一种基片曝光吸盘制造技术

本实用新型专利技术提供一种基片曝光吸盘；包括吸盘主体，还包括载片、负压抽嘴、压力表和压力调节阀；所述吸盘主体的内腔内具有一圈凸台；所述凸台上嵌有一圈密封圈；所述载片通过所述密封圈可拆卸安装在所述凸台上，其中所述载片的外表面上设有一个卡固组件；所述负压抽嘴、压力表和压力调节阀均设于所述吸盘主体上，且与所述吸盘主体的内腔连通。在曝光过程中，使用本实用新型专利技术代替常规的夹持夹具，本实用新型专利技术吸附压力稳定、不易脱片、基片变形量小，特别是对于厚度较薄的基片，对保证基片的形变量更有效。

A substrate exposure sucker

The utility model provides a base plate exposure suction cup, which includes a suction cup body, and also includes a carrier, a negative pressure pump, a pressure gauge and a pressure regulating valve; the inner cavity of the suction cup body is provided with a ring of protruding rings; the protruding plate is inlaid with a ring of seals; the sheet is detachably mounted on the protruding platform through the seal ring, and the plate is detachably mounted on the protruding platform through the seal ring. A clamping component is provided on the outer surface of the tablet, and the negative pressure suction nozzle, pressure gauge and pressure regulating valve are arranged on the body of the suction disc and are connected with the inner cavity of the body of the suction disc. During the exposure process, the utility model is used to replace the conventional clamping fixture. The utility model has stable adsorption pressure, is not easy to remove slices and has small deformation quantity of base sheet, especially for the substrate with thinner thickness, which is more effective for ensuring the shape variable of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种基片曝光吸盘
本技术涉及基片夹具
，具体涉及一种基片曝光吸盘。
技术介绍
在光栅全息
，光刻胶常用于抗刻蚀阻层。其中光刻胶曝光的方式有光刻机曝光，双光束干涉曝光等。对于高线密度光栅来说，常用的曝光方式为双光束干涉曝光。在双光束干涉曝光过程中，放置于平台上的激光器发出一定波长的单束激光，单束激光经过分光镜、反射镜、显微物镜、滤波小孔、准直镜等光学元器件之后，形成双光束准直光，两束准直光相互干涉，就可以在光刻胶层上形成曝光区与非曝光区，进而通过显影技术，将曝光区或非曝光区内的光刻胶去掉，形成想要的光刻胶抗刻蚀图案层。在该过程中，基片为竖直放置。此过程中，基片的形变及稳定性对曝光质量的影响非常大。常规的基片放置方式为夹持放置，即通过一个夹具将基片固定，但由于每次夹持的力度不同，会导致基片发生形变或脱片，特别是对于厚度较薄的基片，在夹持过程中，更容易发生形变，甚至会出现基片破裂的现象，从而影响了曝光质量。
技术实现思路
