平面研磨机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种平面研磨机，其技术方案要点是：包括机架、转动连接在机架上的研磨盘、设置在机架上的驱动机构、设置在机架上的安装架、设置在安装架上的抛光头、设置在抛光头上的陶瓷盘，安装架上还设置有第一气缸，且第一气缸的活塞杆朝向研磨盘一侧，第一气缸活塞杆的端部上设置有连接座，连接座上设置有与陶瓷盘对应的抵接片，抵接片上至少设置有两个抵触点，还包括圆环，在需要使用该研磨机时，将圆环放置到抛光盘上，之后控制抛光盘向着某一抵接片一侧进行移动，直至圆环的外侧壁同时与抵接片上所有的抵触点相抵，此时圆环恰好位于陶瓷盘正下方。这样就不需要使用者手动对圆环进行调整，一定程度上提升了该平面研磨机的使用效率。

Plane lapping machine

The utility model discloses a plane grinding machine, which includes a frame, an abrasive disc connected to a frame, a driving mechanism on the frame, an mounting frame set on the frame, a light throwing head set on the mounting frame, a ceramic disc set on the polishing head, and a section on the mounting frame. A cylinder, and the piston rod of the first cylinder faces one side of the grinding disc, a connecting seat is arranged on the end of the first cylinder piston rod. The connector is provided with a offset plate corresponding to the ceramic disc. At least two resistance points are set on the offset plate, and the ring is included. When the grinding machine is needed, the ring is placed on the discs. Then the discs are controlled to move toward one side of the offset, until the outer wall of the ring is counterbalanced by all the resistance points on the offset, and the ring is just right below the ceramic disc. This does not require users to manually adjust the ring, to a certain extent, improve the efficiency of the plane lapping machine.

【技术实现步骤摘要】
平面研磨机
本技术涉及磨床
，特别涉及一种平面研磨机。
技术介绍
平面研磨机，是用涂上或嵌入磨料的研具对工件表面进行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面。目前，公告号为CN206405845U的中国专利公开了一种平面研磨机，它包括机架，机架上设置有抛光头以及研磨盘，抛光头底部连接有陶瓷盘，抛光头顶部安装有旋转电机，旋转电机上设置有旋转轴且旋转轴与陶瓷盘相连接。研磨盘底部连接有第一驱动机构，第一驱动机构用于驱动研磨盘进行转动。在使用该平面研磨机对端面面积较小的物料进行研磨时，一般会在研磨盘顶面上放置一些圆环，且圆环的数目与陶瓷盘的数目相同，接着将待研磨的物料放均匀排布在圆环内部，之后手动调整圆环的位置，使得圆环与机架上的陶瓷盘相对。之后控制抛光头向下进行移动，使得陶瓷盘与圆环相抵。