上保护膜，110-下保护膜。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能解释为对本专利技术的限制。本
技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本专利技术的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。本
技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本专利技术所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。下面详细说明本专利技术的实施例。本专利技术实施例提供了一种显示装置，该显示装置的结构示意图如图1所示。该显示装置具体包括：波导层101、液晶层102、侧入式准直背光103和光栅结构104；液晶层102位于波导层101之上，光栅结构104分布在液晶层102中，且液晶层102覆盖光栅结构104；侧入式准直背光103位于波导层101的一侧，侧入式准直背光103发出的光从波导层101的一侧进入波导层101后，与波导层101的下表面发生全反射，以及从波导层101上表面出射的光形成TM模式和TE模式的光；光栅结构104用于对波导层101中形成的该TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以对出射显示装置的光的颜色进行调节。在本专利技术实施例中，通过在显示装置中设置光栅结构，对通过波导层形成的TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以实现对出射光线颜色的调节，本专利技术实施例可以对TM模式和TE模式两种模式的光进行利用，相比于现有技术中的液晶显示屏，本专利技术实施例可以提高显示装置对光的利用率，进而提高了显示装置的显示亮度。对于本专利技术实施例，在一种具体的实施方式中，如图2所示为显示装置的切面图，光栅结构104具体为平行于TM模式和TE模式的光传播的方向的二维光栅结构，具体地，图2中的二维纳米光栅结构104为分别沿着x轴方向和y轴方向对称分布的二维光栅结构。在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示装置，其特征在于，包括：波导层、液晶层、侧入式准直背光和光栅结构；所述液晶层位于所述波导层之上，所述光栅结构分布在所述液晶层中，且所述液晶层覆盖所述光栅结构；所述侧入式准直背光位于所述波导层的一侧，所述侧入式准直背光发出的光从所述波导层的一侧进入所述波导层后，与所述波导层的下表面发生全反射，以及从所述波导层上表面出射的光形成TM模式和TE模式的光；所述光栅结构用于对所述波导层中形成的该TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以对出射显示装置的光的颜色进行调节。

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，包括：波导层、液晶层、侧入式准直背光和光栅结构；所述液晶层位于所述波导层之上，所述光栅结构分布在所述液晶层中，且所述液晶层覆盖所述光栅结构；所述侧入式准直背光位于所述波导层的一侧，所述侧入式准直背光发出的光从所述波导层的一侧进入所述波导层后，与所述波导层的下表面发生全反射，以及从所述波导层上表面出射的光形成TM模式和TE模式的光；所述光栅结构用于对所述波导层中形成的该TM模式和/或TE模式的光进行耦合，以对出射显示装置的光的颜色进行调节。2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述光栅结构具体为平行于该TM模式和TE模式的光传播的方向的二维光栅结构；或，所述光栅结构具体为相互垂直交叉分布的一维光栅结构。3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述光栅结构为透明结构；所述光栅结构的折射率为所述液晶层的正常折射率或反常折射率，或介于所述正常折射率和反常折射率之间的折射率；所述液晶层用于在电压控制下改变折射率，以调节源自所述波导层的光的耦合效率。4.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述二维光栅结构的占空比为0.5-0.75，以及所述二维光栅结构的高度为200-1000纳米。5.根据权利要求1所述的显示装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟宪芹，王维，杨亚锋，谭纪风，高健，梁蓬霞，董学，陈小川，孟宪东，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11