有鉴于此，本技术目的是提供一种基片曝光吸盘。为了解决上述技术问题，本技术的技术方案是：一种基片曝光吸盘；包括吸盘主体，还包括载片、负压抽嘴、压力表和压力调节阀；所述吸盘主体的内腔内具有一圈凸台；所述凸台上嵌有一圈密封圈；所述载片通过所述密封圈可拆卸安装在所述凸台上，其中所述载片的的外表面上设有一个卡固组件；所述负压抽嘴、压力表和压力调节阀均设于所述吸盘主体上，且与所述吸盘主体的内腔连通。优选的，还包括连接杆和五维调整架，所述连接杆上端固定连接在所述吸盘主体上，下端可拆卸安装在所述五维调整架上。优选的，所述卡固组件包括弹力压片和定位卡槽；所述定位卡槽水平固定连接在所述载片的外表面上，其中所述定位卡槽的截面呈L形；所述弹力压片固定连接在所述载片的外表面上，且位于所述定位卡槽的正上方。优选的，所述弹力压片数量不少于两个，且所述弹力压片均设于同一水平线上。较之现有技术，本技术的优点在于：在基片曝光过程中，使用本技术代替常规的夹持夹具，吸附压力稳定、不易脱片、基片变形量小，特别是对于厚度较薄的基片，使用本技术对保证基片的形变量更有效。而且在抽真空过程中，观察压力表的示数，同时通过调整压力调节阀调节吸盘主体对载片的吸附力大小。附图说明图1为本技术的整体结构示意图；图2为本技术的吸盘主体的结构示意图；图3为载片的截面图；图4为载片的主视图。附图标记：1、吸盘主体；2、凸台；3、载片；4、卡固组件；5、密封圈；6、负压抽嘴；7、压力表；8、压力调节阀；9、连接杆；10、五维调整架；11、基片；401、定位卡槽；402、弹力压片。具体实施方式以下结合附图，对本技术的具体实施方式作进一步详述，以使本技术技术方案更易于理解和掌握。实施例：参照图1和2所示，本实施例提供一种基片11曝光吸盘；包括吸盘主体1，还包括载片3、负压抽嘴6、压力表7和压力调节阀8；吸盘主体1的内腔内具有一圈凸台2；凸台2上嵌有一圈密封圈5；载片3通过密封圈5可拆卸安装在凸台2上，其中载片3的的外表面上设有一个卡固组件4；负压抽嘴6、压力表7和压力调节阀8均设于吸盘主体1上，且与吸盘主体1的内腔连通。其中载片3可以采用微孔玻璃陶瓷。参见图1所示，吸盘主体1下部固定连接有连接杆9，其中连接杆9的下端可拆卸安装在五维调整架10上。设置五维调整架10的目的在于，可以在使用本技术安装好基片11后，方便微调基片11的位置，从而确保基片11在曝光的中心区域。参见图3和4所示，卡固组件4包括弹力压片402和定位卡槽401；定位卡槽401水平固定连接在载片3的外表面上，其中定位卡槽401的截面呈L形；弹力压片402固定连接在载片3的外表面上，且位于定位卡槽401的正上方。安装基片11时，只需要先将基片11下部卡在定位卡槽401内，再通过弹力压片402将基片11的上部压紧，从而将基片11快速安装在载片3上。根据曝光过程中对杂散光的要求，可以将定位卡槽401整个涂覆成黑色，其目的在于防止散光。弹力压片402数量不少于两个，且弹力压片402均设于同一水平线上。同样为了防止杂散光，可以将弹力压片402也涂成黑色。工作原理：使用时，首先将基片11安装在载片3上：先将基片11下部卡在定位卡槽401内，再通过弹力压片402将基片11的上部压紧，从而将基片11快速安装在载片3上。再将安装好基片11的载片3安装到吸盘主体1上：首先将载片3贴合到凸台2上，再通过真空泵本技术附图中未标示，从负压抽嘴6开始抽真空，从而可以使载片3牢牢吸附在吸盘主体1的上；在抽真空过程中，观察压力表7的示数，同时通过调整压力调节阀8调节负压腔的压力在所需的范围内。然后通过五维调整架10微调基片11的位置及俯仰，确保基片11在曝光的中心区域。当然，以上只是本技术的典型实例，除此之外，本技术还可以有其它多种具体实施方式，凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本技术要求保护的范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基片（11）曝光吸盘；包括吸盘主体（1），其特征在于：还包括载片（3）、负压抽嘴（6）、压力表（7）和压力调节阀（8）；所述吸盘主体（1）的内腔内具有一圈凸台（2）；所述凸台（2）上嵌有一圈密封圈（5）；所述载片（3）通过所述密封圈（5）可拆卸安装在所述凸台（2）上，其中所述载片（3）的外表面上设有一个卡固组件（4）；所述负压抽嘴（6）、压力表（7）和压力调节阀（8）均设于所述吸盘主体（1）上，且与所述吸盘主体（1）的内腔连通。

【技术特征摘要】
1.一种基片（11）曝光吸盘；包括吸盘主体（1），其特征在于：还包括载片（3）、负压抽嘴（6）、压力表（7）和压力调节阀（8）；所述吸盘主体（1）的内腔内具有一圈凸台（2）；所述凸台（2）上嵌有一圈密封圈（5）；所述载片（3）通过所述密封圈（5）可拆卸安装在所述凸台（2）上，其中所述载片（3）的外表面上设有一个卡固组件（4）；所述负压抽嘴（6）、压力表（7）和压力调节阀（8）均设于所述吸盘主体（1）上，且与所述吸盘主体（1）的内腔连通。2.根据权利要求1所述的一种基片（11）曝光吸盘，其特征在于：还包括连接杆（9）和五维调整架（10），所述连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁万国，李广伟，陈怀熹，缪龙，冯新凯，邹小林，
申请(专利权)人：福建中科晶创光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35