之后通过第一驱动机构控制研磨盘进行转动，通过旋转电机带动陶瓷盘进行转动，开始对圆环内部的物件进行抛光。不过该平面研磨机在使用过程中，为了保证圆环内部的物件不易从圆环中脱出，需要手动对圆环的位置进行调整，确保圆环正好位于陶瓷盘下方，这一过程需要花费较长的时间，一定程度上降低了该平面研磨机的使用效率。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种平面研磨机,其具有能够较快将圆环放置到陶瓷盘下方，使用效率较高的优势。本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种平面研磨机，包括机架、转动连接在机架上的研磨盘、设置在机架上并与研磨盘底面相连的驱动机构、设置在机架上的安装架、设置在安装架上并位于研磨盘上方的抛光头、设置在抛光头朝向研磨盘的端部上的陶瓷盘，所述安装架上还设置有第一气缸，且第一气缸的活塞杆朝向研磨盘一侧，所述第一气缸活塞杆的端部上设置有连接座，所述连接座上设置有与陶瓷盘对应的抵接片，抵接片上至少设置有两个抵触点，还包括圆环，且当圆环与一个抵接片上所有的抵触点相抵时，圆环恰好位于陶瓷盘正下方。通过上述技术方案，在需要使用该研磨机对物件进行研磨或者抛光时，首先将圆环放置到抛光盘上，之后控制抛光盘向着某一抵接片一侧进行移动，直至圆环的外侧壁同时与抵接片上所有的抵触点相抵，此时圆环恰好位于陶瓷盘正下方。这样就不需要使用者手动对圆环进行调整，以保证圆环与陶瓷盘相对，一定程度上提升了该平面研磨机的使用效率。在圆环的外侧壁与所有抵触点相抵时，将待研磨的物料整齐排放到圆环内部，之后控制陶瓷盘向下移动，直至陶瓷盘底面与圆环相抵。之后通过驱动机构控制抛光盘进行转动，此时开始对物料朝向抛光盘的端面进行研磨、抛光。优选的，所述抵接片上顶面上设置有第一滑移孔，且第一滑移孔的长度方向垂直与抵触点之间的连线方向，所述第一滑移孔内部设置有与连接座螺纹连接的第一螺钉。通过上述技术方案，在圆环外径较大时，旋松第一螺钉，使得第一螺钉的头部与抵接片相分离。之后控制抵接片向着连接座中心一侧移动，使得抵触点与第一气缸活塞杆的之间的间距缩小。当抵接片移动至适当位置时，旋紧第一螺钉，使得第一螺钉的头部与抵接片顶面相抵，且抵接片不易继续发生移动。这样在该抵接片对不同外径的圆环进行定位时，能够对抵接片的位置进行调整，以保证圆环与抵触点相抵时，圆环的轴心线与陶瓷盘的轴心线相重合，一定程度上提高了该研磨机的适用性。优选的，所述机架顶面上设置有隔离罩，所述研磨盘位于隔离罩内部。通过上述技术方案，在通过转动研磨盘用以对物料进行研磨时，隔离罩能够对飞溅的研磨液起到阻挡的作用，使得研磨液不易飞溅到使用者身上，使得该研磨机的使用环境变得更加整洁。优选的，所述连接座上设置有限定杆，所述限定杆远离连接座的端部与隔离罩内侧壁相抵。通过上述技术方案，在通过第一气缸控制连接座进行上下移动时，限定杆与隔离罩内侧壁相抵，使得第一气缸活塞杆在伸缩的过程中不易发生偏移。这样能够保证在圆环与抵触点相抵时，圆环能够恰好位于陶瓷盘正下方。优选的，所述限定杆上设置有第二滑移孔，且第二滑移孔的长度方向与限定杆的长度方向相同，所述第二滑移孔内部设置有与连接座螺纹连接的第二螺钉。通过上述技术方案，当连接座上的限定杆无法与隔离罩内侧壁相抵时，将限定杆上的第二螺钉旋松，使得第二螺钉的头部与限定杆顶面分离，此时可以控制限定杆在连接座上进行移动，直至限定杆的端部与隔离罩内侧壁相抵。此时旋紧第二螺钉，使得第二螺钉的头部与限定杆相抵，且限定杆无法继续移动。这样设置的限定杆能够始终与隔离罩的内侧壁相抵，使得第一气缸活塞杆在伸缩的过程中不易发生偏移。优选的，所述抛光头包括设置在安装架上的第二气缸、设置在第二气缸活塞杆上并与陶瓷盘转动相连的转动座。通过上述技术方案，在圆环位于陶瓷盘正下方时，控制第二气缸活塞杆伸长并带动陶瓷盘向着圆环一侧移动，直至陶瓷盘的底面与圆环顶面相抵。在使用过程中，可以通过控制第二气缸活塞杆伸长，使得物料与研磨盘之间的压力增加，以此提升物料的研磨效率。在研磨盘转动的过程中，陶瓷盘随之进行转动并带动圆环内部的物料缓慢转动，一定程度上提升了该研磨机的研磨效率。优选的，所述陶瓷盘朝向研磨盘的端面上粘设有橡胶垫。通过上述技术方案，陶瓷盘上粘设有橡胶垫，橡胶垫能够起到一定的缓冲作用，使得圆环内部的物料不易出现因压力过大而破碎的情况。