一种纳米材料制作设备制造技术

一种纳米材料制作设备，包括设备主体及泵，所述设备主体包括基座、位于基座中的油箱及沉淀箱、位于基座及沉淀箱上方的基材台、位于基材台顶部的出油口、位于基材台外部的靶座，以及设置于靶座上的磁控靶，所述油箱中盛有硅油，所述泵通过泵管与油箱及出油口连通。通过硅油带动纳米材料沿基材台的表面淌下，在沉淀箱中实现纳米材料的沉淀，可高效分离出纳米材料、扩展了用途。

A preparation equipment for nanomaterials

A nano material making device, including a device body and a pump, which includes a base seat, an oil tank and a settling tank in the base, a substrate table above the base and a settling box, an oil outlet at the top of the substrate table, a target seat outside the substrate table, and a magnetic control target placed on the target seat, and the oil tank. The silicon pump is connected with the oil tank and the oil outlet through the pump tube. The nano material is dripped along the surface of the substrate by silicon oil, and the nanomaterial can be precipitated in the precipitate box, which can efficiently separate the nanomaterials and expand the use.

【技术实现步骤摘要】
一种纳米材料制作设备
本技术涉及材料领域，特别是一种纳米材料制作设备。
技术介绍
溅射法制作纳米材料的方式有：磁控溅射、偏压溅射及反应溅射等。其中磁控溅射的原理为：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动。目前，磁控溅射制作纳米材料只能用来对放置在基材上的物体进行镀膜，具有成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜等优势。无法分离出纳米材料以作其他用途。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种可高效分离出纳米材料、扩展了用途的纳米材料制作设备，以解决上述问题。一种纳米材料制作设备，包括设备主体及泵，所述设备主体包括基座、位于基座中的油箱及沉淀箱、位于基座及沉淀箱上方的基材台、位于基材台顶部的出油口、位于基材台外部的靶座，以及设置于靶座上的磁控靶，所述油箱中盛有硅油，所述泵通过泵管与油箱本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纳米材料制作设备，其特征在于：所述纳米材料制作设备包括设备主体及泵，所述设备主体包括基座、位于基座中的油箱及沉淀箱、位于基座及沉淀箱上方的基材台、位于基材台顶部的出油口、位于基材台外部的靶座，以及设置于靶座上的磁控靶，所述油箱中盛有硅油，所述泵通过泵管与油箱及出油口连通。

【技术特征摘要】
1.一种纳米材料制作设备，其特征在于：所述纳米材料制作设备包括设备主体及泵，所述设备主体包括基座、位于基座中的油箱及沉淀箱、位于基座及沉淀箱上方的基材台、位于基材台顶部的出油口、位于基材台外部的靶座，以及设置于靶座上的磁控靶，所述油箱中盛有硅油，所述泵通过泵管与油箱及出油口连通。2.如权利要求1所述的纳米材料制作设备，其特征在于：所述油箱与沉淀箱之间通过回收管连通。3.如权利要求1所述的纳米材料制作设备，其特征在于：所述基材台的形状为三菱锥、多菱锥、圆锥或三菱柱。4.如权利要求3所述的纳米材料制作设备，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：毕凯，
申请(专利权)人：嘉兴岱源真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33