结晶态功能性铬镀层制造技术

一种具有晶格参数为２．８８９５±０．００２５的结晶态铬镀层和包括结晶态铬镀层的物品。包括结晶态铬镀层的物品，其中结晶态铬镀层具有｛１１１｝择优取向。一种在底物上电镀结晶态铬镀层的方法，包括：提供一种含有三价铬和二价硫源，和几乎完全不含六价铬的电镀浴；将底物沉浸在电镀浴中；和使用电流将结晶态铬镀层镀到底物上，其中铬镀层为结晶状沉积态。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种结晶态铬镀层具有２．８８９５±０．００２５＊的晶格参数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：克雷格V毕晓普，阿格尼丝鲁索，佐尔坦马特，
申请(专利权)人：爱托特奇德国股份有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]