优选的，所述第一气缸活塞杆内部设置有第一流道，所述第一流道一端贯穿于第一气缸活塞杆以及转动座，另一端贯穿于第一气缸活塞杆的外侧壁，所述陶瓷盘内部设置有若干第二流道，所述第二流道一端贯穿于陶瓷盘顶面并与第一流道相连通，另一端贯穿于陶瓷盘底面。通过上述技术方案，在使用该研磨机对物料进行研磨时，从第一流道位于第一气缸活塞杆侧壁上的端部处注入研磨液，使得研磨液流经第一流道、第二流道并最终流到研磨盘上。在研磨液流动的过程中，能够对陶瓷盘、圆环以及圆环内部的物料进行冷却，使得陶瓷盘、圆盘以及物料不易因过热而变形甚至损坏。综上所述，本技术对比于现有技术的有益效果为：1、在需要使用该研磨机的过程中，只需要控制圆环与某一抵接片上的所有抵触点相抵，即可保证圆环恰好位于陶瓷盘的正下方，一定程度上提高了该研磨机的使用效率；2、在通过第一气缸控制连接座进行移动的过程中，限定杆的端部与隔离罩的内侧壁相抵，使得第一气缸活塞杆在伸缩的过程中不易发生偏移，且当圆环与抵接片上的抵触点相抵时，圆环能够恰好位于陶瓷盘正下方。附图说明图1为实施例的结构示意图，主要是用于展示实施例的外形结构；图2为图1的A部放大图；图3为实施例的局部剖视示意图，主要是用于展示驱动机构的组成情况；图4为抛光头以及圆环的剖视示意图，主要是用于展示抛光头的组成情况。附图标记：1、机架；2、研磨盘；3、驱动机构；31、电机；32、第一齿轮；33、连接轴；34、第二齿轮；4、安装架；5、抛光头；51、第二气缸；52、转动座；6、陶瓷盘；7、第一气缸；8、连接座；9、抵接片；10、抵触点；11、圆环；12、第一滑移孔；13、第一螺钉；14、隔离罩；15、限定杆；16、第二滑移孔；17、第二螺钉；18、橡胶垫；19、第一流道；20、第二流道。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步详细说明。一种平面研磨机，如图1、图2、图3所示，包括机架1、转动连接在机架1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平面研磨机，包括机架(1)、转动连接在机架(1)上的研磨盘(2)、设置在机架(1)上并与研磨盘(2)底面相连的驱动机构(3)、设置在机架(1)上的安装架(4)、设置在安装架(4)上并位于研磨盘(2)上方的抛光头(5)、设置在抛光头(5)朝向研磨盘(2)的端部上的陶瓷盘(6)，其特征是：所述安装架(4)上还设置有第一气缸(7)，且第一气缸(7)的活塞杆朝向研磨盘(2)一侧，所述第一气缸(7)活塞杆的端部上设置有连接座(8)，所述连接座(8)上设置有与陶瓷盘(6)对应的抵接片(9)，抵接片(9)上至少设置有两个抵触点(10)，还包括圆环(11)，且当圆环(11)与一个抵接片(9)上所有的抵触点(10)相抵时，圆环(11)恰好位于陶瓷盘(6)正下方。

【技术特征摘要】
1.一种平面研磨机，包括机架(1)、转动连接在机架(1)上的研磨盘(2)、设置在机架(1)上并与研磨盘(2)底面相连的驱动机构(3)、设置在机架(1)上的安装架(4)、设置在安装架(4)上并位于研磨盘(2)上方的抛光头(5)、设置在抛光头(5)朝向研磨盘(2)的端部上的陶瓷盘(6)，其特征是：所述安装架(4)上还设置有第一气缸(7)，且第一气缸(7)的活塞杆朝向研磨盘(2)一侧，所述第一气缸(7)活塞杆的端部上设置有连接座(8)，所述连接座(8)上设置有与陶瓷盘(6)对应的抵接片(9)，抵接片(9)上至少设置有两个抵触点(10)，还包括圆环(11)，且当圆环(11)与一个抵接片(9)上所有的抵触点(10)相抵时，圆环(11)恰好位于陶瓷盘(6)正下方。2.根据权利要求1所述的平面研磨机，其特征是：所述抵接片(9)上顶面上设置有第一滑移孔(12)，且第一滑移孔(12)的长度方向垂直与抵触点(10)之间的连线方向，所述第一滑移孔(12)内部设置有与连接座(8)螺纹连接的第一螺钉(13)。3.根据权利要求1所述的平面研磨机，其特征是：所述机架(1)顶面上设置有隔离罩(14)，所述研磨盘(2)位于隔离罩(14)内部。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：阮金宝，周金华，
申请(专利权)人：温岭市天湖机械密封件厂，
类型：新型
国别省市：浙江,33